TW202028721A

TW202028721A - 液滴特性量測

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Publication number: TW202028721A
Application number: TW108141520A
Authority: TW
Inventors: 伊斯沃錢德拉維迪亞沙加拉克拉答; 提摩太華特迪恩; 子會曾
Original assignee: 美商凱特伊夫公司
Priority date: 2018-12-21
Filing date: 2019-11-15
Publication date: 2020-08-01
Also published as: KR20210106486A; EP3899495A4; US11318738B2; US11697284B2; WO2020132271A1; US20220219448A1; US20230294398A1; US20200198325A1; CN113383226A; EP3899495A1

Abstract

本文中描述一種具有一小液滴量測設備之噴墨列印系統。該小液滴量測設備具有：一光源，其具有一準直光學系統；一成像裝置，其沿著該準直光學系統之一光學路徑安置；以及一小液滴照射區，其在該準直光學系統之該光學路徑中，該小液滴照射區具有一變化的小液滴照射位置，其中該光源、該成像裝置或兩者可調整以將該成像裝置之一焦平面置放於該小液滴照射位置處。該小液滴量測設備經結構化以在該小液滴照射區內容納該列印系統之一分配器之至少一部分。

Description

液滴特性量測

本發明之具體實例大體而言係關於噴墨列表機。具體而言，本發明公開用於在沈積過程期間監測及控制列印材料的方法及設備。

噴墨列印既在辦公室及家庭列表機中且又在用於製作顯示器、列印大規模書寫材料、向諸如PCB之製品添加材料以及構造諸如組織之生物製品的工業規模列表機中皆較常見。大多數商業及工業噴墨列表機，以及一些消費類列表機，使用壓電分配器將列印材料施加至基板上。壓電材料經配置毗鄰於列印材料貯存器。向壓電材料施加電壓致使其以一方式變形，使得向列印材料貯存器施加壓縮力，該列印材料貯存器繼而經構造以在施加壓縮力時會噴射列印材料。

一些噴墨列印應用依賴於在列印噴嘴之定位、所噴射之列印材料之數量與類型以及小液滴噴射之速度與軌跡等方面之極高精確度。當噴嘴無法按要求以正確體積、速度及軌跡噴射列印材料時，將導致列印故障，且必須花費時間及金錢來糾正故障。光學系統通常用於監測小液滴大小及自列印噴嘴至基板之行程。此類系統典型地依賴於照射列印材料之小液滴以判定小液滴特性。小液滴典型地非常小，例如直徑為10 µm至15 µm，且所拍攝影像之清晰聚焦有助於精確地確定小液滴特性。此外，最有用的為在小液滴接近於噴射噴嘴時拍攝影像。此等注意事項可能約束照射設備之幾何形狀。在此項技術中需要撓性小液滴照射硬件。

本文中所描述之具體實例提供一種小液滴量測設備，該小液滴量測設備包含一光源，其具有一準直光學系統；一成像裝置，其沿著該準直光學系統之一光學路徑安置；以及一小液滴照射區，其在該準直光學系統之該光學路徑中，該小液滴照射區具有一變化的小液滴照射位置，其中該光源、該成像裝置或兩者可調整以將該成像裝置之一焦平面置放於該小液滴照射位置處。

本文中所描述之其他具體實例提供一種列印系統，其包含一基板支撐件；及一列印總成，其以操作方式耦接至該基板支撐件，該列印總成包含一列印支撐件；及一分配器總成，其以可移動方式耦接至該列印支撐件；及一小液滴量測設備，其耦接至該列印支撐件，該小液滴量測設備包含一殼體；一光源，其安置在該殼體中，該光源包含一準直光學系統；一小液滴照射區，其具有一變化的小液滴照度位置；及一成像裝置，其安置在該殼體中以自該小液滴照射區接收輻射，該光源、該小液滴照射區及該成像裝置界定可調整至該小液滴照射位置之一焦平面。

本文中所描述的其他具體實例提供一種方法，該方法包含：將一噴墨列表機之一分配器定位在一小液滴量測設備之一照射區附近；將來自一光源之一準直光束發射穿過該照射區；將該分配器之一噴嘴與該準直光束之一光學路徑對準；將來自噴嘴至一小液滴發射至該照射區中；使用該準直光束照射一照射位置處之該小液滴以形成該小液滴之一輻射訊跡；在一成像裝置處接收該輻射訊跡；及將該成像裝置之一焦平面調整至該照射位置。

本文中描述一種列印系統，該列印系統具有小液滴量測設備，該小液滴量測設備具有撓性幾何形狀，用於針對各種列印噴射器設計在不同的焦平面處拍攝小液滴。

圖1為根據一個具體實例之列印系統100的等角俯視圖。列印系統100具有安裝在基座104上之基板支撐件102。基座104包含一或多個固體塊狀物件，其為列印系統100提供穩定基礎。在一些狀況下，基座104為一或多個花崗岩塊。使用固體塊狀物件作為基座會使列印系統100之非所要振動或其他移動最小化。

基板支撐件102包括工作部分106、第一台架部分108及第二台架部分110。工作部分106安置在第一台架部分108與第二台架部分110之間。工作部分106直接支撐在基座104上，而台架部分108及110中之每一者由附接至基座104且自基座104橫向延伸之基座延伸部112支撐。基座延伸部112可以由任何結構堅固的材料製成，諸如鋼。基座104之穩定性使基板及/或其他列表機組件在將材料分配至基板上之位置處之不受控制的運動最小化。

基板支撐件102，尤其是工作部分106，為將基板支撐在列印系統100中之列印位置中之工作台。基板支撐件102具有支撐表面103，該支撐表面103提供低摩擦或無摩擦之支撐，以允許用於列印之基板的精確移動及定位。工作台為矩形的，在第一方向114上具有長尺寸，且在垂直於第一方向114之第二方向116上具有短尺寸。在列印期間，基板在第一方向114上移動。短尺寸類似於基板在第二方向116上之最大尺寸，該第二方向為交叉掃描方向。長尺寸可高達約10 m，而短尺寸典型地為2 m至3 m。第三方向118既垂直於第一方向114又垂直於第二方向116。

列印系統100具有與工作部分106並置之列印總成120。列印總成120包括分配器支撐件122及分配器總成124。分配器支撐件122包含兩個支架126，在工作部分106之任一側上各一個且沿著交叉掃描方向對準。支架126自基座104升起，且可以與基座104附接在一起或與其整體形成。支架126支撐軌道117，該軌道在第二方向116上橫跨工作部分106自一個支架126延伸至另一支架126。可以在工作部分106之每一側上使用多個支架來支撐軌道117，且可以使用多個軌道117來支撐橫跨工作部分106進行掃描之裝置，諸如成像裝置及乾燥裝置。

分配器總成124藉由托架128連接到導軌117，托架128包括致動器，該致動器使托架128沿著導軌117移動，以將分配器總成124沿第二方向116定位在所要位置處。在列印工作期間，基板藉由分配器總成124在第一方向114（有時被稱為掃描方向）上移動，而分配器總成124在第二方向116（有時被稱為交叉掃描方向）上藉由以下操作進行定位：托架128將材料沈積在基板上之所要位置中。分配器殼體130耦接至托架128。一或多個分配器（未示出）可以安置在分配器殼體130中，以朝向工作部分106分配列印材料。當基板藉由分配器總成124移動時，分配器朝向基板分配列印材料。每一分配器典型地在分配器之面向工作部分106的噴射表面處具有複數個噴射噴嘴（未示出）。

列印工作可以包括以極其精確的方式將列印材料之小液滴沈積在基板上。尺寸為10 µm至15 µm之小液滴沈積在基板上之目標位置處。目標位置可能具有15 pm至20 pm之尺寸。藉由以一定時間、速度及軌跡自噴射噴嘴朝向小液滴沈積位置噴射具有所需尺寸之小液滴來沈積小液滴，該小液滴沈積位置為超過該基板支撐件之預定位置，其中在小液滴到達小液滴沈積位置時將定位基板之目標位置。判定小液滴之大小、噴射時間、速度及軌跡，以在基板之移動將目標位置帶至小液滴沈積位置時將小液滴置放在該小液滴沈積位置處。此處理之極高精確度要求對噴射噴嘴之小液滴大小、噴射時間、速度及軌跡極佳控制。

為了實現對小液滴性質之此控制，量測噴射噴嘴之輸出。列印系統100包括經定位靠近支架126中之一者的小液滴量測設備132。小液滴量測設備132為光學系統，其偵測經特別組態電磁輻射與自分配器殼體130中之分配器噴射之小液滴的互動，以判定分配器之噴射特性-小液滴大小、速度及軌跡-至分配器之脈衝輸入以及列印材料之特性而變。小液滴量測設備132可以附接至支架126，或如此處所示出，可以被支撐在基座104上靠近支架126。小液滴量測設備132被支撐在基板支撐件102之工作部分106旁邊，以允許分配器總成124進入小液滴量測設備132。分配器總成124沿著軌道117移動至支架126或其附近，以與小液滴量測設備132接合。典型地，控制器基於儲存在控制器中或可由控制器存取之關於小液滴量測設備132之預定位置資料來控制分配器總成124之定位。若期望提高及降低小液滴量測設備132之能力，則在此處示出可選經致動平台134。當不使用時，此能力可將小液滴量測設備132自分配器殼體130或其他設備移開。經致動平台134亦可用於相對於分配器殼體130精確地定位小液滴量測設備132，以獲得記錄小液滴特性之最佳效果。

圖2A為根據一個具體實例之小液滴量測設備200的剖面圖。小液滴量測設備200可以用作列印系統100中之小液滴量測設備132。圖2A之剖面平面垂直於圖1之第一方向114。框架202將光源206、小液滴照射區208及成像裝置210保持光學接合。光源206為準直光源，其具有光源207及光學耦接至發光器之準直光學系統209。光源206朝向小液滴照射區208發射準直光。分配器殼體130及分配器216經示出安裝在分配器托盤218中在適當位置中以接合小液滴量測設備200。小液滴自分配器216之噴射表面217（其可為噴射板之表面）處之噴射噴嘴（未示出）朝向小液滴照射區208噴射並進入容器214中。

準直光由第一引導光學器件222及第二引導光學器件224引導穿過小液滴照射區208之小液滴量測區212，以與穿過小液滴照射區208之小液滴互動。可選對準光學器件220將準直的光與第一引導光學器件222對準。在此狀況下，第一引導光學器件222及第二引導光學器件224中之每一者皆為稜鏡，但其他光學裝置或組合可以用作引導光學器件。在此狀況下，對準光學器件220亦為稜鏡。引導光學器件允許光源207及成像裝置210具有不平行之光軸，從而減少了小液滴量測裝置200之佔用面積。引導光學器件沿著行進穿過小液滴照射區208之光學路徑光學地耦接光源207及成像裝置210。

在與小液滴互動之後，光被引導至成像裝置210。成像裝置210自與小液滴之互動拍攝光之影像，以記錄關於小液滴之資料。成像裝置210可以為相機、CCD陣列、光電二極體陣列或其他成像設備。成像裝置由支架226支撐在操作位置中。保持器226耦接至線性定位器228，線性定位器228又耦接至框架202內部之底座230。

圖2B為小液滴照射區208之特寫視圖，以說明小液滴量測設備200之操作。沿著準直光之光學路徑250定位光源206、小液滴照射區208及成像裝置210。在此狀況下，光學路徑250並非筆直的，以允許將光源206及成像裝置210容納在小佔用面積中。分配器216之噴射噴嘴沿著在小液滴照射位置處與光學路徑250相交之路徑噴射小液滴。此處，示出四個小液滴照射位置252A、252B、252C及252D，其對應於分配器216之噴射表面217中之四個噴射噴嘴。小液滴照射位置可以對應於在噴射表面217中之噴射噴嘴之位置。因此，若噴射表面217具有經配置以將小液滴噴射至光學路徑中之五個噴射噴嘴，則將存在五個小液滴照射位置。通常，小液滴照射位置將由自每一噴射噴嘴之行程路徑與光學路徑250的交點定義。在每一小液滴照射位置252A至D處，小液滴可以被準直光照射，從而導致沿著光學路徑250傳播至成像裝置210之照射訊跡。光經過準直至光斑大小之改變小於每米約1%。此處，光學路徑250大約為0.25米長。

為了成像小液滴照射並恢復關於小液滴大小、速度及軌跡之可用資料，成像裝置210沿著光學路徑250聚焦自小液滴照射區208接收之光。使光聚焦將成像裝置210之焦平面定位在小液滴照射位置252A、252B、252C或252D處，此取決於欲發射小液滴之位置。因此，小液滴量測裝置200具有可調整焦平面。因為成像裝置210之光學器件具有高解析度及/或光功率，所以成像裝置210之焦深或工作範圍較小。出於彼原因，成像裝置210可相對於框架202移動。在替代具體實例中，調整成像裝置之焦平面可以包括調整成像裝置之聚焦組件，諸如透鏡、反射鏡或稜鏡。

再次參考圖2A，線性定位器228被致動以延伸或縮回，使成像裝置210朝向或遠離照射區208移動。移動成像裝置210會改變光學路徑250之長度，以及成像裝置210之焦點限制，使得成像裝置210之工作範圍包括所關注之小液滴照射位置252A、252B、252C或252D。因此，若欲自與小液滴照射區252A對準之噴嘴噴射小液滴，則線性定位器228經致動以定位成像裝置210，使得成像裝置之工作範圍包括小液滴照射位置252A，且同樣具有位置252B、252C及252D。

稜鏡222及224定位在小液滴照射區208之任一側上，其中容器214位於其之間。因此，稜鏡222及224位於容器214之任一側處。稜鏡222及224在容器214之上部範圍上向上突出，以便將來自光源206之光沿著光學路徑250引導穿過小液滴照射區208。此處，稜鏡222及224為三角形的，每一者具有一個直角邊，所有三個面皆為矩形。稜鏡222及224經定向使得毗鄰於直角邊之面227面向小液滴照射區208。在此定向上，毗鄰於面227之邊緣229朝著分配器外殼130延伸，超過光學路徑250。稜鏡222及224的向上延伸部將光學路徑250定位在照射區中距容器214一定距離處，此允許分配器殼體130與光學路徑250一起定位靠近分配器殼體130之撓曲板260，使得小液滴量測設備200在小液滴之特性隨著小液滴行進穿過大氣而改變之前拍攝小液滴之影像。

撓曲板260具有複數個通道262。在此視圖中，通道262延伸至圖2B（及2A）之平面中。通道262通常位於分配器216周圍，且間隔開距離D，該距離D大致類似於兩個稜鏡222與224之間的距離E。具體而言，距離E為稜鏡222及224之頂部端之間的距離。通道262允許分配器殼體130恰當地定位以將稜鏡222及224之向上突出部與通道262對位，藉由提供額外空間來容納稜鏡222及224之向上突出部來更緊密地接近光學路徑250。通道262通常位於分配器216之間，使得藉由將稜鏡222及224之向上突出部定位在所要分配器216之任一側上之通道262中，可以將任何分配器216之一部分定位在稜鏡222與224之間。以此方式，撓曲板260可經定位儘可能接近於光學路徑250，以獲得最佳成像效果。

另外，光學路徑250經組態以使該光學路徑在小液滴照射區208中儘可能地接近於分配器216。因此，使光學路徑250儘可能地接近於面對橫跨小液滴照射區208之面227，以使得穿過稜鏡222及224之光學路徑靠近稜鏡之向上投影之頂部。此配置提供分配器216之噴射表面與光學路徑250之更緊密接合。

圖3為根據另一具體實例之小液滴量測設備300的剖面圖。小液滴量測設備300在諸多態樣類似於圖2A及圖2B之小液滴量測設備200，且相同元件用相同參考編號標記。小液滴量測設備300與小液滴量測設備200之間的主要區別在於光源206與成像裝置210對準。容器214安置在支架302中，支架302向外延伸以在相對於小液滴照射區208之橫向位置中支撐光源206及成像裝置210。光源206定位在小液滴照射區208之一側上，且成像裝置210經定位與發光源206相對，其中小液滴照射區208在光源206與成像裝置210之間。光源206及成像裝置210之光軸此處沿著自光源206穿過小液滴照射區208直接延伸至成像裝置210之軸線310對準。

在此狀況下，成像裝置210耦接至被支撐在支撐件302上之線性定位器304。線性定位器304如由箭頭308所示出在橫向方向上使成像裝置210移動更接近於或更遠離小液滴照射區208，以移動成像裝置之焦平面以與欲量測小液滴之小液滴照射位置252中之一者重合。

將光源206及成像裝置210定位成行可能會在獲得一些小液滴位置之高解析度影像方面帶來挑戰。在圖3中，列印總成312具有耦接至框架314中之三個分配器，第一分配器320、第二分配器322及第三分配器324，框架314可以為如同圖1之殼體130之分配器殼體之一部分。三個分配器320、322及324沿著光軸310以由列印系統之操作規範設置之間隔對準。分配器經示出為定位在光源206與成像裝置210之間，以便在小液滴之任何特性明顯改變之前離開分配器時立即獲得小液滴306之影像。將分配器定位在光源206與成像裝置210之間限制可以將成像裝置定位接近於一些小液滴照射位置的程度，例如，距成像裝置210最遠且最接近於光源206之彼等小液滴照射位置。在一些狀況下，僅藉由移動成像裝置210可能難以協調所要的影像解析度及工作範圍。

為了擴大成像裝置210之工作範圍，可將可調透鏡330耦接至成像裝置210。可調透鏡可以擴展工作範圍，在該工作範圍內成像裝置210可以遞送高解析度影像，因此成像裝置210可以拍攝第一分配器320之最近小液滴照射位置及第三分配器324之最遠小液滴照射位置之高解析度影像。

如圖3中所示出，為了將第三分配器324定位在容器214上方以遞送小液滴，分配器總成必須向右移動距離A，該距離A大於分配器總成312與成像裝置210之間的間隙B。成像裝置210因此必須藉由致動線性定位器304向右移動，從而增加成像裝置210與小液滴照射區208之間的距離。若在無藉由可調透鏡擴大的情況下成像裝置210不具有足夠工作範圍以在增加的距離處遞送高解析度影像，則可調透鏡330可以用於增加成像裝置210之工作範圍。以此方式，可以拍攝自所有三個分配器320、322及324噴射之小液滴之合適影像。應注意，在本文中所描述之任何具體實例中，可將諸如可調透鏡330之可調透鏡連同線性定位器304或228一起或替代線性定位器304或228使用。

在一些態樣中，圖3之小液滴量測設備300具有比圖2A及圖2B之小液滴量測設備200更簡單之組態。然而，小液滴量測設備200以最小限度地將分配器216插入至成像設備的方式使分配器216與光學路徑250接合。在設備300中，整個分配器殼體130插入在光源206與成像裝置210之間，而對於小液滴量測設備200，僅一個分配器216之端部插入在稜鏡222與224之上部尖端之間，其中所需之垂直移動較少。最有用之設計可以針對個別應用進行定製。

圖4為概述根據另一具體實例之方法400的流程圖。方法400為獲得自諸如噴墨列表機之列印系統之列印材料分配器噴射之小液滴之特性量測的方法。可以使用本文中所描述之設備來實踐方法400。在402處，將列印材料分配器定位毗鄰於列印系統之小液滴量測設備。若使用多於一個分配器，則分配器可容納在分配器總成中。小液滴量測設備典型地位於列印系統之基板處理區域外部，使得可以進行執行小液滴量測之操作而不會影響基板處理區域或可能定位於其上之任何基板。

小液滴量測設備通常具有用於在小液滴照射區中照射小液滴之光源以及用於在光與小液滴互動之後自小液滴照射區接收光的成像裝置。光源包括準直光學器件，且小液滴量測設備包括光學組件，以將來自光源之光在穿過小液滴照射區之光學路徑上引導至成像裝置。

成像裝置具有可變焦平面。在一種情況下，成像裝置安置在線性定位器上，該線性定位器可以移動成像裝置以將成像裝置之焦平面定位在小液滴照射區中之小液滴照射位置處，使得小液滴之影像經清晰地聚焦。成像裝置之焦平面為可變的，此係因為可以在分配器之噴射面中之各個位置處自噴嘴分配小液滴，且在使用多個分配器的狀況下，分配器總成可能需要移動以使目標分配器在成像裝置之工作範圍內。在另一實例中，成像裝置可具有可動態調節焦距之可調透鏡，以將成像裝置之焦平面定位在小液滴照射區內之不同小液滴照射位置處。若期望，線性定位器亦可以與可調透鏡組合使用，以進一步擴展成像裝置之工作範圍。

小液滴照射區由分配器之噴射面及定位在小液滴量測設備中之小液滴容器界定。該分配器至噴射面可以具有複數個橫跨噴射面分佈之噴射噴嘴。典型地，容器經定大小以容納分配器之所有噴射噴嘴之區域覆蓋範圍，以使得可以發射分配器之所有噴射噴嘴，以量測小液滴特性，而不必移動分配器。在分配器總成中使用多個分配器的情況下，分配器總成可移動以將每一分配器依次定位在小液滴照射區處。

在404處，將列印材料分配器定位在測試位置處。典型地，測試位置為其中分配器之噴射面位於距用於照射小液滴之光之光學路徑最小距離處之位置。在一些狀況下，最小距離小於2 mm，例如小於1 mm。若使用光學組件使光進入小液滴照射區中，則可以將分配器之噴射面或分配器總成之框架或噴射面塑形以適應將分配器或分配器總成定位在測試位置處。例如，若使用稜鏡來引導光穿過小液滴照射區，以便將分配器定位在測試位置處，分配器可以部分地定位在稜鏡之間。在此類狀況下，若稜鏡之一部分在光學路徑之邊界上方延伸，亦即，超出用於照射小液滴之光場之空間範圍，則可以為分配器或分配器總成之噴射表面提供用以容納稜鏡之結構，以使得可以將噴射表面定位在測試位置處。在一個實例中，分配器總成具有扁平噴嘴板，複數個分配器之噴射表面安置在該扁平噴嘴板處，且噴嘴板具有凹口，以定位用於引導光穿過小液滴照射區之兩個稜鏡之頂部點。為了將分配器定位在測試位置處，將稜鏡之頂部點插入至凹口中，使得一個分配器之射出表面經定位距光學路徑最小距離。

在406處，將一或多個小液滴自分配器噴射至小液滴照射區中。小液滴穿過小液滴照射區進入容器中。若容器經定大小以容納分配器之噴射表面中之噴射噴嘴之整個區域覆蓋範圍，則可以在不移動分配器的情況下將小液滴自分配器之每一噴嘴噴射至容器中。在此類狀況下，小液滴可以在不同小液滴照射位置處到達小液滴照射區中，該等不同小液滴照射位置係由橫跨分配器之噴射表面之噴射噴嘴的區域分佈引起的。在此類狀況下，可以將噴嘴之位置提供至控制器，該控制器耦接至分配器總成及成像裝置，以將成像裝置之焦平面定位在小液滴照射位置處以用於對小液滴進行成像。因為小液滴照射位置由於自不同噴嘴噴射小液滴而改變，所以使成像裝置之焦平面移動以將每一小液滴成像。

在408處，在小液滴穿過小液滴照射區時，啟動光源以在小液滴照射區中提供照射。光與小液滴互動以產生訊跡光場，該訊跡光場傳播至成像裝置。

在410處，成像設備拍攝訊跡光場的影像，然後可以對其進行分析以判定小液滴特性，諸如體積。在一些狀況下，當小液滴穿過小液滴照射區時，對光源施加脈衝以產生小液滴之複數個影像。可以分析複數個影像以判定小液滴之速度及軌跡。體積、噴射速度及軌跡可用於判斷分配器之個別噴嘴之效能。因為可以改變成像裝置之焦平面以容納分配器之所有噴嘴，所以對整個分配器進行測試而無需重新定位分配器。

雖然上述針對本發明之具體實例，但可設想本發明之其他及進一步具體實例而不背離本發明之基本範圍，且本發明之範圍係由以下申請專利範圍判定。

無

為了可以詳細地理解本發明之上文所敍述特徵的方式，可以藉由參考具體實例來具有以上簡要概述之本發明之更特定描述，其中一些在隨附圖式中說明。然而，應注意，隨附圖式僅說明例示性具體實例，且因此不被認為係對其範圍的限制，可以允許其他等效具體實例。

[圖1]為根據一個具體實例之列印系統的俯視等角視圖。

[圖2A]為根據另一具體實例之小液滴量測設備的剖面圖。

[圖2B]為圖2A之小液滴量測設備之小液滴照射區的特寫剖面圖。

[圖3]為根據另一具體實例之小液滴量測設備的剖面圖。

[圖4]為概述根據另一具體實例之方法的流程圖。

為了便於理解，在可能的情況下已使用相同參考標記來指定為圖中共同的相同元件。預期，一個具體實例之元件及特徵可以被有益地併入在其他具體實例中，而無需進一步敍述。

Claims

一種小液滴量測設備，其包含：一光源，其具有一準直光學系統；一成像裝置，其沿著該準直光學系統之一光學路徑安置；及一小液滴照射區，其位於該準直光學系統之該光學路徑中，該小液滴照射區具有一變化的小液滴照射位置，其中該光源、該成像裝置或兩者可調整以將該成像裝置之一焦平面置放於該小液滴處照射位置處。
如請求項1所述之小液滴量測設備，其進一步包含耦接至該成像裝置之一線性定位器。
如請求項1所述之小液滴量測裝置，其進一步包含光學耦接至該成像裝置之一可調透鏡。
如請求項2所述之小液滴量測設備，其進一步包含一小液滴容器，其中線橫跨該小液滴容器延伸。
如請求項4所述之小液滴量測設備，其進一步包含安置在該光學路徑中之一引導光學器件。
如請求項5所述之小液滴量測設備，其中該引導光學器件包含在該容器之任一側上之一對稜鏡。
如請求項1所述之小液滴量測設備，其進一步包含在該小液滴照射區之任一側上之一對稜鏡。
如請求項1所述之小液滴量測設備，其中該光學路徑包含在該準直光學系統與該小液滴照射區之間的一第一部分以及在該小液滴照射區與該成像裝置之間的一第二部分，且該第一部分不平行於該第二部分。
如請求項7所述之小液滴量測設備，其中該小液滴照射位置沿著該等稜鏡之間的一線變化。
一種列印系統，其包含：一基板支撐件；及一列印總成，其以操作方式耦接至該基板支撐件，該列印總成包含：一列印支撐件；一分配器總成，其可移動地耦接至該列印支撐件；及一小液滴量測設備，其耦接至該列印支撐件，該小液滴量測設備包含：一殼體；一光源，其安置在該殼體中，該光源包含一準直光學系統；一小液滴照射區，其具有一變化的小液滴照射位置；及一成像裝置，其安置在該殼體中以自該小液滴照射區接收輻射，該光源、該小液滴照射區及該成像裝置界定可調整至該小液滴照射位置之一焦平面。
如請求項10所述之列印系統，其進一步包含安置在該殼體中且耦接至該成像裝置之一線性定位器。
如請求項10所述之列印系統，其中該光源、該小液滴照射區及該成像裝置界定一光學路徑，且該列印系統進一步包含安置在該小液滴照射區與該成像裝置之間的該光學路徑中之一可調透鏡。
如請求項10所述之列印系統，其中該分配器總成可移動以將該分配器定位在該照射區內。
如請求項11所述之列印系統，其中該小液滴量測設備進一步包含毗鄰於該小液滴照射區之一容器。
如請求項11所述之列印系統，其中該光源、該小液滴照射區及該成像裝置界定一光學路徑，且該小液滴照射區包含在該光學路徑中之一對稜鏡。
如請求項15所述之列印系統，其中該分配器總成包含一或多個分配器，且該等稜鏡之間的一距離大於該一或多個分配器之一尺寸。
如請求項16所述之列印系統，其中該分配器總成進一步包含一噴嘴板，且該噴嘴板具有凹口，該等凹口具有與該等稜鏡之間隔匹配之間隔。
一種方法，其包含：將一噴墨列表機之一分配器定位在一小液滴量測設備之一照射區附近；將來自一光源之一準直光束發射穿過該照射區；將該分配器之一噴嘴與該準直光束之一光學路徑對準；將來自該噴嘴之一小液滴發射至該照射區中；使用該準直光束在一照射位置處照射該小液滴以形成該小液滴之一輻射訊跡；在一成像裝置處接收該輻射訊跡；及將該成像裝置之一焦平面調整至該照射位置。
如請求項18所述之方法，其中調整該成像裝置之該焦平面包含移動該成像裝置。
如請求項18所述之方法，其中調整該成像裝置之該焦平面包含調整該成像裝置之一聚焦組件。
如請求項18所述之方法，其進一步包含將該分配器之至少一部分定位在該照射區內。
如請求項21所述之方法，其中將該分配器之至少一部分定位在該照射區內包含將該分配器之該部分定位在該照射區之任一側上之兩個稜鏡之間。