TH71822B - สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิดที่มีฟิล์มที่ถูกทำให้ตกสะสมแบบไอ และวิธีการของการผลิตสิ่งเดียวกันนี้ - Google Patents
สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิดที่มีฟิล์มที่ถูกทำให้ตกสะสมแบบไอ และวิธีการของการผลิตสิ่งเดียวกันนี้Info
- Publication number
- TH71822B TH71822B TH1401005516A TH1401005516A TH71822B TH 71822 B TH71822 B TH 71822B TH 1401005516 A TH1401005516 A TH 1401005516A TH 1401005516 A TH1401005516 A TH 1401005516A TH 71822 B TH71822 B TH 71822B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- poly
- lactic acid
- output
- plasma
- practice
- Prior art date
Links
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 title claims abstract 16
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 9
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims abstract 8
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract 8
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims abstract 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract 3
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims abstract 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 3
- 229910017488 Cu K Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910002483 Cu Ka Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910017541 Cu-K Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 claims 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 abstract 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (17/11/57) สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิด ซึ่งประกอบด้วยวัสดุพื้นฐานของโพลีแลคติก แอซิด 1 และฟิล์มไฮโดรคาร์บอน 3 ที่ถูกทำให้ตกสะสมแบบไอบนพื้นผิวของวัสดุพื้นฐานโดย วิธีการแบบพลาสมา CVD, ที่ซึ่งวัสดุพื้นฐานของโพลีแลคติกแอซิด 1 จะแสดงพีคของการ เลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ที่ชัดเจน ในที่ซึ่งความกว้างครึ่งหนึ่งของพีคที่ปรากฏในการวัดค่า ของรังสีเอ็กซ์แบบมุมกว้าง 10องศา -25องศา จะไม่มากกว่า 1.22องศา, และฟิล์มไฮโดรคาร์บอน 3 จะถูกทำให้ ตกสะสมแบบไอบนพื้นผิวของวัสดุพื้นฐานของโพลีแลคติกแอซิด 1, และรวมถึงสองชั้นของชั้น ที่มี CH2 สูง 3a ที่มีอัตราส่วนของ CH2 ต่อจำนวนทั้งหมดของ CH, CH2 และ CH3 เป็น ไม่น้อยกว่า 40% และชั้นที่มี CH2 ต่ำ 3b ที่ถูกสร้างขึ้นบนชั้นที่มี CH2 สูง 3a และที่มีอัตราส่วน ของ CH2 ต่อจำนวนทั้งหมดของ CH, CH2 และ CH3 เป็นไม่น้อยกว่า 35% สิ่งของขึ้นรูปของ โพลีแลคติกแอซิดจะมีฟิล์มไฮโดรคาร์บอนที่ถูกทำให้ตกสะสมแบบไอบนวัสดุพื้นฐานของ โพลีแลคติกแอซิด ซึ่งคงรักษาการยึดติดที่แนบสนิทมากไว้ตลอดขั้นตอนของพลาสมา CVD ที่ต่อเนื่อง โดยไม่มีความจำเป็นของการเปลี่ยนแปลงไปทั้งหมดของก๊าซของการเกิดปฏิกิริยา และโดยไม่มีการทำให้วัสดุพื้นฐานของโพลีแลคติกแอซิดถูกทำให้เสียรูปทางความร้อน หรือ ถูกทำให้เสื่อมสภาพทางความร้อน
Claims (9)
1. สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิด ซึ่งประกอบรวมด้วยวัสดุพื้นฐานของโพลีแลคติก แอซิด และฟิล์มไฮโดรคาร์บอนที่ถูกทำให้ตกสะสมแบบไอบนพื้นผิวของวัสดุพื้นฐานโดยวิธีการ แบบพลาสมา CVD, ที่ซึ่ง วัสดุพื้นฐานของโพลีแลคติกแอซิดดังกล่าวจะแสดงพีคของการเลี้ยวเบนของรังสีเอ็กซ์ ที่ชัดเจน ในที่ซึ่งความกว้างครึ่งหนึ่งของพีคของการเลี้ยวเบนที่ถูกวัดค่าตลอดช่วงของ 20 = 10 องศา ถึง 25 องศา ในการวัดค่าของรังสีเอ็กซ์แบบมุมกว้างด้วยแหล่งของรังสี Cu-K(X (30 กิโลโวลต์, 100 มิลลิแอมแปร์) จะไม่มากกว่า 1.22?, และ ฟิล์มไฮโดรคาร์บอนดังกล่าวจะถูกทำให้ตกสะสมแบบไอบนพื้นผิวของวัสดุพื้นฐานของ โพลีแลคติกแอซิด, และจะรวมถึงสองชั้นของชั้นที่มี CH2 สูง ที่มีอัตราส่วนของ CH2ต่อจำนวน ทั้งหมดของ CH, CH2นละ CH, เป็นไม่น้อยกว่า 40% และชั้นที่มี CH2 ต่ำ ที่ถูกสร้างขึ้นบนชั้นที่มี CH2 สูงดังกล่าว และที่มีอัตราส่วนของ CH2 ต่อจำนวนทั้งหมดของ CH,CH2 และ CH3 เป็น ไม่มากกว่า 35%
2. สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิดตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ที่ซึ่งอัตราส่วนของ CH2 ในชั้นที่มี CH2 สูงดังกล่าว จะอยู่ในช่วงของไม่น้อยกว่า 44% แต่น้อยกว่า 60%
3. สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอ1ชิดตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ที่ซึ่งความหนาของชั้นที่มี CH2สูงดังกล่าวจะอยู่ไนช่วงของ 5 ถึง 15 นาโนเมตร และความหนาของชั้นที่มี CH2 ต่ำดังกล่าว จะอยู่ในช่วงของ 15 ถึง 100 นาโนเมตร
4. สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิดตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ที่ซึ่งสิ่งของขึ้นรูปดังกล่าว คือ ขวด
5. วิธีการของการผลิตสิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิดที่มีฟิล์มที่ถูกทำให้ตกสะสม แบบไอ, ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของการป้อน, ในฐานะก๊าซของการเกิดปฏิกิริยา, ก๊าซของ หน้า 2 ของจำนวน 3 หน้า อย่างน้อยหนึ่งชนิดของสารประกอบไฮโดรคาร์บอนที่เลือกได้จากอะลิฟาติกไฮโดรคาร์บอน ที่ไม่อิ่มตัว และอะโรมาติกไฮโดรคาร์บอน, และการทำให้ตกสะสมแบบไอของฟิล์ม ไฮโดรคาร์บอนบนพื้นผิวของสิ่งของดึงยืดขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอดโดยพลาสมา CVD, ที่ซึ่ง สิ่งของดึงยืดขึ้นรูปดังกล่าวของโพลีแลคติกแอซิดจะแสดงพีคของการเลี้ยวเบนของรังสี เอ็กซ์ที่ชัดเจน ในที่ซึ่งความกว้างครั้งหนึ่งของพีคของการเลี้ยวเบนที่ถูกวัดค่าตลอดช่วงของ 20 = 10 องศา ถึง 25 องศา ในการวัดค่าของรังสีเอ็กซ์แบบมุมกว้างด้วยแหล่งของรังสี Cu-Ka (30 กิโลโวลต์, 100 มิลลิแอมแปร์) จะไม่มากกว่า 1.22?, และ ในขั้นตอนของการทำให้ตกสะสมแบบไอของฟิล์มไฮโดรคาร์บอนดังกล่าว, การปฏิบัติ แบบพลาสมาจะถูกดำเนินการด้วยเอาท์พุทที่น้อยในขั้นแรกเริ่มของการสร้างขึ้นของฟิล์มเพื่อ สร้างขึ้นเป็นชั้นที่มี CH2 สูง ที่มีอัตราส่วนของ CH2ต่อจำนวนทั้งหมดของ CH, CH2และ CH3 เป็นไม่น้อยกว่า 40%และ, ต่อมา, การปฏิบัติแบบพลาสมาจะถูกดำเนินการด้วยเอาท์พุท ที่มากเพื่อสร้างขึ้นเป็นชั้นที่มี CH2 ตา ที่มีอั1ตราส่วนของ CH2 ต่อจำนวนทั้งหมดของ CH, CH2 และ CH3 เป็นไม่มากกว่า 35% การปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่น้อย และเอาท์พุทที่มากจะถูกดำเนินการด้วย เอาท์พุทเป็น 350 ถึง 600 วัตต์ ขณะที่การปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่มากจะถูกดำเนินการ โดยการใช้ไมโครเวฟ, และการปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่น้อยจะถูกดำเนินการด้วย เอาท์พุทเป็น 350 ถึง 600 วัตต์ ขณะที่การปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่มากจะถูกดำเนินการ ด้วยเอาท์พุทเป็น 1000 ถึง 1400 วัตต์
6. วิธีการของการผลิตตามข้อลือสิทธิข้อที่ 5, ที่ซึ่งการปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุท ที่น้อยจะถูกดำเนินการเป็นเวลา 0.9 ถึง 3.0 วินาที ขณะที่การปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุท ที่มากจะถูกดำเนินการเป็นเวลา 0.4 ถึง 2.7 วินาที
7. วิธีการของการผลิตตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5, ที่ซึ่งเอาท์พุทชักนำเป็นไม่น้อยกว่า 650 วัตต์ จะถูกประยุกต์ใช้ก่อนการดำเนินการของการปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่น้อย หน้า 3 ของจำนวน 3 หน้า
8. วิธีการของการผลิตตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5, ที่ซึ่งก๊าซของการเกิดปฏิกิริยาที่มี องค์ประกอบที่เหมือนกันจะถูกป้อนตลอดการปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่น้อย และ การปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่มาก
9. วิธีการของการผลิตตามข้อถือสิทธิข้อที่ 5, ที่ซึ่งบัตราการไหลของก๊าซของ การเกิดปฏิกิริยาจะไม่ถูกเปลี่ยนแปลงอย่างแท้จริงตลอดการปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุท ที่น้อย และการปฏิบัติแบบพลาสมาด้วยเอาท์พุทที่มาก
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH147244A TH147244A (th) | 2016-03-04 |
| TH71822B true TH71822B (th) | 2019-10-02 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Yu et al. | New synthesis method for the growth of epitaxial graphene | |
| JP5105028B2 (ja) | グラフェンを含む導電性薄膜および透明導電膜 | |
| Stehle et al. | Synthesis of hexagonal boron nitride monolayer: control of nucleation and crystal morphology | |
| Wang et al. | Graphene wrinkling: formation, evolution and collapse | |
| TW201245476A (en) | Vapor-deposited film having barrier performance | |
| MX395343B (es) | Peliculas recubiertas y envases formados de las mismas. | |
| WO2015116297A3 (en) | Sequential processing with vapor treatment of thin films of organic-inorganic perovskite materials | |
| WO2016197097A3 (en) | Methods to enhance bioavailability of organic small molecules and deposited films made therefrom | |
| BR112022003863A2 (pt) | Elemento de aquecimento susceptor formado de material de memória de forma para dispositivo gerador de aerossol | |
| TW200802727A (en) | Electrical components for microelectronic devices and methods of forming the same | |
| PH12019500047A1 (en) | Multilayer sheet for thermoforming having improved sagging resistance | |
| CL2018001093A1 (es) | Método para la deposición de capas funcionales adecuadas para tubos receptores de calor | |
| Kim et al. | Resonance effects in thickness-dependent ultrafast carrier and phonon dynamics of topological insulator Bi2Se3 | |
| NO20101071L (no) | Kryssbindbar blanding til produksjon av en lagdelt artikkel | |
| Chen et al. | Growth mechanism of hydrogenated amorphous carbon films: Molecular dynamics simulations | |
| TH71822B (th) | สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิดที่มีฟิล์มที่ถูกทำให้ตกสะสมแบบไอ และวิธีการของการผลิตสิ่งเดียวกันนี้ | |
| TH147244A (th) | สิ่งของขึ้นรูปของโพลีแลคติกแอซิดที่มีฟิล์มที่ถูกทำให้ตกสะสมแบบไอ และวิธีการของการผลิตสิ่งเดียวกันนี้ | |
| Mladenović et al. | Effects of thermal disorder on the electronic properties of ordered polymers | |
| JP2018089950A (ja) | 窒化珪素積層フィルム、有機エレクトロルミネッセンス素子、電子ペーパー及び光学調整フィルム並びに窒化珪素積層フィルムの製造方法 | |
| Durairaj et al. | Parafilm Enabled Rapid and Scalable Delamination/Integration of Graphene for High‐Performance Capacitive Touch Sensor | |
| Guerrero-Sanchez et al. | Ab-initio studies of the Sc adsorption and the ScN thin film formation on the GaN (000-1)-(2× 2) surface | |
| Rezvan et al. | Investigation of Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition as the Method of Obtaining Graphene Films | |
| Shinohara et al. | Difference of deposition process of an amorphous carbon film due to source gases | |
| AR088049A1 (es) | Metodo para recubrir un sustrato para formar un sustrato recubierto coloreado, metodo para fabricar un sustrato recubierto coloreado en un sistema de deposicion por arco catodico y sustrato recubierto coloreado obtenido | |
| KR20170128278A (ko) | 적층체 및 그 제조 방법, 그리고 가스 배리어 필름 및 그 제조 방법 |