TH72662A - - Google Patents

Info

Publication number
TH72662A
TH72662A TH401003027A TH0401003027A TH72662A TH 72662 A TH72662 A TH 72662A TH 401003027 A TH401003027 A TH 401003027A TH 0401003027 A TH0401003027 A TH 0401003027A TH 72662 A TH72662 A TH 72662A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
halogen
solution
carbon atoms
hydroxy
alkyl
Prior art date
Application number
TH401003027A
Other languages
Thai (th)
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายบุญมา เตชะวณิช นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Publication of TH72662A publication Critical patent/TH72662A/th

Links

Abstract

DC60 (26/03/57) สารละลายเอเควียส อะซิดิกสำหรับการสะสมตัวโดยวิธีอิเลคโตรไลซิสตัวเคลือบคอบเปอร์ที่ มันเงาสูง, ตกแต่งให้สว่างสดใส, เรียบลื่น และราบเรียบ บนชิ้นส่วน โลหะหรือพลาสติกพื้นที่ขนาด ใหญ่ ประกอบด้วย a) อย่างน้อยหนึ่งสารเติมแต่งโมเลกุลสูงที่มีออกซิเจน และ b) อย่างน้อยหนึ่ง สารประกอบซัลเฟอร์ที่ละลายน้ำได้, ที่ซึ่งสารละลายยังประกอบไปอีกด้วย c) อย่างน้อยหนึ่งอนุพันธ์ อะโรมาติก ฮาโลเจน ที่มีสูตรทั่วไป (l), ที่ซึ่ง R1, R2, R3, R4, R5 และ R6 แต่ละตัวอย่างอิสระต่อกันคือ อนุมูลอันเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจน, อัลดีไฮด์, อะซีทิล, ไฮดรอกซี, ไฮดรอกซีอัลคิล ที่มี 1-4 คาร์บอน อะตอม, อัลคิลที่มี 1-4 คาร์บอน อะตอม และฮาโลเจน, ด้วยเงื่อนไขที่จำนวนของ เรสิดิว R1, R2, R3, R4, R5 และ R6 ซึ่งเป็นฮาโลเจนอยู่ในช่วงจาก 1 ถึง 5 (สูตรเคมี) (l) สารละลายเอเควียส อะซิดิกสำหรับการสะสมตัวโดยวิธีอิเลคโตรไลซิสการเคลือบคอปเปอร์ ที่มันเงาสูง, ตกแต่งให้สว่างสดใส, เรียบลื่น และราบเรียบ บนชิ้นส่วนโลหะหรือพลาสติกพื้นที่ขนาด ใหญ่ ประกอบด้วย a) อย่างน้อยหนึ่งสารเติมแต่งโมเลกุลสูงที่มีออกซิเจน และ b) อย่างน้อยหนึ่งสาร ประกอบซัลเฟอร์ที่ละลายน้ำได้, ที่ซึ่งสารละลายยังประกอบไปอีกด้วย c) อย่างน้อยหนึ่งอนุพันธ์ อะโรมาติก ฮาโลเจน ที่มีสูตรทั่วไป (l), ที่ซึ่ง R1, R2, R3, R4, R5 และ R6 แต่ละตัวอย่างอิสระต่อกันคือ อนุมูลอันเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไฮโดรเจน, อัลดีไฮด์, อะซีทิล, ไฮดรอกซี, ไฮดรอกซีอัลคิลที่มี 1-4 คาร์บอน อะตอม, อัลคิลที่มี 1-4 คาร์บอน อะตอม และฮาโลเจน, ด้วยเงื่อนไขที่จำนวนของเรสิดิว R1, R2, R3, R4, R5 และ R6 ซึ่งเป็นฮาโลเจนอยู่ในช่วงจาก 1 ถึง 5 (สูตรเคมี) (l) DC60 (26/03/57) Akvey solution Acidic deposition by electrolysis method Highly shiny cobper coatings, bright, smooth and smooth finish on metal or plastic parts.Large areas consist of a) at least. One high molecular additive containing at least one oxygen and b) Soluble sulfur compounds, where the solution also contains c) at least one aromatic halogen derivative with the general formula (l), where R1, R2, R3, R4, R5 and R6 each An independent example is Selected radicals from groups containing hydrogen, aldehyde, acetyl, hydroxy, hydroxy alkyl with 1-4 carbon atoms, alkyl with 1-4. Carbon atoms and halogen, with the condition that the number of halogen R1, R2, R3, R4, R5 and R6 resin in the range from 1 to 5 (chemical formula) (l) aqueous solution. S Acidic deposition by electrolysis method, copper coating A high gloss, bright, smooth and smooth finish on metal or plastic parts. A large area contains a) at least one oxygen-containing high-molecular additive, and b) at least one. Contains soluble sulfur, where the solution also contains c) at least one aromatic halogen derivative with the general formula (l), where R1, R2, R3, R4, R5 and R6 each An independent example is Selected radicals from groups containing hydrogen, aldehyde, acetyl, hydroxy, hydroxy alkyl with 1-4 carbon atoms, alkyl with 1-4. Carbon atoms and halogen, with the condition that the number of halogen R1, R2, R3, R4, R5 and R6 halogen in the range from 1 to 5 (chemical formula) (l).

Claims (1)

1. สารละลายเอเควียส อะซิดิกสำหรับการสะสมตัวการเคลือบคอปเปอร์โดยวิธีอิเลคโตรไล ซิส, สารละลายดังกล่าวประกอบด้วยอย่างน้อยหนึ่งสารเติมแต่งโมเลกุลสูงที่มีออกซิเจน และอย่าง น้อยหนึ่งสารประกอบซัลเฟอร์ที่ละลายน้ำได้, มีลักษณะที่สารละลายยังประกอบด้วยอย่างน้อยหนึ่ง อนุพันธ์ อะโรมาติก ฮาโลเจน ที่มีสูตรทั่วไป (I) (สูตรเคมี) (l) ที่ซึ่ง R1, R2, R3, R4, R5 และ R6 แต่ละตัวอย่างอิสระต่อกันคืออนุมูลอันเลือกมาจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไฮโดรเจน, อแท็ก :1. Aquias solution Acetic for copper coating deposition by electrolysis method, such solution contains at least one oxygen-containing high-molecular additive and at least one soluble sulfur compound, characterized by The solution also contains at least one aromatic halogen derivative with the general formula (I) (chemical formula) (l), where R1, R2, R3, R4, R5 and R6 each are independent of the selected radicals. From the group containing hydrogen, tag:
TH401003027A 2004-08-06 TH72662A (en)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH72662A true TH72662A (en) 2005-11-24

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2007028511A3 (en) Coatings containing polysilazanes for metal and polymer surfaces
US4086128A (en) Process for roughening surface of epoxy resin
WO2006088686A3 (en) Organoaluminum precursor compounds
PT1114206E (en) ALCALINE AQUALINE BATH AND CYANIDE FREE FOR THE ELECTRODEPOSIS OF ZINC COATING OR ZINC ALLOYS
MX2009005731A (en) Antimicrobial composition for finishing textiles.
CN105131797A (en) Plastic electroplating technology for automobile trim strips
BR0302051A (en) Acidic hexavalent chromium free aqueous solution, process for preparing corrosion resistant trivalent chromium coating and article
CN105111487A (en) ABS film electroplating process for automobile electroformed label
ATE274932T1 (en) LEUKOCYTE FILTER AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
BR112017002502A2 (en) treatment for electroplating brackets to prevent bracket metallization
ATE384808T1 (en) AQUEOUS ACID SOLUTION AND METHOD FOR THE ELECTROLYTIC DEPOSITION OF COPPER COATINGS AND USE OF THE SOLUTION
EP0509695B1 (en) Tetraoximino derivatives of bisphenol and their use as coating agents
TH72662A (en)
DE602006005230D1 (en) PROCESS FOR PREPARING 2-AZABICYCLOÄ3.3.0ÜOCTAN-3-CARBOXYLIC ACID DERIVATIVES
US20190085460A1 (en) Multilayer compositions
ATE383353T1 (en) METHOD FOR PRODUCING 2-ALKYL-3-AMINOTHIOPHENE DERIVATIVES AND 3-AMINOTHIOPHENE DERIVATIVES
TWI526582B (en) Method for producing matt copper deposits
RS53749B1 (en) 4-(methylaminophenoxy)pyrdin-3-yl-benzamide derivatives for treating cancer
WO2000017420A3 (en) Method for improving the macro throwing power for nickel, zinc orzinc alloy electroplating baths
DE60044362D1 (en) Process for producing an electroplating bath and associated copper plating process
WO2002055568A3 (en) Use of polyolefins with alkaline, aromatic substituents as auxiliaries in the electrolytic deposition of metal layers
CN113614290B (en) Nickel or nickel alloy electroplating bath for depositing semi-bright nickel or semi-bright nickel alloy coatings
ATE238394T1 (en) USE OF NITROGEN-FREE COMPOUNDS AS ADHESION PROMOTERS FOR SILICON-BASED SCRATCH-RESISTANT COATINGS ON POLYCARBONATE
ATE537226T1 (en) USE OF A PLASTISOL FOR COATING METAL DEPOSITION TOOLS
ATE299498T1 (en) METHOD FOR PRODUCING IMIDAZOLE DERIVATIVES