TH65872B - Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials. - Google Patents

Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials.

Info

Publication number
TH65872B
TH65872B TH501001281A TH0501001281A TH65872B TH 65872 B TH65872 B TH 65872B TH 501001281 A TH501001281 A TH 501001281A TH 0501001281 A TH0501001281 A TH 0501001281A TH 65872 B TH65872 B TH 65872B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
group
alkyl
integers
compounds
abrasive
Prior art date
Application number
TH501001281A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH74877A (en
Inventor
อินาโอกะ นายเซอิจิ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ, นายรุทร นพคุณ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH74877A publication Critical patent/TH74877A/en
Publication of TH65872B publication Critical patent/TH65872B/en

Links

Abstract

DC60 (06/09/59) ได้มีการจัดเตรียมสารลอกโฟโตรีซิสต์ และสารผสมทำความสะอาดปลายย้อนกลับโดย สารผสมทำความสะอาดนอนแอคเควียสที่ไร้กรดอะมิโนที่โดยสาระสำคัญแล้วไม่กัดกร่อนทองแดง รวมทั้งอะลูมินัมและที่ประกอบรวมด้วยตัวทำละลายอินทรีย์มีขั้วอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด, อะมีน อินทรีย์ที่ถูกไฮดรอกซิเลตอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และสารประกอบตัวยับยั้งการกัดกร่อนอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดที่มีหมู่เชิงหน้าที่ไฮดรอกซิลหลายหมู่ซึ่งเป็นสารประกอบในสูตร T1[(CR1R2)m-(CR3R4)n]p-(CR5R6)q-T2 โดยที่ R1 และ R2 อย่างน้อยที่สุดหนึ่งหมู่ คือ OH, และถ้า R1 และ R2 หนึ่งหมู่ไมใช่ OH แล้ว จะถูก คัดเลือกจาก H, แอลคิล หรือแอลคอกซี, m คือ จำนวนเต็มทั้งหมดที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น, คัดเลือก R3 และ R4 จาก H ,แอลคิล หรือแอลคอกซี, n คือ 0 หรือจำนวนเต็มบวกทั้งหมดที่มากกว่านั้น , p คือ จำนวนเต็มทั้งหมดที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น , R5 และ R6 อย่างน้อยที่สุดหนึ่งหมู่ คือ OH และถ้า R5 และ R6 หนึ่งหมู่ไม่ใช่ OH แล้วควรคัดเลือกจาก H, แอลคิล หรือแอลคอกซี, q คือ จำนวนเต็มทั้งหมด ที่รวม 1 หรือมากกว่านั้น, คัดเลือก T1 และ T2 จาก H ,หมู่แอลคิล, ไฮดรอกซีแอลคิล,พอลิไฮดรอกซี แอลคิล, อะมิโนแอลคิล, คาร์บอนิลแอลคิล หรืออะมีด หรือ T1 และ T2 อาจได้รับการเชื่อมต่อกันเพื่อ ก่อรูปโครงสร้างซึ่งคัดเลือกจากวงอะลิฟาทิก หรือโครงสร้างวงที่หลอมรวมและอย่างเป็นทางเลือก แล้ว คือ ตัวทำละลายร่วมที่มีไฮดรอกซิลหนึ่งชนิด หรือมากกว่านั้น, สารประกอบอะริลเพื่อการยับยั้ง การกัดกร่อนที่มีหมู่ OH, OR6 และ/หรือ SO2R6R7 สองหมู่ หรือมากกว่านั้นซึ่งเกิดพันธะอย่างโดยตรง กับแหวนอะโรมาทิกโดยที่อย่างเป็นอิสระแล้ว คัดเลือก R6,R7 และ R8 แต่ละหมู่จากกลุ่มที่ ประกอบด้วยแอลคิล และอะริล, ตัวกระทำให้เป็นสารเชิงซ้อนของโลหะ, สารประกอบยับยั้งการ กัดกร่อนโลหะชนิดที่แตกต่างกัน และสารลดแรงตึงผิว DC60 (06/09/16) has been prepared photoresist. And the reverse tip cleaning compound by A non-amino acid-free cleaning agent that does not corrode copper essentially Including aluminum and containing at least one polar organic solvent, at least one hydroxylated organic amine. And at least corrosion inhibitor compounds One of the most abundant hydroxyl functional groups, which are compounds in the formula T1 ((CR1R2) m- (CR3R4) n) p- (CR5R6) q-T2 where R1 and R2 at least one group is OH, and if one group of R1 and R2 is not OH then it is selected from H., Alkyls or Lcoxies, m is all integers that include 1 or more, select R3 and R4 from H, alkyl or alkoxy, n is 0 or all positive integers greater than that, p. Is all integers that include at least one group of 1 or more, R5 and R6, OH, and if R5 and R6 one group is not OH, then should be selected from H, alkyl or alkoxy, q is all integers that Combine 1 or more, select T1 and T2 from H, alkyl group, hydroxylkyl, polyhydroxylkyl, aminoalkyl, carbonic. Nyl, alkyl or amid or T1 and T2 may be interconnected to Forming a structure selected from an aliphatic circle Or a fused loop structure, and, optionally, a cofactor with one hydroxyl Or more, aryl compounds for inhibition Corrosion with two or more OH, OR6 and / or SO2R6R7 groups that form a direct bond. With the aromatic ring, where independently, R6, R7 and R8 are selected from each group Contains alkyls and aryls, metal complexing agents, inhibitory compounds. Corrosive to different metals And surfactants

Claims (1)

1. ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :1. Claims (all) which will not appear on the advertisement page :
TH501001281A 2005-03-23 Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials. TH65872B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH74877A TH74877A (en) 2006-01-23
TH65872B true TH65872B (en) 2018-10-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NO20073122L (en) Non-aqueous, non-corrosive microelectronics cleaning formulations
TW200736857A (en) Chemical rinse composition for removing resist stripper
DK1385926T3 (en) Lubricating oil composition comprising an additive combination of a carboxylic acid and an amine as an anti-rust agent
TW200508300A (en) Composition and method for removing copper-compatible resist
JP2009526910A5 (en)
WO2009020199A1 (en) Cleanser composition for removal of lead-free soldering flux, and method for removal of lead-free soldering flux
JP2008509554A5 (en)
DE602004011673D1 (en) Compositions
ATE450595T1 (en) CLEANING AGENT FOR MICROELECTRONICS SUBSTRATES
WO2009016954A1 (en) Water-based metalworking fluid
BR9401407A (en) Alkaline earth metal salts, transition metal salts and transition metal complexes, coating composition, use of compounds, processes for protecting a metal substrate and for the preparation of metal and product salts
AR058737A1 (en) BENZOAZEPINE COMPOUNDS WITH HYDROSOLUBLE HYPOTENSOR ACTIVITY AND INJECTABLE PHARMACEUTICAL COMPOSITION THAT UNDERSTANDS THEM.
SG161273A1 (en) Non-aqueous photoresist stripper that inhibits galvanic corrosion
TH65872B (en) Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials.
TH74877A (en) Non-corrosive non-abrasive non-abrasive compound for cleaning microelectronic materials.
TW200641522A (en) Positive resist composition, method for forming resist pattern and compound
BRPI0921059A2 (en) Biphenyl acetamide derivative
DK1108001T3 (en) Use of pigment compositions containing substituted amidophthalocyanine derivatives in a thermoplastic resin composition
TW200619368A (en) Polishing composition for silicon wafer
MX2009006129A (en) N-hydroxyacrylamide compounds.
ATE473312T1 (en) SCALE AND CORROSION INHIBITOR AND METHOD FOR WATER CIRCUIT
AR047742A1 (en) COMPOUNDS WITH ANTITUMORAL ACTIVITY
TH2001006637A (en) The patent has not yet been advertised.
TH1901003900A (en) Cleaning agent for steel plates
TH2001003838A (en) Composition and method of etching the skin