TW200848682A - Super-conductor member and implantation process thereof - Google Patents
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200848682 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係有關超導元件 粉末材料經由轉印技術或模 骨料之製程。 【先前技術】 在電子產品走向高階化 電子元件在更小體積具備更 走向細微化、功能整合化之 度也愈來愈高,傳統以鰭片 式,已不能滿足新一代電子 經成爲決定電子產品之壽ΐ 素。熱管(Heat Pipe),是 _ (phase change)吸收熱量,Μ 因而可得到極高的熱傳導係 現今已被廣泛應用於電子熱 理器之散熱等。惟,熟習此 熱管其毛細結構必須貼附於 供了工作介質液體回流之毛 流動阻力也成爲流動壓降的 某些操作情形下會有大幅度 均溫板則是將熱管由點 熱傳導,具有更高效率的熱 用的導熱元件之一,目前之 之製程,特別地指一種將金屬 具塑型技術在超導元件內植佈 、輕薄化之趨勢發展下,使得 強大的功能,當電子元件尺# 際,導致其單位面積的發熱密 透過風扇散逸於空氣的散熱方 元件的需求,因此散熱效率已 Ϊ、可靠度及穩定性的重要因 f由工作流體液氣相間的變化 以氣體分子傳輸熱量的方式, 數,具有相當好的傳熱效果, 傳導領域,如電腦內部中央處 項技術者可以理解的是,由於 整根熱管內部管壁,雖然其提 細力,但在其毛細結構內部之 主要來源,因此造成其性能在 遞減的情形。 的熱傳導更進一步地變成面的 傳導特性,未來可能被大量應 所以未被廣泛使用乃因現階段 200848682 技術常因毛細組織骨料之植佈過程、熱處理中之燒結及回
V 焊等而使得結構鬆軟,且構造複雜及未能有效節省製造成 本亦成爲另一項瓶頸。 已知有I午多相關均溫板的文獻被提出,例如台灣發明 專利公開第200609478號,揭示一種「微型均熱板的中間 製品製造方法」,其主要利用沖壓加工及蝕刻加工方式, 分別完成微型均熱板之外型中間製品及細微結構體的加工 步驟等,進而完成可相互貼合成微型均熱板的中間製品, 以解決微型均熱板中間製品的細微結構體不易利用沖壓加 工方式製作成型,以及將蝕刻加工應用在中間製品外型加 工成本過高之問題。 【發明內容】 本發明之主要目的在於提供一種在超導元件內植佈骨 料之製程,使構造簡單化、量產容易及降低成本。 爲了達成上述目的及其他目的,根據本發明之植佈製 程,其至少包括下列步驟: 沖製步驟:準備導熱性金屬板材料,將其沖製出一下 殼體和一上蓋體模型,及在該上蓋體頂部沖製有一注料孔。 塑型步驟:以轉印技術或模具塑型技術,將金屬粉末 在該下殻體和上蓋體內側表面塑成一薄膜胚型,及兩者之 間的若干定點上塑成若干凸柱胚型。 燒結步驟:加熱使該薄膜胚型和凸柱胚型燒結成毛細 組織結構。 焊接步驟:自該上蓋體頂部之注料孔焊接一注料管。 200848682 封合步驟:將該上蓋體覆設在下殼體上方,且沿兩者 啣接界面焊接封閉。 注料步驟:自該注料管抽真空後注入工作介質,並將 該注料管裁斷及焊接封口。 根據本發明植佈製程,該塑型步驟係以金屬粉末調和 溶劑後,以轉印技術直接/或藉由離型紙間接在該下殼體和 上蓋體內側表面轉印出一薄膜胚型,及在該下殼體或上蓋 體內側表面若干定點上轉印出若干凸柱胚型等;利用轉印 技術,該金屬粉末之厚薄容易控制,及能精準地疊積成適 當高度的凸柱,且量產容易及生產成本低。 根據本發明植佈製程之另一種方式,該塑型步驟和燒 結步驟,可以金屬粉末調和溶劑後以模具分別塑成一對應 於下殼體和上蓋體內側表面的薄膜胚型及若干凸柱胚型, 經燒結後再黏貼於下殻體和上蓋體的內側表面上。利用模 塑技術,其塑型簡單化、量產容易及生產成本低。此爲本 發明另一目的。 根據本發明超導元件,該下殼體自底部周圍朝開口部 方向形成一個逐漸向外側擴大的傾斜側面;相對於此,該 上蓋體沿邊緣內側,朝下殼體開口部方向形成一個傾斜的 凹部,且外周邊緣對應於該下殻體之傾斜側面形成一個角 度一致的傾斜凸緣部,彼此吻合密接在一起。如此,該結 構容易組合定位,且彼此之間的接觸面積大,其穩定性及 可靠性可確保。此爲本發明又一目的。 根據本發明超導元件,該下殼體和上蓋體之截面積成 200848682 圓形之設計,且該凸柱成環狀排列於下殻體和上蓋體之 間;當蒸發端持續處於高溫狀態或表面溫度不平均,而導 致該超導元件腔體內壓力及溫度不平均時,其飽和蒸汽會 因壓力差產生氣流旋渦迅速分佈至整個較低溫之區域,使 該超導元件之均溫效率更高。此爲本發明再一目的。 【實施方式】 以下將配合實施例對本發明技術特點作進一步地說 明,該實施例僅爲較佳代表的範例並非用來限定本發明之 實施範圍,謹藉由參考附圖結合下列詳細說明而獲致最好 的理解。 首先,請參考第1圖並對照第2圖,根據本發明超導 元件1植佈骨料之製程,其至少包括下列步驟: 沖製步驟:準備導熱性金屬板材料,例如銅板或鎳板 等,將其沖製出一個下殻體10和一個上蓋體20模型,兩 者之間能共同構成一腔室,及在該上蓋體20頂部沖製有一 注料孔2 5 (如第2圖之步驟一所示)。 塑型步驟:將例如銅或鎳等之金屬粉末調和溶劑後, 以轉印技術或模具塑型技術在該下殼體1 〇和上蓋體2 0內 側表面塑成一薄膜胚型3 1、3 2,及在兩者之間的若干定點 上塑成若干凸柱胚型33(如第2圖之步驟二所示)。 燒結步驟·讓該下殼體10和上蓋體20進入一熱爐40 加熱’使該金屬粉薄膜胚型3 1、3 2和凸柱胚型3 3燒結成 多孔性的毛細組織結構(如第2圖之步驟三所示)。 焊接步驟:從該上蓋體20頂部之注料孔25焊接一注 200848682 料管2 6 (如第2圖之步驟四所示)。 封合步驟:將該上蓋體20覆設在下殻體1〇上方,且 沿兩者啣接界面焊接封閉,形成一個腔室內具有骨料的元 件(如第2圖之步驟五所示)。 注料步驟:從該注料管26將腔室內抽真空後,注入工 作介質例如水、氨水或乙醇等,同時將該注料管2 6裁斷及 焊接封口,形成一個超導元件1(如第2圖之步驟六所示)。 根據本發明’該塑型步驟中之轉印技術,係以金屬粉 末調和溶劑成糊狀後,將糊膏刮過絹網留白部分使其滲透 的方式(由於此部分爲習知轉印技術故不進—*步說明), 直接在該下殼體1 0和上蓋體2 0內側表面轉印出一薄膜胚 型3 1、3 2,其印刷的厚度可以控制在最適當的厚度;及, 以相同的方式在該下殻體1 0內側表面若干定點上,重覆轉 印以疊積出適當高度的若干凸柱胚型33;或者,在該上蓋 體20內側表面若干定點上,重覆轉印以堆積出適當高度的 若干凸柱胚型3 3。上述之轉印技術,熟習此項技術者可以 理解的是,亦可以用間接轉印的方式,例如先在離型紙上 分別轉印出對應於下殼體1 0和上蓋體2 0內側表面的薄膜 胚型3 1、3 2及若干凸柱胚型3 3,再黏貼組合於該下殼體 10和上蓋體20上;及,該凸柱胚型33可以一體地轉印在 下殻體10薄膜胚型31之若干定點上,或者,一體地轉印 在上蓋體20薄膜胚型32之若干定點上。 根據本發明另一種方式,該塑型步驟和燒結步驟,可 以金屬粉末調和溶劑後以模具分別塑成一對應於下殼體1 0 200848682 和上蓋體2 0內側表面的薄膜胚型3 1、3 2及若干凸柱胚型 3 3,經燒結成多孔性毛細組織薄膜3丨’、3 2 ’及若干多孔性 毛細組織凸柱3 3 ’後再黏貼於下殻體1 〇和上蓋體2 0的內側 表面上。其中,該若干凸柱胚型33可以用模具一次在對應 於該下殻體10內側表面的薄膜胚型31之若干定點上一體 地塑成;或者,以模具一次在對應於該上蓋體2 0內側表面 的薄膜胚型32之若干定點上一體地塑成。 請再參考第3圖及第4圖所示,第3圖爲根據本發明 上述植佈製程製成的超導元件1之平面圖,第4圖爲其剖 面圖。根據本發明,該下殻體10和上蓋體20兩者之間構 成一密閉的真空腔室,在該下殼體1 0和上蓋體2 0內側表 面分別形成一多孔性的毛細組織薄膜3 1 ’、3 2 ’,且於兩者 之間的若干定點上形成若干多孔性的毛細組織凸柱3 3 ’,及 視工作條件其內部注入之工作介質可選擇例如水、氨水或 乙醇等。 在理想的情況下,該下殼體1 0和上蓋體2 0之截面積 較佳爲圓形、方形或多角形之其中一種,較佳爲圓形,上 述毛細組織凸柱3 3 ’可爲圓柱形、方柱形、橢圓柱形或多角 柱形之其中一種,較佳爲圓柱形,且該若干凸柱3 3 ’成環狀 排列於下殻體1 0和上蓋體2 0之間。此外,該下殻體1 〇自 底部周圍朝開口部方向形成一個逐漸向外側擴大的傾斜側 面1 Oa ;相對於此,該上蓋體20沿邊緣內側,朝下殻體! 〇 開口部方向形成一個傾斜的凹部2 0 a,且外周邊緣對應於 該下殼體1 0之傾斜側面1 〇 a形成一個角度一致的傾斜凸緣 -10- 200848682 部2 0 b ’彼此吻合地密接在一起。如此,該結構簡單化, 在下殻體1 〇和上蓋體2 0組合時定位容易,且彼此之間的 接觸面積大,其穩定性及可靠性可確保。 再如第4圖所示,上述超導元件i接觸熱源之一端爲 蒸發端1 a,另一相對端則爲冷凝端1 b,假設熱源5 0位於 該超導元件1之下方,蒸發端la的工作介質因吸熱而蒸發 成汽態,飽和蒸汽a往上升迅速擴散至整個冷凝端1 b,經 由其他散熱裝置(圖中未示)例如鰭片或水套等吸收冷凝 端1 b熱能,使工作氣體冷凝液化成工作流體b,並沿毛細 組織薄膜3 2 ’和毛細組織凸柱3 3 ’等迴流至蒸發端1 a,形成 二相流循環。從另一方面而言,上述成圓盤形設計之超導 元件1,若熱源持續處於高溫狀態或表面溫度不平均,而 導致該超導元件1腔體內壓力及溫度不平均時,該飽和蒸 汽a即會因壓力差產生氣流旋渦迅速分佈至整個較低溫之 區域,進而使該超導元件1之均溫效率更高。 以上僅爲本發明代表說明的較佳實施例,並不侷限本 發明實施範圍,即不偏離本發明申請專利範圍所作之均等 變化與修飾,應仍屬本發明之涵蓋範圍。 【圖式簡單說明】 第1圖爲本發明超導元件植佈骨料之流程方塊圖。 第2圖係顯示本發明超導元件植佈骨料之製程示意 圖。 第3圖係顯示本發明超導元件之平面示意圖。 第4圖爲自第3圖之4-4方向剖面放大圖。 200848682 【主 要元件符 號 說 明 ] 1 本 發 明 超 導 元件 la 蒸 發 端 lb 冷 凝 丄山 贿 10 下 殼 體 10a 傾 斜 側 面 20 上 蓋 體 20a 凹 部 20b 凸 緣 部 25 注 料 孔 26 注 料 管 3 1、 32 薄 膜 胚 型 3 1,、 325 毛 細 組 織 薄 膜 33 凸 柱 胚 型 33 5 毛 細 組 織 凸 柱 40 熱 爐 50 熱 原 -12-
Claims (1)
- 200848682 十、申請專利範圍: 1 · 一種植佈製程,用上 至少包括下列步驟: 用以在超導兀件內部植佈骨料, 其特徵 沖製步驟··準備導熱性金屬板材料,將其沖製出一下一注料 塑型步驟:以金屬粉末在該下殻體和上蓋體內側表面 塑成一薄膜胚型, 柱胚型; 及兩者之間的若干定點上塑成若干凸 燒結步驟··加熱使該薄膜胚型和凸柱胚型燒結成毛細 組織結構; 焊接步驟:自該上蓋體頂部之注料孔焊接一注料管; 封合步驟:將該上蓋體覆設在下殼體上方,且沿兩者 啣接界面焊接封閉; 注料步驟:自該注料管抽真空後注入工作介質,並將 該注料管裁斷及焊接封口。 2 .如申請專利範圍第1項之植佈製程,其中該塑裂步驟係 以金屬粉末調和溶劑後,以轉印技術直接在該下殼體和 上蓋體內側表面轉印出一薄膜胚型,及一體地在該下殼 體內側表面若干定點上轉印出若干凸柱胚型。 3 ·如申請專利範圍第1項之植佈製程,其中該塑型步驟係 以金屬粉末調和溶劑後,以轉印技術直接在該下殻體和 上蓋體內側表面轉印出一薄膜胚型,及一體地在該上蓋 體內側表面若干定點上轉印出若干凸柱胚型。 200848682 4 .如申請專利範圍第1項之植佈製程,其中該塑型步驟係 以金屬粉末調和溶劑後,以轉印技術在離型紙上分別轉 印出一對應於下殻體和上蓋體內側表面的薄膜胚型及若 干凸柱胚型,再黏貼組合於兩者之間。 5 ·如申請專利範圍第4項之植佈製程,其中該若干凸柱胚 型係以轉印技術一體地形成在下殻體薄膜胚型之若干定 點上。 6 ·如申請專利範圍第4項之植佈製程,其中該若干凸柱胚 型係以轉印技術一體地形成在上蓋體薄膜胚型之若干定 點上。 7 ·如申請專利範圍第1項之植佈製程,其中該塑型步驟和 燒結步驟,係以金屬粉末調和溶劑後以模具分別塑成一 對應於下殼體和上蓋體內側表面的薄膜胚型及若干凸柱 胚型,經燒結後再黏貼於下殼體和上蓋體的內側表面。 8 ·如申請專利範圍第7項之植佈製程,其中以模具在對應 於該下殻體內側表面的薄膜胚型之若干定點上一體地塑 成若干凸柱胚型。 9 ·如申請專利範圍第7項之植佈製程,其中以模具在對應 於該上蓋體內側表面的薄膜胚型之若干定點上一體地塑 成若干凸柱胚型。 1 0 · —種超導元件,其係由一下殼體和一上蓋體構成一密閉 的負壓空間,該下殻體和上蓋體內側表面分別形成有一 毛細組織薄膜,且於兩者之間的若干定點上形成若干毛 細組織凸柱,及內部注入有工作介質;其特徵在於: -14- 200848682 該下殼體自底部周圍朝開口部方向形成一個逐漸向外 側擴大的傾斜側面;該上蓋體沿邊緣內側,朝下殼體開 口部方向形成一個傾斜的凹部,且外周邊緣對應於該丁 殼體之傾斜側面形成一個角度一致的傾斜凸緣部,彼此 吻合密接在一起。 1 1 .如申請專利範圍第1 0項之超導元件,其中該下殻體和上 蓋體之截面積爲圓形、方形或多角形之其中一種,較佳 爲圓形。 1 2 ·如申請專利範圍第1 1項之超導元件,其中該毛細組織凸 柱可爲圓柱形、方柱形、橢圓柱形或多角柱形之其中一 種,較佳爲圓柱形。 1 3 ·如申請專利範圍第1 2項之超導元件,其中該若干凸柱成 環狀排列於下殻體和一上蓋體之間。 1 4 ·如申請專利範圍第1 〇項之超導元件,其中該工作介質係 選自水、氨水、乙醇等其中之一種。
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