TH7516A - Stable hydrogen peroxide mixture - Google Patents

Stable hydrogen peroxide mixture

Info

Publication number
TH7516A
TH7516A TH8901000761A TH8901000761A TH7516A TH 7516 A TH7516 A TH 7516A TH 8901000761 A TH8901000761 A TH 8901000761A TH 8901000761 A TH8901000761 A TH 8901000761A TH 7516 A TH7516 A TH 7516A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
hydrogen peroxide
mixture
mixture according
alkyl
hydrogen
Prior art date
Application number
TH8901000761A
Other languages
Thai (th)
Inventor
อี เฮกคิลา นายเคิร์ท
เอ โบท์เนน นายบรูซ
เค วิลเลี่ยมส์ นายรอดเน่ย์
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
อีไอ ดู ปอนท์ เดอ เนมูร์ซ แอนด์ คัมปะนี
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, อีไอ ดู ปอนท์ เดอ เนมูร์ซ แอนด์ คัมปะนี filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH7516A publication Critical patent/TH7516A/en

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับสารละลายไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ โดย ##เป็นสูตรเคมี ซึ่ง X คือหมู่เชื่อมต่อ และ Y คือแคทไอออนของโลหะ หรือ H ซึ่งสารประกอบละลายน้ำได้ในไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ ใน ความมุ่งหมายประการที่สองของการประดิษฐ์ สารละลายไฮโดร เจน เพอร์ออกไซด์ที่เสถียร มีกรดแร่ซึ่งเหมาะสำหรับการกัด กร่อน ผิวหน้าของโลหะของซับสเทรทโลหะ เช่นแผงวงจรไฟฟ้าThis invention relates to a hydrogen peroxide solution, whose chemical formula is ##, where X is the linking group and Y is the metal cation, or H, which is a water-soluble compound in hydrogen peroxide. The second purpose of the invention is to create a stable hydrogen peroxide solution containing a mineral acid suitable for corroding the surface of metal substrates, such as printed circuit boards.

Claims (14)

1. สารผสมไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ที่เสถียรประกอบด้วยไฮโดรเจน เพอรืออกไซด์ และสารประกอบที่มีสูตรต่อไปนี้ ##เป็นสูตรเคมี ซึ่ง X คือหมู่เชื่อมต่อ และ Y คือแคทไอออนของโลหะ หรือ H ซึ่งสารประกอบละลายในไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์1. A stable hydrogen peroxide mixture consists of hydrogen peroxide and a compound with the following chemical formula: ##, where X is the linkage group and Y is the metal cation, or H, which dissolves in hydrogen peroxide. 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่ง X คือ แอลคิลที่ถูก แทนที่ ซึ่งส่วนแอลคิลมีคาร์บอน 1 ถึง 13 อะตอม2. A mixture pursuant to claim 1, where X is a substituted alkyl, the alkyl fraction having 1 to 13 carbon atoms. 3. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่ง X มีสูตร (สูตรเคมี) ซึ่ง R1 และ R2 ไม่ขึ้นต่อกัน คือ H หรือ C1-C9 แอลคิล หรือหมู่ไซคลิคขนาด C5 หรือ C6 ที่อิ่มตัว หรือไม่อิ่มตัว และ m และ n ไม่ขึ้นต่อกัน คือเลขจำนวนเต็มจาก 0 ถึง 9 โดย มีข้อแม้ว่าผลรวมของ m และ n ไม่มากไปกว่า 123. A mixture according to claim 1, in which X has a formula (chemical formula) such that R1 and R2 are independent of each other, being H or C1-C9 alkyl or saturated or unsaturated cyclic groups of size C5 or C6, and m and n are independent integers from 0 to 9, provided that the sum of m and n does not exceed 12. 4. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ซึ่ง R1 และ R2 เหมือนกัน และคือ H หรือ C1-C4 แอลคิล4. A mixture according to claim 3 in which R1 and R2 are the same and are H or C1-C4 alkyl. 5. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่ง Y คือ ไฮโดรเจน5. A mixture according to claim 1, where Y is hydrogen. 6. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ซึ่ง Y คือไฮโดรเจน6. A mixture according to claim 3, where Y is hydrogen. 7. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ซึ่งมีสารประกอบกรดซัลฟา นิลิค7. A mixture as per claim 1, containing sulfanilic acid compounds. 8. สารผสมกัดกร่อนทางเคมีในน้ำ ซึ่งประกอบด้วย : (ก) น้ำ (ข) ไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ (ค) กรดแร่ (ง) สารประกอบที่มีสูตร (สูตรเคมี) ซึ่ง X คือหมู่เชื่อมต่อ และ Y คือแคทไอออนของโลหะ ซึ่งสาร ประกอบละลายในไฮโดรเจนเพอร์ออกไซด์8. A chemically corrosive mixture in water, consisting of: (a) water, (b) hydrogen peroxide, (c) a mineral acid, and (d) a compound with the formula (chemical formula) where X is a linkage group and Y is a metal cation, which is dissolved in hydrogen peroxide. 9. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 8 ซึ่ง x คือส่วนแอลคิลที่ ถูกแทนที่ ซึ่งส่วนแอลคิลมีคาร์บอน 1 ถึง 13 อะตอม9. A mixture pursuant to claim number 8, where x is the substituted alkyl fraction containing 1 to 13 carbon atoms. 10. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 8 ซึ่ง X มีสูตร : (สูตรเคมี) ซึ่ง R1 และ R2 ไม่ขึ้นต่อกัน คือ H หรือ C1-C9 แอลคิล หรือหมู่ไซคลิคขนาด C5 หรือ C6 ชนิดอิ่มตัวหรือไม่อิ่มตัว และ m และ n ไม่ขึ้นต่อกัน คือเลขจำนวนเต็มจาก 1 ถึง 9 โดย มีข้อแม้ว่าผลรวมของ m และ n ต้องไม่มากเกิน 1210. A mixture according to claim 8, in which X has the formula: (chemical formula), where R1 and R2 are independent, being H or C1-C9 alkyl or cyclic groups of size C5 or C6, saturated or unsaturated, and m and n are independent integers from 1 to 9, provided that the sum of m and n does not exceed 12. 11. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 10 ซึ่ง R1 และ R2 เหมือน กัน และคือ H หรือ C1-C4 แอลคิล11. A mixture according to claim 10 in which R1 and R2 are identical and are H or C1-C4 alkyl. 12. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 8 ซึ่ง Y คือไฮโดรเจน12. A mixture according to claim number 8, where Y is hydrogen. 13. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อที่ 10 ซึ่ง Y คือไฮโดรเจน13. A mixture according to claim 10, where Y is hydrogen. 14. วิธีการทำให้เกิดแผงวงจรไฟฟ้า ที่ประกอบด้วยการกักร่อน ผิวหน้าที่มีส่วนของโลหะ กับสารผสม ซึ่งประกอบด้วย : (ก) น้ำ (ข) ไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ (ค) กรดแร่ (ง) สารประกอบที่มีสูตร (สูตรเคมี) ซึ่ง X คือหมู่เชื่อมต่อ และ Y คือแคทไออนของโลหะ หรือ H ซึ่งสารประกอบละลายในไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ (ข้อถือสิทธิ 14 ข้อ, 3 หน้า, - รูป)14. Method for creating an electrical circuit board consisting of an ionized surface containing a metal particle and a mixture of: (a) water, (b) hydrogen peroxide, (c) a mineral acid, (d) a compound with the formula (chemical formula) where X is the coupling group and Y is the metal cation or H, in which the compound is dissolved in hydrogen peroxide. (14 claims, 3 pages, - image)
TH8901000761A 1989-07-27 Stable hydrogen peroxide mixture TH7516A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH7516A true TH7516A (en) 1990-04-02

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR910003149A (en) Aqueous and Hydrogen Oxide Compositions and Methods of Making Printed Wiring Boards With Them
KR970011024A (en) Electroplating method
IL103895A (en) Displacement metal aqueous plating solution comprising imidazole- 2-thione complexing agent and its use
KR890013041A (en) Oxa-alkane polyphosphonic acid, use as thresholders and complexing compositions containing the compound
DE69401453T2 (en) Composition for the treatment of copper or copper alloys
ATE41136T1 (en) POLYMERS CONTAINING CARBON ACID, SULPHONIC ACID AND QUATERNARY AMMONIUM GROUPS FOR PREVENTING BOILING AND CORROSION.
KR880001457B1 (en) Compositions for Removing Solder from Copper Substrates
NZ215544A (en) A namno 4 etching or de-smearing solution
SE8206447L (en) DETAILED COMPOSITION AND PROCEDURE
US4756881A (en) Composition of corrosion inhibitors for cooling water systems using chemically modified acrylamide or methacrylamide polymers
KR860003753A (en) Method of manufacturing a copper throw printed circuit board
ATE113059T1 (en) NUCLEOSIDE DERIVATIVES.
IE45090L (en) N-phosphonomethylene - aminoalkane phosphonic acids.
CN111206249A (en) Chloride ion-resistant copper surface microetching agent and preparation method thereof
ATE40846T1 (en) RADIATION POLYMERIZABLE COMPOUND.
ES8205902A1 (en) Stable aqueous formulations of stilbene brighteners.
CA2068761A1 (en) Method for use of preflux, printed wiring board, and method for production thereof
KR900001881A (en) A hydrogen peroxide composition containing substituted aminobenzaldehyde and a method for producing a printed wiring board therefrom.
ES8706371A1 (en) Tetrazolyl compounds useful as insectides.
DE68910655D1 (en) Scale prevention.
MY103242A (en) Process for separating rare earths by liquid-liquid extraction
EP0353083A3 (en) Hydrogen peroxide compositions containing a substituted oxybenzene compound
BR8502882A (en) PROCEDURE FOR OBTAINING COATING MEDIA, AND PROCESS FOR PAINTING BY ELECTROSPOSITION CATHODIC OF ELECTROCONDUCTING SUBSTRATES
MX166644B (en) COMPOSITION AND PROCEDURE FOR CONDITIONING THE SURFACE OF PLASTIC SUBSTRATES BEFORE METAL ELECTRICAL DEPOSIT
TH7401A (en) A mixture of hydrogen peroxide containing aminobenzaldehyde with a substituent group.