TW202033735A - 支持兩步驟磷光體沈積以形成led矩陣陣列之光阻圖案化製程 - Google Patents
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Abstract
本發明描述一種用於聚矽氧結構之低溫固化的方法,該方法包含在一基板上提供圖案化光阻結構的步驟。該等光阻結構界定可至少部分填充有一縮合固化聚矽氧系統之至少一個開放區。使用氣相催化劑沈積來加速縮合固化聚矽氧之固化,且移除該光阻結構以留下獨立或分層聚矽氧結構。藉由該方法實現可用一反射金屬或其他材料塗覆之含有磷光體之聚矽氧結構。
Description
本發明大體上係關於一種圖案化製程,其允許聚矽氧或矽氧烷之固化而未實質上損害圖案化光阻釋放性質。用於一LED矩陣陣列之反射壁磷光體像素陣列之製造係使用所揭示之圖案化製程實現之一項實施例。
使用習知正性光阻對聚矽氧進行低溫圖案化可為困難的。固化聚矽氧所需之溫度通常高於確保清潔移除光阻所需之溫度,從而防止光阻圖案化聚矽氧之普遍使用。需要允許聚矽氧結合光阻圖案化結構之低溫固化的製程。
此限制可防止光阻圖案化用於半導體發光裝置(LED)。LED陣列可經製造以包含由一LED陣列與嵌入聚矽氧中之一疊對磷光體陣列之一組合形成之像素。然而,由於固化含有磷光體之聚矽氧所需之溫度通常高於確保清潔移除光阻所需之溫度,因此需要用於使用光阻結構圖案化聚矽氧之經改良製程。
作為另一實例,為改良LED效率及操作,來自LED陣列之光可經配置以從LED陣列之各部件之一頂部穿過分別匹配之磷光體/聚矽氧陣列,其中某一百分比經波長轉換以提供一所需光譜輸出。通常,某一比例之光藉由反射或直接透射出磷光體層之側而損失。為最小化此損失及與鄰近像素之串擾,可使用反射材料來塗覆磷光體/聚矽氧陣列之各像素之側壁。然而,當LED在一陣列中彼此緊鄰地定位時,難以均勻地塗覆側壁。需要允許使用形成此等反射塗覆磷光體/聚矽氧結構之經改良製程及結構。
根據本發明之實施例,描述一種用於聚矽氧結構之低溫固化的方法,該方法包含在一基板上提供圖案化光阻結構的步驟。光阻結構界定可至少部分填充有一縮合固化聚矽氧系統之至少一個開放區。使用氣相催化來固化縮合固化聚矽氧系統,移除光阻結構以留下獨立或分層聚矽氧結構。
在一些實施例中,縮合固化聚矽氧系統進一步包含有機矽氧烷嵌段共聚物。
在一些實施例中,氣相催化進一步包含超強鹼催化劑之使用,其可包含但不限於1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一碳-7-烯(DBU)之使用。
在另一實施例中,揭示一種用於界定適於接收來自LED元件之光之含有磷光體之聚矽氧結構的方法。該方法包含在一基板上提供圖案化光阻結構的步驟,其中該等光阻結構界定至少一個開放區。至少一個開放區至少部分填充有一含有磷光體粒子之縮合固化聚矽氧系統。接著,可在氣相催化劑沈積之後或與氣相催化劑沈積同時固化縮合固化聚矽氧系統。移除光阻結構,且用一反射材料塗覆矽結合之磷光體粒子。藉由結合磷光體粒子之結構界定之腔可填充有額外結合磷光體粒子,從而留下反射材料之垂直壁。
在一些實施例中,可藉由用一反射材料塗覆之結合磷光體粒子界定棋盤結構。可從棋盤結構之一頂部或一底部移除反射材料以留下僅定位於棋盤結構之間之反射材料之垂直配置壁。
相關申請案之交叉參考
本申請案主張2019年12月16日申請之美國專利申請案16/715,930、2019年2月11日申請之歐洲專利申請案19156331.1及2018年12月21日申請之美國臨時專利申請案62/783,970之優先權利,該等案之各者之全文以引用之方式併入本文中。
應參考圖式閱讀以下詳細描述,其中相同元件符號貫穿不同圖指代相同元件。不一定按比例繪製之圖式描繪選擇性實施例且不意欲限制本發明之範疇。詳細描述藉由實例且非藉由限制方式繪示本發明之原理。
圖1展示包括安置於一基板104上之一半導體二極體結構102 (本文中一起視為一「LED」)及安置於LED上之一磷光體層106之一個別pcLED 100之一實例。半導體二極體結構102通常包括安置於n型層與p型層之間的一作用區。跨二極體結構施加一適合正向偏壓導致從作用區發射光。藉由作用區之組合物及結構判定發射光之波長。
LED可為舉例而言發射藍光、紫光或紫外光的一III族氮化物LED。亦可使用由任何其他適合材料系統形成且發射任何其他適合波長之光的LED。其他適合材料系統可包含舉例而言III族磷化物材料、III族砷化物材料、及II-VI族材料。
取決於來自pcLED之所要光學輸出,可使用任何適合磷光體材料。
圖2A至圖2B分別展示包含安置於一基板202上之磷光體像素106之pcLED 100之一陣列200之橫截面視圖及俯視圖。此一陣列可包含以任何適合方式配置之任何適合數目個pcLED。在所繪示之實例中,陣列被描繪為單片形成於一共用基板上,但替代地一pcLED陣列可由單獨個別pcLED形成。基板202可視需要包括用於驅動LED的CMOS電路,且可由任何適合材料形成。
如圖3A至圖3B中展示,可在包括一電力及控制模組302、一感測器模組304及一LED附接區306的一電子板300上安裝一pcLED陣列200。電力及控制模組302可接收來自外部源之電力及控制信號及來自感測器模組304之信號,電力及控制模組302基於該等信號控制LED之操作。感測器模組304可從任何適合感測器(舉例而言,從溫度或光感測器)接收信號。替代地,可在與電力及控制模組以及感測器模組分離之一板(未展示)上安裝pcLED陣列200。
個別pcLED可視需要併入定位成鄰近磷光體層或安置於磷光體層上之一透鏡或其他光學元件或與其等組合配置。圖中未展示之此一光學元件可被稱為一「初級光學元件」。另外,如圖4A至圖4B中展示,一pcLED陣列200 (舉例而言,安裝於一電子板300上)可與諸如波導、透鏡或該兩者之次級光學元件組合配置以用於一預期應用中。在圖4A中,由pcLED 100發射之光由波導402收集且被引導至投射透鏡404。舉例而言,投射透鏡404可為一菲涅耳(Fresnel)透鏡。此配置可適合用於舉例而言汽車前燈中。在圖4B中,在未使用中介波導之情況下由投射透鏡404直接收集由pcLED 100發射之光。此配置在pcLED可彼此足夠接近地隔開時可尤其適合,且亦可用於汽車前燈以及相機閃光燈應用中。舉例而言,一微型LED顯示器應用可使用類似於圖4A至圖4B中描繪之光學配置的光學配置。通常,光學元件之任何適合配置可取決於所要應用而與本文中描述之pcLED組合使用。
對於pcLED陣列之許多使用,期望分隔從陣列中之個別pcLED發射之光。即,有利的是,能夠將陣列中之一個別pcLED操作為一光源而陣列中之鄰近pcLED保持暗。此允許對顯示器或照明之更佳控制。
在許多應用中將陣列中之pcLED緊密地放置在一起亦為有利的。舉例而言,微型LED中之一較佳組態係在個別LED之間具有最小間距。緊密地隔開用作一相機閃光燈光源或用於一汽車前燈中之一陣列中之pcLED可簡化對任何次級光學器件之要求且改良由陣列提供之照明。
然而,若一陣列中之pcLED緊密地放置在一起,則可發生鄰近pcLED之間之光學串擾。即,由一pcLED發射之光可散射至一鄰近pcLED中或以其他方式耦合至鄰近pcLED中且看似源自該另一pcLED,從而防止所要光分隔。
一陣列中之像素之間之光學串擾之可能性抑制在一LED陣列頂部上使用一單一共用磷光體層。代替地,需要結合磷光體像素上之反射側壁在各發光元件上提供磷光體之一離散像素之圖案化磷光體沈積。
若陣列中之LED之間之間距係小的(例如,小於10微米或20微米),則歸因於待填充或塗覆通道之高縱橫比,難以運用濕式化學或物理沈積方法在磷光體像素上形成反射側壁。用作LED之一側塗層之最常見散射層包括嵌入聚矽氧中之TiO2
散射粒子。另一選項係一反射金屬層,諸如(例如)鋁或銀。又另一選項係由高及低折射率材料之交替層之一堆疊形成之一多層分佈式布拉格反射器(DBR)結構,此可取決於設計而提供極高反射比。為確保磷光體像素之側壁上之此等反射層或結構之均勻塗覆,側壁應為可接達。若鄰近磷光體像素之間之間隙之縱橫比係高的,則可預期反射塗層厚度之不均勻性,從而導致非均勻非最佳反射性質。
本說明書揭示可用於產生具有薄側壁反射器之緊密間隔磷光體像素之陣列的方法。如上文概述,此等方法採用結合包括磷光體之縮合固化聚矽氧系統之氣相催化之圖案化光阻結構。
固化聚矽氧或矽氧烷所需之溫度通常高於確保清潔移除光阻所需之溫度,從而防止光阻圖案化聚矽氧之普遍使用。舉例而言,若一光阻經受攝氏120度之一典型聚矽氧固化溫度,則在光阻中發生足夠交聯以防止洗除。替代地,若使用90攝氏度之一最大溫度來確保光阻之隨後洗除,則聚矽氧未充分固化且在沖洗步驟期間可發生聚矽氧結構之部分移除或邊緣腐蝕。
如圖5中所見,描述用於使用習知光阻圖案化聚矽氧之一新穎低溫製程500。製程500允許聚矽氧結合光阻圖案化結構之低溫固化且包含將一光阻施用至一基板且圖案化/移除光阻以形成所要結構的一第一步驟510。在一第二步驟520中,在光阻移除之後界定之腔或區至少部分填充有一縮合固化聚矽氧系統。在一第三步驟中,從氣相添加一催化劑530。此後接著一聚矽氧縮合固化步驟540。接著,與一聚矽氧縮合固化540同時或在固化之後,在一第五步驟550中移除光阻。
可用於此描述之低溫製程之正性光阻化合物可包含光敏材料,該等光敏材料被光降解使得一顯影劑將溶解掉曝露於光之經沈積區。實際上,此留下放置一遮罩之一塗層(即,膜保留在一照明光阻劑之先前暗部分上)。正性光阻劑通常需要在低溫下使用,此係因為其等在高溫下易於永久交聯(亦稱為「硬烘烤」),致使光阻劑隨後無法藉由汽提浴(通常一溫和溶劑系統)移除。
縮合固化聚矽氧系統可包含可固化聚矽氧烷組合物,其可提供可接受固化速率而無顯著處理及儲存困難。
在某些實施例中,縮合固化聚矽氧系統可包含選用有機、無機、或有機/無機黏結劑及填充材料。在一項實施例中,光活性磷光體、染料或奈米粒子可藉由聚矽氧結合在一起。在其他實施例中,聚矽氧可形成光學結構,包含透鏡、光導或折射元件。
用於縮合固化聚矽氧系統催化劑之催化劑可經選擇以最小化需要移除之物種之產生,及/或不應需要高溫活化以實現相對較低溫度下之固化及/或熱敏基板之使用。組合物可採用相對無毒且在溶液中相對穩定但在乾燥時相對快速固化的催化劑。催化劑可在相對較低濃度下有效,及/或在相對較低(或無)水分條件下有效。可使用可用作氣相之催化劑。在一項實施例中,可使用鹼或鹼性催化劑進行縮合固化聚矽氧系統之氣相固化。在一實施例中,可使用諸如Swier等人在美國專利9,688,035中描述之超強鹼催化劑。在一些實施例中,使用一超強鹼催化劑製造之聚矽氧固體組合物展示優於無超強鹼催化劑之類似組合物的增強固化速率、經改良機械強度、及經改良熱穩定性。
本文中使用之術語「超強鹼」係指具有一極高鹼度之化合物,諸如二異丙基氨基鋰。術語「超強鹼」亦涵蓋源自導致擁有固有新性質之新鹼物種之兩種(或兩種以上)鹼之混合的鹼。術語「超強鹼」不一定意謂在熱力學及/或動力學上比另一者更強的鹼。代替地,在一些實施例中,其意謂藉由組合數個不同鹼之特性而產生一鹼試劑。術語「超強鹼」亦涵蓋相對於1,8-雙-(二甲氨基)-萘具有一較高絕對質子親和力(APA = 245.3千卡/莫耳)及固有氣相鹼度(GB = 239千卡/莫耳)的任何物種。
超強鹼之非限制實例包含有機超強鹼、有機金屬超強鹼、及無機超強鹼。有機超強鹼包含但不限於含氮化合物。在一些實施例中,含氮化合物亦具有低親核性及相對溫和使用條件。含氮化合物之非限制實例包含磷腈、脒、胍及多環多胺。有機超強鹼亦包含其中一反應性金屬已被雜原子上之氫交換的化合物,諸如氧(不穩定烷氧化物)或氮(金屬醯胺,諸如二異丙基氨基鋰)。在一些實施例中,超強鹼催化劑係脒化合物。在一些實施例中,術語「超強鹼」係指具有至少兩個氮原子及如在水中量測之約0.5至約11之pKb的有機超強鹼。
在本發明之某些實施例中,超強鹼催化劑係一有機超強鹼,諸如如上文描述或此項技術中已知之有機超強鹼之任一者。
在一進一步實施例中,超強鹼催化劑包括:
1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一碳-7-烯(DBU),(CAS #6674-22-2)
超強鹼催化劑之量可變化且不限制。通常,透過氣相添加之量係一催化有效量,其可取決於選擇之超強鹼及矽氧烷聚合物樹脂之蒸汽滲透性質而變化。在固體組合物中通常以百萬分之一(ppm)為單位量測超強鹼催化劑之量。特定言之,關於共聚物固體計算催化劑位準。如基於固體組合物中存在之聚合物樹脂含量(以重量計),添加至可固化組合物之超強鹼催化劑之量的範圍可為0.1 ppm至1,000 ppm,替代地1 ppm至500 ppm,或替代地10 ppm至100 ppm。
可針對機械穩定性、低溫固化性質(例如,低於攝氏150至120度)及使用氣相催化劑催化之能力選擇聚矽氧材料或矽氧烷。在一項實施例中,可使用有機矽氧烷嵌段共聚物。可使用含有D及T單元之有機聚矽氧烷,其中D單元主要鍵結在一起以形成具有10至400個D單元之線性嵌段且T單元主要彼此鍵結以形成支鏈聚合物鏈(其等被稱為「非線性嵌段」)。
諸如先前描述之圖案化氣相催化聚矽氧或矽氧烷材料可用於LED及微型LED封裝中。LED封裝可含有使用氣相催化聚矽氧結合在一起之磷光體材料。在一些實施例中,聚矽氧結合磷光體材料可形成可用金屬、光反射材料或鏡(例如,一分佈式布拉格反射器-「DBR鏡」)塗覆之側壁。
使用氣相催化聚矽氧結合在一起之磷光體可經定位於由藍寶石或碳化矽形成之一基板上,該基板能夠支撐一磊晶生長或沈積之半導體n層。一半導體p層可循序地生長或沈積於n層上,從而在層之間之接面處形成一作用區。能夠形成高亮度發光裝置之半導體材料可包含但不限於III-V族半導體,尤其鎵、鋁、銦及氮之二元、三元及四元合金(亦稱為III族氮化物材料)。
磷光體可包含能夠產生白光或其他色彩之單色光的一或多個波長轉換材料。可藉由磷光體之波長轉換材料轉換由LED發射之全部光或僅光之一部分。未轉換光可為最終光譜之部分,而其無需如此。常見裝置之實例包含與一發黃光磷光體組合之一發藍光LED片段、與發綠光及發紅光磷光體組合之一發藍光LED片段、與發藍光及發黃光磷光體組合之一UV發射LED片段、及與發藍光、發綠光及發紅光磷光體組合之一UV發射LED片段。用聚矽氧結合在一起之磷光體可經模製、施配、網版印刷、噴射或層壓。
在一項實施例中,光反射材料可為一金屬化層。在其他實施例中,可使用一介電鏡或DBR。在一些實施例中,光反射材料可包含一黏結劑(諸如聚矽氧)之一薄層及光反射粒子。光反射材料亦可包含有機、無機、或有機/無機黏結劑及填充材料。舉例而言,有機/無機黏結劑及填料可為舉例而言具有嵌入式反射氧化鈦(TiO2
)、SiO2
或其他反射/散射粒子之聚矽氧。無機黏結劑可包含溶膠-凝膠(例如,TEOS或MTMS之一溶膠-凝膠)或液態玻璃(例如,矽酸鈉或矽酸鉀) (亦稱為水玻璃)。在一些實施例中,黏結劑可包含調整物理性質的填料。填料可包含無機奈米粒子、矽石、玻璃粒子或纖維、或能夠改良光學或熱效能之其他材料。可藉由包含蒸發沈積(用於金屬)、原子層沈積(用於DBR鏡)、或模製、施配、網版印刷、噴射或層壓(用於一黏結劑中之反射粒子)之各種製程將光反射材料施用至側壁。
在又其他實施例中,初級或次級光學器件可經附接或定位在LED封裝中之聚矽氧結合磷光體附近。光學器件可包含凹透鏡或凸透鏡、小透鏡陣列、漸變折射率透鏡、反射器、散射元件、光束均質器、漫射體、或其他光聚焦或模糊光學器件。保護層、透明層、熱層或其他封裝結構可視需要用於特定應用。
如圖6A至圖6G中所見,描述一種用於使用正性光阻及含有粒子磷光體之氣相催化聚矽氧來形成一圖案化磷光體結構的製程。如圖6A中所見,一結構600A包含支撐一可移除正性光阻620之一基板610及含有選用磷光體、染料、光活化奈米粒子、填料或其他材料之一聚矽氧結構630。
圖6B繪示在移除正性光阻之後界定之結構600B,留下獨立聚矽氧630支柱或形式,其中腔622經界定鄰近於聚矽氧結構630。腔可包含但不限於孔、通道、規則圖案(諸如一矩形佈局)、棋盤佈局、彎曲或蛇形佈局、或六邊形佈局。
圖6C繪示在將一反射層640施用於聚矽氧結構頂部、側壁及基板610上方之後的一結構600C。反射層可為一金屬、一介電鏡、或一黏結劑中所含有之反射粒子。
圖6D繪示在用聚矽氧及選用磷光體、染料、光活化奈米粒子、填料或其他材料填充腔622之後的一結構620D。聚矽氧可與圖6A至圖6C中使用之聚矽氧相同,或可使用其他類型之聚矽氧系統及磷光體。舉例而言,無需蒸汽催化之一高溫聚矽氧系統可搭配具有不同發射性質之一組磷光體使用。
圖6E繪示在藉由研磨、拋光或蝕刻移除頂部反射層之後的一結構600E。
圖6F繪示在翻轉並附接至包含主動光發射器之一LED基板之後的一結構600F。LED基板可為具有微米級特徵及/或毫米級像素之一微型LED。
圖6G繪示在藉由習知釋放技術及/或研磨、拋光或蝕刻移除基板610及頂部反射層之後的一結構600G。此在聚矽氧結構630之間之側壁上留下垂直反射塗層640,從而提供磷光體像素結構之間之光學隔離。
圖7繪示對應於藉由圖6C繪示之處理步驟之一中間結構700。包含一棋盤圖案,其中形成並固化磷光體陣列的一半,且形成反射層以覆蓋含有粒子磷光體「島狀物」 730之蒸汽催化聚矽氧。島狀物730之間之腔、通道或凹槽(間隙) 722將在下一步驟中用額外磷光體填充、固化,且在將磷光體結構附接至一LED陣列及任何額外光學器件之前移除一頂部及底部表面上之任何施用反射材料。
諸如本文中揭示之發光陣列或微型LED陣列可支持受益於光分佈之細粒度強度、空間及時間控制之廣範圍之應用。此可包含但不限於來自區塊或個別LED之發射光之精確空間圖案化。取決於應用,發射光可為光譜上相異、隨時間適應、及/或對環境敏感。在一些實施例中,發光陣列可以各種強度、空間或時間型樣提供預程式化光分佈。發射光可至少部分基於所接收之感測器資料且可用於光學無線通信。如上所述,相關聯光學器件可在單或多LED位準相異。一例示性發光陣列可包含具有具一相關聯共同光學器件之高強度LED之一共同控制中心區塊之一裝置,而邊緣定位之LED可具有個別光學器件。藉由發光LED陣列支持之常見應用包含視訊照明、汽車前燈、建築及區域照明、街道照明、及資訊顯示器。
可使用可程式化發光陣列來選擇性且適應性地照明建築物或區域以改良視覺顯示或降低照明成本。另外,可使用發光陣列來投射用於裝飾性運動或視訊效應之媒體立面。結合追蹤感測器及/或相機,行人周圍之區域之選擇性照明可係可能的。可使用光譜相異LED來調整照明之色溫,以及支持波長特定園藝照明。
街道照明係一重要應用,其可大大受益於可程式化發光陣列之使用。可使用一單一類型之發光陣列來模仿各種街燈類型,從而允許舉例而言藉由選定LED之適當啟動或撤銷啟動而在一I型線性街燈與一IV型半圓形街燈之間切換。另外,可藉由根據環境條件或使用時間調整光束強度或分佈而降低街道照明成本。舉例而言,當不存在行人時可減小光強度及分佈面積。若發光陣列之LED在光譜上相異,則可根據各自日光、暮光或夜晚條件來調整光之色溫。
可程式化發光LED亦非常適合支持需要直接或投射顯示之應用。舉例而言,需要校準或警告、緊急情況或資訊標誌之汽車前燈可全部使用發光陣列進行顯示或投射。此允許舉例而言修改從一汽車前燈輸出之光之方向性。若一發光陣列由大量LED構成或包含一適合動態光遮罩,則可以使用者導引放置呈現文本或數字資訊。亦可提供方向箭頭或類似指示符。
熟習此項技術者在受益於前述描述及相關聯圖式中呈現之教示之情況下,將想到本發明之許多修改及其他實施例。因此,應瞭解,本發明不限於揭示之特定實施例,且修改及實施例意欲包含於隨附發明申請專利範圍之範疇內。亦應瞭解,可在缺少本文中未明確揭示之一元件/步驟之情況下實踐本發明之其他實施例。
100:pcLED
102:半導體二極體結構
104:基板
106:磷光體層/磷光體像素
200:pcLED陣列
202:基板
300:電子板
302:電力及控制模組
304:感測器模組
306:半導體發光裝置(LED)附接區
402:波導
404:投射透鏡
500:製程
510:第一步驟
520:第二步驟
530:步驟
540:聚矽氧縮合固化步驟
550:第五步驟
600A:結構
600B:結構
600C:結構
600E:結構
600F:結構
600G:結構
610:基板
620:可移除正性光阻
622:腔體
630:聚矽氧結構
640:反射層
700:中間結構
722:腔體、通道或凹槽(間隙)
730:島狀物
參考以下圖描述本發明之非限制及非詳盡實施例,其中相同元件符號貫穿各種圖指代相同部分,除非另有指定。
圖1展示一例示性pcLED之一示意性橫截面視圖。
圖2A及圖2B分別展示一pcLED陣列之橫截面及俯視示意圖。
圖3A展示可在其上安裝一pcLED陣列之一電子板之一示意性俯視圖,且圖3B類似地展示安裝於圖3A之電子板上之一pcLED陣列。
圖4A展示相對於波導及一投射透鏡配置之一pcLED陣列之一示意性橫截面視圖。圖4B展示類似於圖4A之配置的一配置,而無波導。
圖5係繪示用於使用光阻結構圖案化聚矽氧之一例示性製程之一流程圖。
圖6A、圖6B、圖6C、圖6D、圖6E、圖6F及圖6G繪示製造用於LED封裝之聚矽氧及磷光體結構之一例示性方法中之步驟。
圖7繪示在填充有聚矽氧及磷光體材料之前之一中間棋盤結構。
500:製程
510:第一步驟
520:第二步驟
530:步驟
540:聚矽氧縮合固化步驟
550:第五步驟
Claims (17)
- 一種製造一磷光體像素陣列之方法,該方法包括: 在一第一磷光體沈積步驟中,沈積一光阻層且圖案化該光阻層以形成藉由間隙彼此分離之一光阻塊陣列,該等光阻塊及該等間隙佔用一矩陣陣列中之交替位置且形成一棋盤圖案; 在該等間隙中沈積一第一磷光體組合物,該第一磷光體組合物包括分散於一縮合固化聚矽氧系統中的磷光體粒子; 在沈積該磷光體組合物之後,使用一或多個氣相催化劑來固化該縮合固化聚矽氧系統以形成佔用該矩陣陣列中之交替位置之第一複數個磷光體像素; 在固化該縮合固化聚矽氧系統之後,移除該等光阻塊; 在移除該等光阻塊之後,在該第一複數個磷光體像素之側壁上沈積反射結構; 在沈積該等反射結構之後,在一第二磷光體沈積步驟中,在先前由光阻塊佔用之該矩陣陣列中之位置處沈積一第二磷光體組合物;及 固化在該第二磷光體沈積步驟中沈積之該磷光體組合物以形成佔用該矩陣陣列中之交替位置之第二複數個磷光體像素,其中該矩陣陣列中之鄰近磷光體像素與該等反射結構接觸且藉由該等反射結構之一者隔開。
- 如請求項1之方法,其中該縮合固化聚矽氧系統包括有機矽氧烷嵌段共聚物。
- 如請求項1之方法,其中該一或多個氣相催化劑包括超強鹼催化劑。
- 如請求項1之方法,其中該一或多個氣相催化劑包括1,8-二氮雜雙環[5.4.0]十一碳-7-烯(DBU)。
- 如請求項1之方法,其中該第二磷光體組合物與該第一磷光體組合物相同。
- 如請求項1之方法,其中該第二磷光體組合物不同於該第一磷光體組合物。
- 如請求項1之方法,其中該第一磷光體組合物在激發時發射一第一色彩之光,該第二磷光體組合物在激發時發射一第二色彩之光,且該第二色彩不同於該第一色彩。
- 如請求項1之方法,其中: 該第二磷光體組合物包括分散於一縮合固化聚矽氧系統中的磷光體粒子;且 固化在該第二磷光體沈積步驟中沈積之該磷光體組合物包括使用一或多個氣相催化劑。
- 如請求項1之方法,其中鄰近磷光體像素藉由該等反射結構隔開小於或等於約10微米。
- 如請求項1之方法,其中鄰近磷光體像素藉由該等反射結構隔開小於或等於約3微米。
- 如請求項1之方法,其中該等反射結構包括分散於一矩陣中的散射粒子。
- 如請求項1之方法,其中該等反射結構包括反射金屬層。
- 如請求項1之方法,其中該等反射結構包括分佈式布拉格反射器結構。
- 一種形成一磷光體轉換之LED陣列的方法,其包括將藉由如請求項1之方法製造之該磷光體像素陣列附接至一對應發光二極體陣列。
- 一種磷光體像素陣列,其包括: 複數個磷光體像素,其等彼此隔開,各磷光體像素包括面向該陣列中之鄰近像素的側壁;及 複數個反射結構,其等安置於鄰近磷光體像素之該等側壁之間; 其中鄰近磷光體像素之間之間距等於安置於其等之間之該反射結構之厚度,該厚度小於或等於約3微米。
- 如請求項15之磷光體像素之矩陣陣列,其中該等反射結構包括分佈式布拉格反射器結構。
- 如請求項15之磷光體像素之矩陣陣列,其中該等反射結構包括一或多個反射金屬層。
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