DC60 (01/09/52) การประดิษฐ์นี้เป็นการจัดเตรียมสารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์ สังเคราะห์ซึ่งประกอบด้วยสารละลายที่เป็นคอลลอยด์ซึ่งตามปกติก็จะเป็นซิลิกาที่เป็นคอลลอยด์ที่มี ความเข้มข้นตั้งแต่ 20-50% โดยมวลและพอลิเมอร์ของกรดคาร์บอกซีลิก, กรดแอซิดิกอะมิโน, เฟนอล หรือไกลคอสอะมิโนไกลแคน DC60 (01/09/52) This invention provides an abrasive slurry for use with a quartz glass substrate. Synthetic, consisting of a colloidal solution, usually colloidal silica with Concentrations ranging from 20-50% by mass and polymers of carboxylic acid, amino acidic acid, phenol or glycosaminoglycans.
Claims (7)
ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :แก้ไข 17 ก.ค. 2563 ไม่มีข้อถือสิทธิ -------------------------------------------------------------------------- ------09/02/2561------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า ข้อถือสิทธิDisclaimer (all) which will not appear on the advertisement page: Revised 17 Jul 2020 No disclaimer -------------------------------------------------- ------------------------ ------ 09/02/2018 ------ (OCR) page 1 of the number 1 page Claim1. สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ซื่งประกอบด้วย สารละลายที่เป็นคอลลอยด์และส่วนประกอบที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยพอลิเมอร์ของกรด คาร์บอกซีลิก, กรดแอซิดิกอะมิโน, เฟนอลและไกลคอสอะมิโนไกลแคนโดยที่สารละลายที่เป็น คอลลอยด์ดังกล่าวมีความเข้มข้นของคอลลอยด์ตั้งแต่ 20 ถึง 50% โดยมวลและมีค่า pH ตั้งแต่ 9 ถึง 10.51. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate which consists of Colloidal solutions and their constituents are selected from the group containing acid polymers. Carboxylic, acidic amino acid, phenol and glycosamide, the solution being Such colloids have a colloidal concentration of 20 to 50% by mass and have a pH ranging from 9 to 10.5.2. สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่พอลิเมอร์ของกรดคาร์บอกซีลิกดังกล่าวคือพอลิเมอร์ของกรดอะคริสิก2. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate according to claim 1, where the polymer of carboxylic acid is acetic acid polymer. Risik3. สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่กรดแอซิดิกอะมิโนดังกล่าวคือกรดแอสปาร์ติกหรือกรดกลูตามิก3. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate according to claim 1, whereby acetic amino acid is aspartic acid or glutamic acid.4. สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่เฟนอลดังกล่าวคือเฟนอลตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นได้ซํ่งเลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย คาเตชอล, เรซอร์ซินอลและไฮโดรควิโนน4. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate according to claim 1, where the aforementioned phenol is one or more types of phenol, selected from the group containing the Techal, Resorcinol and Hydroquinone5. สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยที่ไกลคอสอะมิโนไกลแคนดังกล่าวคือกรดไฮอะลูโรนิก5. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate according to claim 1, whereby the amino glycosides are hyaluronic acid.6. สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ตามข้อถือสิทธิที่ 1 โดยมีการปรับ pH ด้วยสารตั้งแต่หนึ่งชนิดขึ้นไปที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไฮดรอกไซด์ของ โลหะอัลคาไล, ไฮดรอกไซด์ของโลหะอัลคาไลห์เอิร์ธ, เกลือที่เป็นเบส, เอมีนและแอมโมเนีย6. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate according to claim 1, with pH adjustment with one or more substances selected from the alkyl hydroxide group. Alkali, alkali hydroxides of alkali-earth metals, basal salts, amines and ammonia.7. สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ตามข้อถือสิทธิ ข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 6 โดยที่ฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ดังกล่าวคือฐานรอง ที่เป็นควอตซ์สังเคราะห์ซํ่งใช้ทำแผ่นบังแสง ------------ 4 กรกฎาคม 2560 1.สารเหลวข้นสำหรับขัดเพื่อใช้กับฐานรองที่เป็นแก้วควอตซ์สังเคราะห์ซึ่งประกอบด้วย สารละลายที่เป็นคอลลอยด์และส่วนประกอบที่เลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วยพอลิเมอร์ของกรด คาร์บอกซีลิก, กรดแอซิดิกอะมิโน, เฟนอลและไกลคอสอะมิโนไกลแคนโดยที่สารละลายที่เป็น คอลลอยด์ดังกล่าวมีความเข้มข้นของคอลลอยด์ตั้งแต่ 20 ถึง 50% โดยมวลและมีค่า pH ตั้งแต่ 9 ถึง 10.57. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate as claimed. Any one of claims 1 to 6 where the synthetic quartz glass substrate is a substrate. Synthetic quartz used to make shading pads ------------ 4 July 2017 1. Polishing agent for use with synthetic quartz glass substrate consisting of Colloidal solutions and their constituents are selected from the group containing acid polymers. Carboxylic, acidic amino acid, phenol and glycosamide, the solution being Such colloids have a colloidal concentration of 20 to 50% by mass and have a pH ranging from 9 to 10.5.
TH901002504A2009-06-04
Polishing agent for synthetic quartz glass substrate
TH77403B
(en)
Process for water purification which includes adding to the water to be purified natural calcium carbonate by reacting on the surface or an aqueous suspension, which has a ph greater than 6.0 measured at 20 degrees Celsius; and a compound of natural calcium carbonate