TH78442A - ความเสถียรขององค์ประกอบโพลีอีเธอร์ โพลีออล, โพลีเอสเทอร์ โพลีออล หรือ โพลียูรีเธน - Google Patents

Abstract

DC60 (05/07/54) การประดิษฐ์คั้งนี้จะเกี่ยวข้องกับองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วย (a) โพลีอีเธอร์ โพลีออล, โพลีเอสเทอร์ โพลีออล หรือ โพลียูรีเธน, (b) สารดูดซับ-UV ของสูตร (I) และ/หรือ สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮินเดอร์ เอมีนของสูตร (II) (สูตรเคมี) (I) (สูตรเคมี) (II) โดยที่ R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระ ต่างคือ C1-C4อัลคิล หรือ C1-C4อิลคิลออกซี, และ (c) อย่างน้อยหนึ่งสารดูดซับ-UV เพิ่มเติม และ/หรือ สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิด ฮินเดอร์ เอมีนเพิ่มเติมถ้าที่มีอยู่เป็นเพียงแค่หนึ่งในส่วนประกอบ (I) และ (II) ด้วยเงื่อนไขที่ว่า ส่วนประกอบ (c) ไม่ใช้สารประกอบของสูตร (A)-(D) ดังที่ได้กำหนดใน ข้อถือสิทธิที่ 1 การประดิษฐ์คั้งนี้จะเกี่ยวข้องกับองค์ประกอบที่ประกอบรวมด้วย (a) โพลีอีเธอร์ โพลออล, โพลีเอสเทอร์ โพลีออล หรือ โพลียูรีเธน, (b) สารดูดซับ-UV ของสูตร (I) และ/หรือ สารได้ความเถสียรต่อแสงชนิดฮินเดอร์ เอมีนของสูตร (II) (สูตรเคมี) (I) (สูตรเคมี) (II) โดยที่ R1 และ R2 อย่างเป็นอิสระ ต่างคือ C1-C4อัลคิล หรือ C1-C4อิลคิลออกซี, และ (c) อย่างน้อยหนึ่งสารดูดซับ-UV เพิ่มเติม และ/หรือ สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิด ฮินเดอร์ เอมีนเพิ่มเติมถ้าที่มีอยู่เป็นเพียงแค่หนึ่งในส่วนประกอบ (I) และ (II) ด้วยเงื่อนไขที่ว่า องค์ประกอบ (c) ไม่ใช้สารประกอบของสูตร (A)-(D) ดังที่ได้กำหนดใน ข้อถือสิทธิที่ 1

Claims (9)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :

1. องค์ประกอบซึ่งประกอบด้วย (a) โพลีอีเธอร์ โพลออล, โพลีเอสเทอร์ โพลีออล หรือ โพลียูรีเธน, (b) สารดูดซับ UV ของสูตร (I) และ/หรือ สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮินเดอร์ เอมีน ของสูตร (II) (สูตรเคมี) (I) (สูตรเคมี) (II) โดยที่ R1 และ R2 โดยเป็นอิสระแต่ละตัวเป็น C1-C4อัลคิล หรือ C1-C4อิลคิลออกซี และ (c) อย่างน้อยหนึ่งสารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮินเตอร์ เอมีน และ/หรือสารดูดซับ UV เพิ่มเติมที่เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไฮดรอกซีฟีนิล-ไตรอะซีน, เบนโซฟีโนน, ออกซา นิไลด์, อะคริเลท และไซยานาคริเลท คลาสส์ ถ้าส่วนประกอบ (I) และ (II) มีอยู่เพียงตัวเดียว ด้วยเงื่อนไขที่ว่า ส่วนประกอบ (c) ไม่ใช้สารประกอบของสูตร (A)-(D) (สูตรเคมี) (A) (สูตรเคมี) (B) (สูตรเคมี) (C) (สูตรเคมี) (D)

2. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งประกอบด้วยสารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮินเตอร์ เอมีนของสูตร HA-1 ถึง HA-11 หรือ สารดูดซับ UV ของสูตร UV-5 ถึง UV-8 เป็นส่วนประกอบ (c) HA-1) (สูตรเคมี) ; HA-2) (สูตรเคมี) ที่มี n7 เป็น 2 ถึง 50; HA-3) (สูตรเคมี) ; HA-4) (สูตรเคมี) ที่มี n8 เป็น 2 ถึง 12; HA-5) (สูตรเคมี) ที่มี n9 เป็น 2 ถึง 50; HA-6) (สูตรเคมี) ที่มี n10 เป็น 2 ถึง 50; HA-7) (สูตรเคมี) ที่มี n11 เป็น 2 ถึง 50; HA-8) (สูตรเคมี) ที่มี n12 เป็น 2 ถึง 50; HA-9) (สูตรเคมี) ; HA-10) (สูตรเคมี) ที่มี n14 เป็น 2 ถึง 50; HA-11) 7-ออกซะ-3,20-ไดอะซาไดสไปโร[5.1.11.2]ฮีนไอโคซาน-21-โอน, 2,2,4,4-เตตระเมทธิล-20-(ออกเซอรานิลเมทธิล)-, โพลีเมอร์กับ (คลอโรเมทธิล)ออกเซอเรน; UV-5) (สูตรเคมี) ; UV-6) (สูตรเคมี) ; UV-7) (สูตรเคมี) ; UV-8) (สูตรเคมี)

3. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งประกอบด้วย สารเติมแต่งเพิ่มเติม

4. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งประกอบด้วย สารให้ความเสถียรเพิ่มเติม

5. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 4 ซึ่งประกอบด้วย แอนตี้ออกซิแดนท์, สารให้ความเสถียร ต่อแสง และ/หรือ สารให้ความเสถียรในการดำเนินการเป็นสารให้ความเสถียรเพิ่มเติม

6. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 5 ซึ่งประกอบด้วย ฟีโนลิค และ/หรือ อะมินิค แอนตี้ออก ซิแดนท์, สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮินเดอร์ เอมีน, สารดูดซับ UV, ฟอสไฟท์, ฟอสโฟไนท์ และ/หรือ เบนโซฟูราโนนเป็นสารให้ความเสถียรเพิ่มเติม

7. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 6 ซึ่งประกอบด้วย สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮิน เดอร์ เอมีน, สารดูดซับ UV, ฟีโนลิค แอนตี้ออกซิแดนท์และ/หรือฟอสไฟท์เป็นสารให้ความ เสถียรเพิ่มเติม

8. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ ส่วนประกอบ (b) คือ การรวมกันของสารดูดซับ UV ของสูตร (I) และสารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮินเดอร์ เอมีนของสูตร (II)

9. องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ สารดูดซับ UV ของสูตร (I) คือสารประกอบของ สูตร (la) (สูตรเคมี) (la) 1องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ ส่วนประกอบ (b) คือ สารดูดซับUV ของ สูตร (I) และส่วนประกอบ (c) คือ สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮินเดอร์เอมีน 1องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ ส่วนประกอบ (b) คือ สารให้ความเสถียรต่อแสง ชนิดฮินเดอร์เอมีนของสูตร (ll) และส่วนประกอบ (c) คือ สารดูดซับUV 1องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ ปริมาณโดยรวมของส่วนประกอบ (b) และ (c) คือ 0.01% ถึง 5% อิงบนพื้นฐานน้ำหนักขององค์ประกอบ 1องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที ปริมาณโดยรวมขององค์ประกอบ (b) และ (c) คือ 0.5% ถึง 2% อิงบนพื้นฐานน้ำหนักขององค์ประกอบ 1องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ อัตราส่วนของส่วนประกอบ (b) : (c) หรือของ สารประกอบของสูตร (I) : (II) ตามลำดับมีค่าตั้งแต่ 10:1 ถึง 1:10 1องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ อัตราส่วนของส่วนประกอบ (b) : (c) หรือของ สารประกอบของสูตร (I) : (II) ตามลำดับมีค่าตั้งแต่ 3:1 ถึง 1:3 1การใช้ของผสมของส่วนประกอบ (b) และ (c) ดังที่ได้ระบุในข้อถือสิทธิที่ 1 เป็นสารให้ ความเสถียรสำหรับโพลีอีเธอร์ โพลีออล, โพลีเอสเทอร์ โพลีออล หรือ โพลียูรีเธนเพื่อต่อต้านการ เสื่อมจากแสง, ออกซิเจน และ/หรือ ความร้อน 1การใช้ของผสมตามข้อถือสิทธิที่ 16 โดยที่ ของผสมประกอบเพิ่มเติมด้วยสารเติมแต่ง เพิ่มเติม และ/หรือ สารให้ความเสถียรเพิ่มเติม 1กระบวนการสำหรับการทำให้เสถียรแก่โพลีอีเธอร์ โพลีออล, โพลีเอสเทอร์ โพลีออล หรือ โพลียูรีเธนเพื่อต่อต้านการเสื่อมจากแสง, ออกซิเจน และ/หรือ ความร้อน ซึ่งกระบวนการ ประกอบด้วย การนำของผสมของส่วนประกอบ (b) และ (c) ดังที่ได้ระบุในข้อถือสิทธิที่ 1 เข้าไป ยังวัสดุดังกล่าว 1กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 18 โดยที่ ของผสมประกอบเพิ่มเติมด้วยสารเติมแต่ง เพิ่มเติม และ/หรือ สารให้ความเสถียรเพิ่มเติม 2องค์ประกอบตามข้อถือสิทธิที่ 6 ซึ่งประกอบด้วย สารให้ความเสถียรต่อแสงชนิดฮิน เดอร์ เอมีน, สารดูดซับ UV, ฟีโนลิค แอนตี้ออกซิแดนท์และ/หรือฟอสไฟท์เป็นสารให้ความ เสถียรเพิ่มเติม โดยฟอสไฟท์ถูกเลือกจากกลุ่มซึ่งประกอบด้วย (สูตรเคมี) และ (สูตรเคมี)