TH6875B - Method C4 for low-temperature three-substance (ternary) systems. - Google Patents

Method C4 for low-temperature three-substance (ternary) systems.

Info

Publication number
TH6875B
TH6875B TH9501000576A TH9501000576A TH6875B TH 6875 B TH6875 B TH 6875B TH 9501000576 A TH9501000576 A TH 9501000576A TH 9501000576 A TH9501000576 A TH 9501000576A TH 6875 B TH6875 B TH 6875B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
chip
melting point
low melting
alloys
melt
Prior art date
Application number
TH9501000576A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH20255A (en
Inventor
แอนโธนีพอล อิงเกรแฮม นาย
โธมัสแพทริค กัลล์ นาย
Original Assignee
นาย ดำเนินการเด่น
นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก
นาย วิรัชศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายดำเนิน การเด่น
นายดำเนิน การเด่น นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นาย วิรัชศรีเอนกราธา นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก นาย ดำเนินการเด่น
Filing date
Publication date
Application filed by นาย ดำเนินการเด่น, นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก, นาย วิรัชศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายดำเนิน การเด่น, นายดำเนิน การเด่น นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นาย วิรัชศรีเอนกราธา นาย ต่อพงศ์โทณะวณิก นาย ดำเนินการเด่น filed Critical นาย ดำเนินการเด่น
Publication of TH20255A publication Critical patent/TH20255A/en
Publication of TH6875B publication Critical patent/TH6875B/en

Links

Abstract

ที่ได้เปิดเผยไปคือวิธีการเพิ่มชิพแบบฟลิพของชิพของวงจรรวมกับตัวรองรับชิพ (chip carrier). ตามวิธีการที่ได้เปิดเผยวิธีหนึ่ง ส่วนประกอบซึ่งมีอุณหภูมิหลอมเหลวสูง อย่างเช่น โลหะผสมไบนารี Pb/Sn ถูกแปะติดบน ,ยกตัวอย่าง,ชิพ, และส่วนผสมของส่วนประกอบซึ่งมี จุดหลอมเหลวต่ำ, ตัวอย่างเช่น, Bi และ Sn, ถูกฉาบติดร่วมบนหน้าสัมผัสของ, ตัวอย่าง, ตัว รองรับชิพ (ชิพแคริเออร์). หลังจากนั้นชิพและตัวรองรับชิพถูกทำให้ร้อน. สิ่งนี้ทำให้ส่วน ประกอบซึ่งมีอุณหภูมิหลอมเหลวต่ำ, ตัวอย่าง Bi และ Sn, หลอมเหลวเกิดเป็นโลหะผสม ซึ่งมี อุณหภูมิหลอมเหลวต่ำ, อย่างเช่นโลหะผสม Bi/Sn.โลหะผสม ซึ่งมีจุดหลอมเหลวต่ำละลาย ส่วนประกอบซึ่งมีจุดหลอมเหลวสูงกว่า, อย่างเช่น Pb/Sn. สิ่งนี้เป็นผลให้เกิดพันธะโชลเดอร์ ของส่วนประกอบที่สามซึ่งมีจุดหลอมเหลวต่ำ อย่างเช่นโลหะผสมเทอร์นารีของ Bi/Pb/Sn What was revealed is a method for adding a flip of an integrated circuit chip to a chip carrier. Components with high melting temperatures such as Pb / Sn binary alloys are attached to, for example, chips, and a mixture of components that have Low melting point, for example, Bi and Sn, are co-plastered on the contacts of, for example, the chip carrier (chip carrier). After that, the chip and the chip support are heated. This makes the It is composed of low melting temperature, Bi and Sn samples, molten to form alloys with low melting temperatures, such as alloys. Bi / Sn.Alloy Which has a low melting point Components with a higher melting point, such as Pb / Sn. This results in a scholder bond. Of the third component which has a low melting point Such as Bi / Pb / Sn thermoplastic alloys.

Claims (6)

1. วิธีการของฟลิพชิพซึ่งทำหน้าที่เชื่อมชิพวงจรรวมกับตัวพาชิพ ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: พอกส่วนผสมแรกที่มีจุดหลอมเหลวสูงลงบนหน้าสัมผัสของชิพตัวหนึ่งและตัวพาชิพ, และพอกส่วนผสม ที่สองที่มีจุดหลอมเหลวต่ำกว่าลงบนหน้าสัมผัสตรงข้ามของชิพตัวหนึ่งและตัวพาชิพ, ให้ความร้อน แก่ชิพและตัวพาชิพ เพื่อทำให้ส่วนผสมที่มีจุดหลอมเหลวต่ำกว่าหลอมเหลว, และละลายส่วนผสมที่ มีจุดหลอมสูงเพื่อให้เกิดส่วนผสมที่สามในที่นั้น, ซึ่งยังคงมีส่วนผสมที่มีอุณหภูมิหลอมเหลวต่ำ และพันธะเชื่อมแบบโซลเดอร์ของอัลลอที่มีจุดหลอมเหลวต่ำ และเกิดเป็นส่วนที่สาม ซึ่งมีอุณหภูมิ หลอมเหลวต่ำ, และละลายส่วนผสมที่มีอุณหภูมิหลอมเหลวสูงในที่นั้นเพื่อให้เกิดเป็นพันธะเชื่อมแบบ โซลเดอร์ของอัลลอยที่มีอัลลอยซึ่งมีจุดหลอมเหลวต่ำ1. A flip chip method that connects the integrated circuit chip to the carrier chip. It consists of a process: Apply a high melting point first ingredient onto the contacts of one chip and the chip carrier, and mask the mixture. The second with a lower melting point is placed on the opposite contact of the chip and the chip carrier, heating the chip and the chip carrier. To melt the ingredients with a lower melting point, and melt the ingredients that It has a high melting point to form a third compound in there, which still has a low melting temperature mixture. And a low melting point alla solder bond. And formed the third part Which has a low melting temperature, and melts the high melting temperature mixture there to form a Alloys containing low melting point alloys 2. วิธีการเชื่อมชิพแบบฟลิบ ของชิพวงจรรวมกับตัวรองรับชิพซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ: แปะติด (ดีพอสิท) โลหะผสมไปนารี Pb/Sn บนหน้าสัมผัสของชิพ, และฉาบติดร่วม (โคคีพอสิท) Bi และ Sn บนตัวรองรับชิพ, ให้ความร้อนแก่ชิพและตัวรองรับชิพเพื่อทำให้ Bi และ Sn หลอมเหลวและเกิดเป็นโลหะผสม Bi/Sn ซึ่งมีอุณหภูมิหลอมเหลวต่ำ, และละลาย Pb/Sn ซึ่งมีจุดหลอมเหลวสูงกว่าในที่นั้นเพื่อให้เกิดเป็นพันธะโซลเดอร์ของโลหะผสมเทอร์นารี Bi/Pb/Sn ซึ่งมีจุดหลอมเหลวต่ำ2.Flip chip welding method Of the chip, the integrated circuit with the chip support consists of the steps of: Paste (Deposit), Pb / Sn alloys on chip contacts, and Coordinate (kokoposits) Bi and Sn on. The chip supports, heat the chip and the chip support to melt Bi and Sn and form Bi / Sn alloys with low melting temperatures, and melt Pb / Sn which has a higher melting point there to produce a Solder bond of Bi / Pb / Sn thermoplastic alloys with low melting point. 3. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 2 ที่ซึ่งโลหะผสมเทอร์นารีของ Bi/Pb/Sn ซึ่งมีจุดหลอม เหลวต่ำ ประกอบด้วยอย่างน้อย Bi 50%, Pb 20% ถึง 32% และส่วนเหลือเป็น Sn3. Claim 2 method, where Bi / Pb / Sn ternary alloys with low melting point consist of at least 50% Bi, 20% to 32% Pb, and the remainder of Sn. 4. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 2 ที่ซึ่งโลหะผสมเทอร์นารีของ Bi/Pb/Sn ซึ่งมีจุดหลอม เหลวต่ำ ประกอบด้วย Bi 50 ถึง 52.5% โดยน้ำหนัก Pb 20% ถึง 32 % โดยน้ำหนักส่วนที่เหลือ อย่างน้อยประมาณ 15.5% โดยน้ำหนักเป็น Sn4. Claim 2 method, where the low melting point Bi / Pb / Sn ternary alloy contains 50 to 52.5% Bi by 20% to 32% Pb wt. At least approximately 15.5% by weight in Sn 5. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 2 ประกอบด้วยการแปะติด (ดีพอสิท) โลหะผสมเทอร์นารีของ Bi/Sn บนตัวรองรับชิพ5. The Claim 2 method consists of bonding (depot) Bi / Sn turnary alloys onto the chip support. 6. วิธีการตามข้อถือสิทธิ 2 ประกอบด้วยการฉาบติด (ดีพอสิท) Bi และชั้นของ Sn บนตัวรองรับชิพ6. The method of claim 2 consists of plastering (depot) Bi and a layer of Sn on the chip support.
TH9501000576A 1995-03-20 Method C4 for low-temperature three-substance (ternary) systems. TH6875B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH20255A TH20255A (en) 1996-08-29
TH6875B true TH6875B (en) 1997-06-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2516326B2 (en) Ternary solder alloy, method of electrically connecting integrated circuit chip to substrate having circuit pattern formed thereon, and integrated circuit chip module
US5874043A (en) Lead-free, high tin ternary solder alloy of tin, silver, and indium
KR0167470B1 (en) Flip chip bonding method of ic chip onto chip carrier
KR970010891B1 (en) High Temperature Lead Free Tin Based Soldering Composition
KR0124518B1 (en) High Temperature Lead Free Tin Based Multi-Component Soldering Alloys
US6436730B1 (en) Microelectronic package comprising tin copper solder bump interconnections and method for forming same
KR0124517B1 (en) Lead-free, tin, antimony, bismtuh, copper solder alloy
US5730932A (en) Lead-free, tin-based multi-component solder alloys
KR101985646B1 (en) Low temperature high reliability tin alloy for soldering
JPH071179A (en) Lead-free tin-bismuth solder alloy
US3046651A (en) Soldering technique
US20010002982A1 (en) Lead-free, high tin ternary solder alloy of tin, silver, and bismuth
US20020092895A1 (en) Formation of a solder joint having a transient liquid phase by annealing and quenching
KR20010012083A (en) Lead Free Solder
JP3305596B2 (en) Solder alloy
TH20255A (en) Method C4 for low-temperature three-substance (ternary) systems.
TH6875B (en) Method C4 for low-temperature three-substance (ternary) systems.
JPH0985484A (en) Lead-free solder, mounting method and mounting product using the same
Zakel et al. Fluxless flip chip assembly on rigid and flexible polymer substrates using the Au-Sn metallurgy
WO1997047425A1 (en) Lead-free, high tin ternary solder alloy of tin, silver, and bismuth
JP3460442B2 (en) Lead-free solder and mounted products using it
KR100356413B1 (en) Method of reflow soldering in partial melting zone