TW201312251A - 雷射投影裝置與方法 - Google Patents

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Christoph Puttmann
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Abstract

本發明提出一種包含投影單元及應用控制單元之雷射投影裝置,該投影單元用於投射圖像並根據該投影單元與至少一沿投影方向位於該投影單元前方之物體的距離產生中斷信號,該應用控制單元根據該中斷信號對該投影單元進行控制。本發明還提出一種方法。

Description

雷射投影裝置與方法
本發明係有關於一種雷射投影裝置與利用雷射投影裝置投射圖像資料的方法。
投影裝置目前廣泛應用於顯示動態及靜態圖像。舉例而言,投影裝置可固定安裝於會議廳內或廣告版面前,此外亦可採用移動式投影裝置,使用者於即將在相應顯示面或螢幕前實施應用時安裝此等投影裝置。
投影裝置使用光源來投射圖像。此光源例如可為非常明亮的燈(如氣體放電燈)、一或多個LED抑或雷射光源。
在移動應用中尤佳採用帶雷射光源之雷射投影裝置,此雷射光源之體積很小且自熱效應極小。故而便於冷卻。
EP 1117080(B1)曾揭露此種雷射投影裝置。
使用帶雷射光源之雷射投影裝置投射圖像資料時,必須對雷射光源所發射之雷射光的強度加以控制,以免給人畜眼睛帶來危險。因此,此等雷射投影裝置對雷射投影裝置與其前方物體的距離進行偵測,並根據測得距離對雷射光的強度加以調整。
目前,由雷射投影裝置之投影單元自動實施強度調整。在輪詢模式中,雷射投影裝置之(例如)將圖像內容傳輸給投影單元的應用處理器或應用控制單元可透過控制線及資料線詢問該投影單元之暫存器內容,並從暫存器讀 取雷射光之當前強度以及雷射投影裝置前方物體與雷射投影裝置的距離。在輪詢模式中,應用控制單元按規定間隔對投影單元之暫存器進行詢問並對相應內容予以分析。
本發明提供一種具有申請專利範圍第1項之特徵的雷射投影裝置以及一種具有申請專利範圍第10項之特徵的方法。
本發明之揭示內容:
一種包含投影單元及應用控制單元之雷射投影裝置,該投影單元用於投射圖像並根據該投影單元與至少一沿投影方向位於該投影單元前方之物體的距離產生中斷信號,該應用控制單元根據該中斷信號對該投影單元進行控制。
一種利用本發明之雷射投影裝置投射圖像資料的方法,包含以下步驟:利用投影單元投射圖像,根據該投影單元與至少一沿投影方向位於該投影單元前方之物體的距離產生中斷信號,根據該中斷信號對該投影單元進行控制。
發明優點:
本發明基於以下認識:若用於對位於雷射投影裝置前方之物體進行偵測的應用控制單元並不在輪詢模式中與投影單元通信,則可實現一種節能模式。
有鑒於此,本發明之基本理念在於:應用上述認識並為應用控制單元與投影單元採用替代通信方案來偵測相應物體。根據本發明,該投影單元利用中斷信號通知該應用 控制單元:該雷射投影裝置與供該雷射投影裝置投射圖像之螢幕之間存在某個物體。
利用中斷信號來通知存在某個物體之優點在於,應用控制器毋需按規定間隔詢問投影單元之暫存器,亦即,毋需採用耗能的輪詢模式工作。遂可大幅減少應用控制器與投影單元之資料流量從而大幅降低應用控制器及投影單元中的運算複雜程度。
應用控制器之由此所釋放出的資源例如可應用於從事傳統雷射投影裝置中的附加處理器所執行的運算工作。在不需要執行其他運算的情況下,本發明之雷射投影裝置中亦可採用簡單型應用控制器。藉此便可降低硬體及軟體之複雜度並降低本發明之雷射投影裝置的成本。
此外,本發明雷射投影裝置之應用控制器例如可在其無需執行運算工作且該投影單元未發出中斷信號期間進入靜止狀態。此點尤其在移動應用中較為有利,因為此點可降低雷射投影裝置之能耗並例如可延長電池充電之雷射投影裝置的工作時間。
本發明的有利實施方式及改良方案參閱附屬項及附圖相關說明。
根據一種實施方式,該投影單元具有量距單元,該量距單元用於對該投影單元與至少一沿投影方向位於該投影單元前方之物體的距離進行偵測。藉此便可對沿投影方向位於該雷射投影裝置前方之物體進行可靠偵測並針對存在物體此一狀況作出反應。
根據另一實施方式,該投影單元具有雷射掃描器單元及為該雷射掃描器單元提供雷射光之雷射源,其中,該量距單元利用雷射光傳播時間量測及/或相差量測及/或時間量測及/或強度量測來偵測該距離,該投影單元根據該測得距離及/或該雷射源所提供之雷射光的當前強度產生該中斷信號。若利用該雷射源之雷射光進行量距,則可實現一種不需要設置其他組件的簡單量距方案。根據一種實施方式,例如可根據由投影面或物體所反射的雷射光來量距。
根據另一實施方式,該量距器具有紅外光源,根據紅外光的傳播時間進行量距。根據另一實施方式,例如可利用超音波量距等類似方式進行量距。
若根據該測得距離及/或該雷射源所提供之雷射光的當前強度來產生中斷信號,則可以靈活方式產生中斷信號。舉例而言,可得出強度與距離之商,為其規定最大值或最小值,一旦達到此值則產生中斷信號。
根據一種實施方式,該投影單元還具有投影控制單元,該投影控制單元實施為,從該量距單元接收該測得距離並產生該中斷信號,以及/或者在偵測出該距離的情況下根據該雷射源所提供之雷射光的當前強度及/或該測得距離及/或該雷射源所提供之雷射光之當前強度的最大閾值或最小閾值來對該雷射掃描器單元及/或該雷射源進行控制。若設有對該雷射掃描器單元及/或該雷射源進行控制並產生中斷信號的獨立投影控制單元,則該雷射投影裝置可採用模組結構或柔性結構。藉此可使本發明之雷射投影裝置靈活 適用於各種應用。
根據另一實施方式,該量距單元及/或該投影控制單元利用量距對使用者在該投影單元前所實施的姿態進行偵測及識別。
根據另一實施方式,該投影控制單元還實施為對該雷射源進行控制,以便自動提高該雷射源所提供之雷射光的強度以及/或者自動降低該雷射源所提供之雷射光的強度。該投影控制單元使該雷射光之強度(例如)與該雷射投影裝置與某個物體的距離相適應,遂可迅速調整該雷射光之強度。舉例而言,當某人出現於該雷射投影裝置前時,此舉可例如對人眼起防護作用。人員離開投影區域後,可將雷射光之強度迅速提高至實施投影之期望水平,以便實現高品質投影。為對該雷射光之強度進行調整,該投影控制單元可具有(例如)查找表(LUT),其存儲有由距離值與對應的最大雷射光強所構成的對,該投影控制單元可根據該等對確定該雷射源所產生之雷射光的強度。
根據另一實施方式,該投影控制單元可自動降低該雷射光之強度。但為了重新提高該雷射光之強度,該投影控制單元實施為等待該應用控制單元之語句或指令。舉例而言,該應用控制單元可在向該投影控制單元發送提高該雷射光之強度的語句前對使用者的確認進行詢問。藉此便可實現一種由人掌控的控制機構,必須由該控制機構對提高雷射光的強度作出許可。
根據另一實施方式,該投影控制單元並非自動、而是 唯有在從該應用控制單元收到語句或指令的情況下方提高或降低該雷射光之強度。藉此便可非常靈活地調整該雷射光之強度,因為該應用控制器可採用非常靈活的程式設計,並非一定要採用規定的LUT來確定該強度。
根據一種實施方式,該投影控制單元及該應用控制單元各具一中斷介面,該投影控制單元經由該等中斷介面向該應用控制單元提供該中斷信號,其中,該中斷信號實施為自保持中斷信號或非自保持中斷信號。中斷介面既設有自保持中斷信號又設有非自保持中斷信號,則該雷射投影單元可非常靈活地適用於不同應用。若該投影控制單元之中斷介面僅發送自保持中斷信號,則該應用控制單元可與收到該中斷信號後執行運算、對該中斷信號作出反應並據此向該投影控制單元發送將該中斷信號重新復位的語句或指令。若該中斷信號實施為非自保持中斷信號,則在該物體(例如)進一步接近該雷射投影單元的情況下,該投影控制單元可於首次發送中斷信號後發送第二中斷信號。該應用控制單元可據此中斷當前運算並(例如)根據該物體與該雷射投影單元之當前距離實施調整。透過此種方式便可對該物體與該雷射投影裝置之距離變更作出迅速反應,但此舉會提高該應用控制器中的運算複雜程度。
根據另一實施方式,該投影控制單元及該應用控制單元各具一資料介面及一控制介面,該投影控制單元透過該等介面與該應用控制單元電連接,其中,該應用控制單元實施為,透過該資料介面向該投影控制單元提供需要投影 的圖像內容之資料,透過該控制介面對該投影控制單元進行控制以及/或者對該投影控制單元之狀態資訊進行詢問。若為該投影控制單元與該應用控制單元設置獨立的通信用資料介面及控制介面,則可實現非常有效的通信方案。舉例而言,該應用控制單元可透過資料介面向該投影控制單元提供關於需要投影之圖像內容的資料,並同時在該控制介面上訪問該投影控制單元之暫存器。
根據另一實施方式,該資料介面及該控制介面皆實施為單獨一串列資料介面或並行資料介面。
根據一種實施方式,該投影控制單元實施為微控器及/或程式控制單元及/或可程式邏輯模組及/或FPGA及/或ASIC。作為補充或替代方案,該應用控制單元實施為微控器及/或程式控制單元及/或應用處理器及/或基頻處理器及/或圖形處理器及/或可程式邏輯模組及/或FPGA及/或電腦及/或個人電腦。藉此便可實現本發明之雷射投影裝置的靈活結構。因此,本發明之雷射投影裝置可採用以下實施方案:該應用控制單元實施為微控器,該微控器將所存儲之經編碼或壓縮的圖像資料解碼或解壓縮並提供給該投影控制單元。作為替代方案,亦可設置一雷射投影單元,其中,該雷射投影單元與該應用控制器分處不同殼體。在此情況下,該應用控制器例如可為市場上有售的個人電腦。在某些實施方式中,此種市場上有售的個人電腦具有可與該投影單元通信的介面模組。而在其他實施方式中,此種市場上有售的個人電腦透過標準介面與該投影單元通信。
根據一種實施方式,該資料介面及/或該控制介面實施為MIPI兼容介面及/或HDMI介面及/或DVI介面及/或並行24位介面及/或SPI介面及/或I2C介面及/或USB介面及/或以太網路介面。作為補充或替代方案,該中斷介面實施為離散二進制高活性型介面或離散二進制低活性型介面。若採用符合現行標準之介面,則可使用便於購置的標準模組來構建該雷射投影裝置,如此便可降低該雷射投影裝置之構建成本。
上述設計方案及改良方案於合理條件下皆可自由組合。在上文抑或下文借助實施例所說明的特徵中,有些特徵組合本文未明確指出,本發明之其他可能設計方案、改良方案及實施方案亦將該等特徵組合包含在內。特定言之,本領域技術人員針對本發明的基本形式以獨立態樣形式提出的改良或補充方案,亦納入本發明。
下面參照附圖所示實施例對本發明進行詳細說明。
若無特別說明,附圖中相同或功能相同的元件及裝置皆用相同元件符號表示。
圖1為本發明之雷射投影裝置1*的一實施方式之框圖。
雷射投影裝置1具有用於投射圖像3之投影單元2。雷射投影裝置1還具有實施為微控器4之應用控制單元4。投影單元2還用於向微控器4提供中斷信號10,參見圖1中自投影單元2朝向微控器4之箭頭。最後,微控器4用於 對投影單元2進行控制,參見自微控器4朝向投影單元2之箭頭。
在其他實施方式中,該應用控制單元4亦可(例如)實施為FPGA、CPLD、嵌入式個人電腦等諸如此類,而非微控器4。
雷射投影裝置1中的投影單元2對沿投影方向位於投影單元2前方的物體與該雷射投影裝置1的距離進行偵測,並根據測得距離產生中斷信號10,投影單元2將該中斷信號提供給微控器4。
微控器4根據該中斷信號10對投影單元2進行控制。其中,微控器4可於收到中斷信號10(例如,該微控器將傳輸給該投影單元之圖像內容)後進行調整,以便對物體識別狀況加以顯示。
在其他實施方式中,該應用控制器4中亦可設置自有操作及顯示單元,以便該應用控制器4對物體識別狀況加以顯示。
圖2為本發明之方法的一實施方式之流程圖。
第一步驟S1係利用投影單元2投射圖像3。下一步驟S2係根據投影單元2與至少一沿投影方向位於投影單元2前方之物體的距離產生中斷信號10。最後步驟S3係根據該中斷信號10對投影單元2進行控制。
投影單元2之控制步驟S3中,可對投影單元2進行控制,使得該投影單元顯示某些圖像內容,該等圖像內容可降低或提高用於使該投影單元實施圖像投射之雷射光的強 度,抑或使得投影單元2之投影控制單元8的暫存器內容受到讀取及/或變更。
投影控制單元8的暫存器可為具有經識別物體相關資料的暫存器,該等資料例如為,該物體與雷射投影裝置的距離、物體大小、物體姿態等諸如此類。該等暫存器還可具有關於雷射光之當前強度的資料抑或關於投影單元2的其他狀態資訊。
圖3為本發明之雷射投影裝置1的另一實施方式之框圖。
圖3所示雷射投影裝置1與圖1所示雷射投影裝置1之不同之處在於,該投影單元2具有量距單元5,其與投影控制單元8耦合。圖3中的投影單元2還具有與雷射源7耦合之雷射掃描器單元6,其中,該雷射源7亦與投影控制單元8耦合。最後,應用控制單元4及投影控制單元8分別具有一中斷介面15、16,一資料介面11、12以及一控制介面13、14。其中,中斷介面15、16間的連接係單向連接,參見自投影控制單元8朝向應用控制器4之箭頭,資料介面11、12間的連接為雙向連接,其箭頭的頂端分別抵靠每個末端,控制介面13、14間的連接亦為係雙向連接,其箭頭的頂端亦分別抵靠每個末端。
根據一種實施方式,雷射掃描器單元6與雷射源7可實施為一積體元件。根據另一實施方式,雷射源7可實施為外部雷射源7並(例如)透過光導體與該雷射掃描器單元6連接。
在圖3所示實施方式中,投影控制單元8實施為FPGA或ASIC,該FPGA或ASIC設置為,對雷射源7及雷射掃描器單元6進行控制、接收量距單元5所測得的距離、產生中斷信號10,以及與應用控制器4進行通信。
圖4為本發明之投影控制單元2的一實施方式之自保持中斷信號10的信號特性圖。
圖4所示圖表中,橫軸為時間t,縱軸為中斷信號10之邏輯位準,用“low”及“high”此二狀態表示。該圖表按橫軸被分為三個時域A、B及C。中斷信號10在用A表示的第一區域內處於“low”位準。橫軸上在第一區域A即將結束時繪有第一時間點1,表示雷射投影裝置1之量距單元5偵測到一物體。經過較短處理時間(約占時域A的十分之一)後,中斷信號10的位準躍升至“high”並停留在整個區域B內,區域B約為區域A的兩倍。橫軸上在第二區域B即將結束時繪有第二時間點2。在此時間點上,應用控制器4結束其運算並向投影控制器8下達以下語句或指令:開啟中斷從而將中斷信號設置為“low”。經過一大致與第一處理時間相等之較短處理時間後,中斷信號10的位準躍回至“low”並在區域C之期間內停留於此位準。邏輯位準“high”及“low”可在不同實施方式中實施為不同電壓。舉例而言,某個實施方式中的位準“high”可指5V電壓,位準“low”可指0V電壓,反之亦可。根據某些實施方式,亦可為位準“high”與“low”設置相應電壓範圍。
當中斷信號10的位準在區域B期間處於“high”(即 活躍)時,該應用控制器例如可讀取投影控制器8之暫存器並根據所讀取的資訊對投影控制器8進行控制。
本發明亦存在多種相關修改方案,而非僅限於之前藉由較佳實施例進行的說明。特定言之,可以大量方式對本發明加以變更或修改而不致偏離本發明的核心。
例如在一種實施方式中,本發明之雷射投影裝置用於進行空間監測。其中,該投影單元監測某個空間,利用量距來偵測活動物體侵入,並利用中斷信號將此種侵入情況報告給該應用控制單元,該應用控制單元據此啟動相應反應。在該投影單元未發現侵入的情況下,該應用控制單元停留於靜止狀態。此舉有利於以非常節能的方式進行空間監測。
在另一實施方式中,本發明之雷射投影裝置可實施距離監測。
根據另一應用,可透過姿態識別實現與該雷射投影單元之相互作用。其中,該投影單元透過量距來偵測處於雷射投影裝置前方之人員的姿態,並在識別出無效姿態的情況下向該應用控制單元傳輸中斷信號。該應用控制器可據此從該投影控制單元的暫存器讀取所識別姿態的類型並啟動相應反應。該應用控制單元在識別出某種姿態前同樣可停留於靜止狀態。因此,本發明尤其適用於由電池提供電能的移動應用。
1‧‧‧雷射投影裝置
2‧‧‧投影單元
3‧‧‧圖像
4‧‧‧應用控制單元/應用控制器/微控器
5‧‧‧量距單元
6‧‧‧雷射掃描器單元
7‧‧‧雷射源
8‧‧‧投影控制單元/投影控制器
10‧‧‧中斷信號
11‧‧‧資料介面
12‧‧‧資料介面
13‧‧‧控制介面
14‧‧‧控制介面
15‧‧‧中斷介面
16‧‧‧中斷介面
A‧‧‧時域/區域
B‧‧‧時域/區域
C‧‧‧時域/區域
S1‧‧‧步驟
S2‧‧‧步驟
S3‧‧‧步驟
圖1為本發明之雷射投影裝置的一實施方式之框圖;圖2為本發明之方法的一實施方式之流程圖;圖3為本發明之雷射投影裝置的另一實施方式之框圖;及圖4為本發明之投影控制單元2的一實施方式之自保持中斷信號10的信號特性圖。
1‧‧‧雷射投影裝置
2‧‧‧投影單元
3‧‧‧圖像
4‧‧‧應用控制單元/應用控制器/微控器
10‧‧‧中斷信號

Claims (14)

  1. 一種雷射投影裝置,包含投影單元(2),該投影單元實施為,投射圖像(3)並根據一量測來產生中斷信號(10),該量測允許對該投影單元(2)與至少一沿投影方向位於該投影單元(2)前方之物體的距離進行推斷,及應用控制單元(4),該應用控制單元實施為,根據該中斷信號(10)對該投影單元(2)進行控制。
  2. 如申請專利範圍第1項之雷射投影裝置,其特徵在於,該投影單元(2)具有量距單元(5),該量距單元實施為,對該投影單元(2)與至少一沿投影方向位於該投影單元(2)前方之物體的距離進行偵測。
  3. 如申請專利範圍第1及2項中任一項之雷射投影裝置,其特徵在於,該投影單元(2)還具有雷射掃描器單元(6)及為該雷射掃描器單元(6)提供雷射光之雷射源(7),其中,該量距單元(6)實施為,利用雷射光傳播時間量測及/或相差量測及/或時間量測及/或強度量測來偵測該距離,該投影單元(2)實施為,根據該測得距離及/或該雷射源(7)所提供之雷射光的當前強度產生該中斷信號(10)。
  4. 如申請專利範圍第1或2項之雷射投影裝置,其特徵在於,該投影單元(2)還具有投影控制單元(8),該投影控 制單元實施為,從該量距單元(5)接收該測得距離並產生該中斷信號(10),以及/或者在偵測出該距離的情況下根據該雷射源(7)所提供之雷射光的當前強度及/或該測得距離及/或該雷射源(7)所提供之雷射光之當前強度的最大閾值或最小閾值來對該雷射掃描器單元(6)及/或該雷射源(7)進行控制。
  5. 如申請專利範圍第4項之雷射投影裝置,其特徵在於,該投影控制單元(8)還實施為,對該雷射源(7)進行控制,以便自動提高該雷射源(7)所提供之雷射光的強度以及/或者自動降低該雷射源(7)所提供之雷射光的強度。
  6. 如申請專利範圍第4項之雷射投影裝置,其特徵在於,該投影控制單元(8)及該應用控制單元(4)各具一中斷介面(15,16),該投影控制單元(8)經由該等中斷介面向該應用控制單元(4)提供該中斷信號(10),其中,該中斷信號(10)實施為自保持中斷信號(10)或非自保持中斷信號(10)。
  7. 如申請專利範圍第4項之雷射投影裝置,其特徵在於,該投影控制單元(8)及該應用控制單元(4)各具一資料介面(11,12)及一控制介面(13、14),該投影控制單元(8)透過該等介面與該應用控制單元(4)電連接,其中,該應用控制單元(4)還實施為,透過該資料介面(11, 12)向該投影控制單元(8)提供需要投影的圖像內容之資料,透過該控制介面(13,14)對該投影控制單元(8)進行控制以及/或者對該投影控制單元(8)之狀態資訊進行詢問。
  8. 如申請專利範圍第4項之雷射投影裝置,其特徵在於,該投影控制單元(8)實施為微控器及/或程式控制單元及/或可程式邏輯模組及/或FPGA及/或ASIC;以及/或者該應用控制單元(4)實施為微控器及/或程式控制單元及/或應用處理器及/或基頻處理器及/或圖形處理器及/或可程式邏輯模組及/或FPGA及/或電腦及/或個人電腦。
  9. 如申請專利範圍第7項之雷射投影裝置,其特徵在於,該資料介面(11,12)及/或該控制介面(13,14)實施為MIPI兼容介面及/或HDMI介面及/或DVI介面及/或並行24位介面及/或SPI介面及/或I2C介面及/或USB介面及/或以太網路介面;以及/或者該中斷介面(10)實施為離散二進制高活性型介面或離散二進制低活性型介面。
  10. 一種投射圖像資料的方法,特定言之利用申請專利範圍第1-9項中任一項之雷射投影裝置,包含以下步驟:利用投影單元(2)投射(S1)圖像(3);根據該投影單元(2)與至少一沿投影方向位於該投影單元(2)前方之物體的距離產生(S2)中斷信號(10); 根據該中斷信號(10)對該投影單元(2)進行控制(S3)。
  11. 如申請專利範圍第10項之方法,其中,產生(S2)該中斷信號(10)包含:對該投影單元(2)與至少一沿投影方向位於該投影單元(2)前方之物體的距離進行偵測,根據該測得距離產生中斷信號(10)。
  12. 如申請專利範圍第10及11項中任一項之方法,其中,利用雷射掃描器單元(6)及雷射源(7)來投射圖像,利用雷射光傳播時間量測來偵測該距離,其中,根據該測得距離及/或該雷射源(7)所提供之雷射光的當前強度來產生該中斷信號(10)。
  13. 如申請專利範圍第10至11項中任一項的方法,其中,控制(S3)該投影單元(2)包含:在偵測出該距離的情況下根據該測得距離及/或該雷射源(7)所提供之雷射光的當前強度及/或該雷射源(7)所提供之雷射光之當前強度的最大閾值或最小閾值來對該雷射掃描器單元(6)及/或該雷射源(7)進行控制。
  14. 如申請專利範圍第10至11項中任一項的方法,其中,控制該雷射掃描器單元(6)及/或該雷射源(7)包含自動提高該雷射源(7)所提供之雷射光的強度以及/或者自動降低該雷射源(7)所提供之雷射光的強度。
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