TH65872B - Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials. - Google Patents
Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials.Info
- Publication number
- TH65872B TH65872B TH501001281A TH0501001281A TH65872B TH 65872 B TH65872 B TH 65872B TH 501001281 A TH501001281 A TH 501001281A TH 0501001281 A TH0501001281 A TH 0501001281A TH 65872 B TH65872 B TH 65872B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- group
- alkyl
- integers
- compounds
- abrasive
- Prior art date
Links
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract 5
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title abstract 2
- 238000005296 abrasive Methods 0.000 title 2
- 238000004377 microelectronic Methods 0.000 title 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract 3
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 abstract 1
- 125000004103 aminoalkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 abstract 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract 1
- 231100000078 corrosive Toxicity 0.000 abstract 1
- 231100001010 corrosive Toxicity 0.000 abstract 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 abstract 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 abstract 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 abstract 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (06/09/59) ได้มีการจัดเตรียมสารลอกโฟโตรีซิสต์ และสารผสมทำความสะอาดปลายย้อนกลับโดย สารผสมทำความสะอาดนอนแอคเควียสที่ไร้กรดอะมิโนที่โดยสาระสำคัญแล้วไม่กัดกร่อนทองแดง รวมทั้งอะลูมินัมและที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์มีขั้วอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, อะมีน อินทรีย์ที่ถูกไฮดรอกซิเลตอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดที่มีหมู่เชิงหน้าที่ไฮดรอกซิลหลายหมู่ซึ่งเป็นสารประกอบในสูตร T1[(CR1R2)m-(CR3R4)n]p-(CR5R6)q-T2 โดยที่ R1 และ R2 อย่างน้อยที่สุดหนึ่งหมู่ คือ OH, และถ้า R1 และ R2 หนึ่งหมู่ไมใช่ OH แล้ว จะถูก คัดเลือกจาก H, แอลคิล หรือแอลคอกซี, m คือ จำนวนเต็มทั้งหมดที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น, คัดเลือก R3 และ R4 จาก H ,แอลคิล หรือแอลคอกซี, n คือ 0 หรือจำนวนเต็มบวกทั้งหมดที่มากกว่านั้น , p คือ จำนวนเต็มทั้งหมดที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น , R5 และ R6 อย่างน้อยที่สุดหนึ่งหมู่ คือ OH และถ้า R5 และ R6 หนึ่งหมู่ไม่ใช่ OH แล้วควรคัดเลือกจาก H, แอลคิล หรือแอลคอกซี, q คือ จำนวนเต็มทั้งหมด ที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น, คัดเลือก T1 และ T2 จาก H ,หมู่แอลคิล, ไฮดรอกซีแอลคิล,พอลิไฮดรอกซี แอลคิล, อะมิโนแอลคิล, คาร์บอนิลแอลคิล หรืออะมีด หรือ T1 และ T2 อาจได้รับการเชื่อมต่อกันเพื่อ ก่อรูปโครงสร้างซึ่งคัดเลือกจากวงอะลิฟาทิก หรือโครงสร้างวงที่หลอมรวมและอย่างเป็นทางเลือก แล้ว คือ ตัวทำละลายร่วมที่มีไฮดรอกซิลหนึ่งชนิด หรือมากกว่านั้น, สารประกอบอะริลเพื่อการยับยั้ง การกัดกร่อนที่มีหมู่ OH, OR6 และ/หรือ SO2R6R7 สองหมู่ หรือมากกว่านั้นซึ่งเกิดพันธะอย่างโดยตรง กับแหวนอะโรมาทิกโดยที่อย่างเป็นอิสระแล้ว คัดเลือก R6,R7 และ R8 แต่ละหมู่จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยแอลคิล และอะริล, ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อนของโลหะ, สารประกอบยับยั้งการ กัดกร่อนโลหะชนิดที่แตกต่างกัน และสารลดแรงตึงผิว DC60 (06/09/16) has been prepared photoresist. And the reverse tip cleaning compound by A non-amino acid-free cleaning agent that does not corrode copper essentially Including aluminum and containing at least one polar organic solvent, at least one hydroxylated organic amine. And at least corrosion inhibitor compounds One of the most abundant hydroxyl functional groups, which are compounds in the formula T1 ((CR1R2) m- (CR3R4) n) p- (CR5R6) q-T2 where R1 and R2 at least one group is OH, and if one group of R1 and R2 is not OH then it is selected from H., Alkyls or Lcoxies, m is all integers that include 1 or more, select R3 and R4 from H, alkyl or alkoxy, n is 0 or all positive integers greater than that, p. Is all integers that include at least one group of 1 or more, R5 and R6, OH, and if R5 and R6 one group is not OH, then should be selected from H, alkyl or alkoxy, q is all integers that Combine 1 or more, select T1 and T2 from H, alkyl group, hydroxylkyl, polyhydroxylkyl, aminoalkyl, carbonic. Nyl, alkyl or amid or T1 and T2 may be interconnected to Forming a structure selected from an aliphatic circle Or a fused loop structure, and, optionally, a cofactor with one hydroxyl Or more, aryl compounds for inhibition Corrosion with two or more OH, OR6 and / or SO2R6R7 groups that form a direct bond. With the aromatic ring, where independently, R6, R7 and R8 are selected from each group Contains alkyls and aryls, metal complexing agents, inhibitory compounds. Corrosive to different metals And surfactants
Claims (1)
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH74877B TH74877B (en) | 2006-01-23 |
TH74877A TH74877A (en) | 2006-01-23 |
TH65872B true TH65872B (en) | 2018-10-26 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
NO20073122L (en) | Non-aqueous, non-corrosive microelectronics cleaning formulations | |
TW200736857A (en) | Chemical rinse composition for removing resist stripper | |
JP2008509554A5 (en) | ||
TW200514843A (en) | High rate barrier polishing composition | |
DK1385926T3 (en) | Lubricating oil composition comprising an additive combination of a carboxylic acid and an amine as an anti-rust agent | |
DE602005018075D1 (en) | CLEANING AGENT FOR MICROELECTRONIC SUBSTRATE | |
JP2009526910A5 (en) | ||
WO2009020199A1 (en) | Cleanser composition for removal of lead-free soldering flux, and method for removal of lead-free soldering flux | |
AR058737A1 (en) | BENZOAZEPINE COMPOUNDS WITH HYDROSOLUBLE HYPOTENSOR ACTIVITY AND INJECTABLE PHARMACEUTICAL COMPOSITION THAT UNDERSTANDS THEM. | |
TW200715074A (en) | Aqueous cleaning composition and method for using same | |
DK1877870T3 (en) | Non-aqueous photolayer chain solution that prevents galvanic corrosion | |
AR069800A1 (en) | DERIVATIVES 5- AMINOCICLILMETIL - OXAZOLIDIN-2- ONA | |
TW200619368A (en) | Polishing composition for silicon wafer | |
TW200942602A (en) | Polishing composition | |
WO2009016954A1 (en) | Water-based metalworking fluid | |
WO2010098734A1 (en) | Corrosion inhibiting compositions | |
TH65872B (en) | Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials. | |
TH74877A (en) | Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials. | |
MX2009006129A (en) | N-hydroxyacrylamide compounds. | |
TH74877B (en) | Non-corrosive non-corrosive mixtures for cleaning microelectronic materials | |
WO2009063782A1 (en) | Composition for external application to skin | |
ATE473312T1 (en) | SCALE AND CORROSION INHIBITOR AND METHOD FOR WATER CIRCUIT | |
TH2001006637A (en) | The patent has not yet been advertised. | |
TH1901003900A (en) | Cleaning agent for steel plates | |
TH93908A (en) | New microbicides |