TH61058B

TH61058B - วิธีการสำหรับการผลิตฟิล์ม (method for producing film)

Info

Publication number: TH61058B
Application number: TH1501002601A
Authority: TH
Inventors: ทัตสึยะไซโตะ; อาโอชิมะ ฮิโรโนบุ
Original assignee: นายสัตยะพล สัจจเดชะ; นายกฤชวัชร์ ชัยนภาศักดิ์
Filing date: 2013-10-10
Publication date: 2018-02-27

Abstract

คำขอใหม่ปรับปรุงวันที่ 23/02/2559 เพื่อจัดเตรียมวิธีการโดยที่ฟิล์มที่มีความสามารถในการฉีกขาดได้อย่าง ง่ายดาย (easy tearability) สามารถถูกผลิตได้ การประดิษฐ์นี้ได้จัดเตรียมวิธีการ สำหรับการผลิตฟิล์ม ซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนการขึ้นรูป (molding) ในที่ซึ่ง องค์ประกอบเรซินที่มีมากกว่า 0% โดยมวล แต่ 60% โดยมวลหรือน้อยกว่าของ ไซคลิกโอเลฟินเรซินและนอนไซคลิกโอเลฟินเรซินถูกขึ้นรูปด้วยการใช้เอ็กซ์ทรูเดอร์ (extruder) อุณหภูมิกลาสทรานสิชั่นของไซคลิกโอเลฟินเรซินคือ 40 DEG C หรือมากกว่า; และค่าที่ได้โดยการหักลบอุณหภูมิกลาสทรานสิชั่นของไซคลิกโอเลฟิน เรซิน จากอุณหภูมิของกระบอกของเอ็กซ์ทรูเดอ์ในระหว่างขั้นตอนการขึ้นรูปคือ 140 DEG C หรือน้อยกว่า

Claims

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :แก้ไข 24 ส.ค. 2560 1. วิธีการสำหรับผลิตฟิล์มที่มีความสามารถในการฉีกขาดอย่างง่ายดาย (ความสามารถในการฉีกขาดได้อย่างง่ายดาย) ของการขึ้นรูปฟิล์มแบบชั้นเดียวหรือ ฟิล์มแบบหลายชั้น ที่รวมถึงชั้นที่ประกอบด้วยองค์ประกอบเรซินที่มีอย่างน้อยที่สุด 10% โดยมวล ถึงไม่มากกว่า 60% โดยมวลของไซคลิกโอเลฟินเรซิน; และนอนไซคลิก โอเลฟินเรซิน และในกรณีของการเป็นแบบหลายชั้น ปริมาณของไซคลิกโอเลฟินเรซิน ในชั้นทั้งหมดคือที่อย่างน้อยที่สุด 3% โดยมวล, โดยการดึง (drawing) จากแม่พิมพ์ (die) ของเอ็กซ์ทรูเดอร์จะถูกขยาย และจากนั้นถูกทำให้เย็นลง ในที่ซึ่งนอนไซคลิกโอเลฟินฟิล์มอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกจากหมู่ที่ ประกอบด้วยโพลีเอทธิลลีนความหนาแน่นต่ำ, โพลีเอทธิลลีนความหนาแน่นต่ำที่เป็น เส้นตรงและโพลีโพรไพลีน, ในที่ซึ่งอุณหภูมิกลาสทรานสิชั่นของไซคลิกโอเลฟินเรซินคืออย่างน้อยที่สุด 40 ํC, ในที่ซึ่งค่าที่ได้โดยการหักลบอุณหภูมิกลาสทรานสิชั่นของไซคลิกโอเลฟิน เรซินจากอุณหภูมิของกระบอกของเอ็กซ์ทรูเดอร์ในขั้นตอนการขึ้นรูปคือไม่สูงมากกว่า 140 ํC, และ ในที่ซึ่งฟิล์มมีโดเมนของไซคลิกโอเลฟินเรซินที่กระเจิงในเมทริกซ์ของนอนไซ คลิกโอเลฟินเรซินในการสังเกตเห็นด้วย SEM แบบภาคตัดขวาง, และมีช่องว่างที่ อินเตอร์เฟซระหว่างเมทริกซ์และโดเมน ---------------------------------------------------------------------------------------------------- คำขอใหม่ปรับปรุงวันที่ 23/02/2559

1. วิธีการสำหรับผลิตฟิล์มที่มีความสามารถในการฉีกขาดอย่างง่ายดาย (ความสามารถในการฉีกขาดได้อย่างง่ายดาย) ของการขึ้นรูปฟิล์มแบบชั้นเดียวหรือ ฟิล์มแบบหลายชั้น ที่รวมถึงขั้นที่ประกอบด้วยองค์ประกอบเรซินที่มีอย่างน้อยที่สุด 10% โดยมวล ถึงไม่มากกว่า 60% โดยมวลของไซคลิกโอเลฟินเรซิน; และนอนไซคลิก โอเลฟินเรซิน และในกรณีของการเป็นแบบหลายชั้น ปริมาณของไซคลิกโอเลฟินเรซิน ในชั้นทั้งหมดคือที่อย่างน้อยที่สุด 3% โดยมวล, โดยการดึง (drawing) จากแม่พิมพ์ (die) ของเอ็กซ์ทรูเดอะจะถูกขยาย และจากนั้นถูกทำให้เย็นลง ในที่ซึ่งนอนไซคลิกโอเลฟินฟิล์มอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกจากหมู่ที่ ประกอบด้วยโพลีเอทธิลลีนความหนาแน่นต่ำ, โพลีเอทธิลลีนความหนาแน่นต่ำที่เป็น เส้นตรงและโพลีโพรไพลีน, ในที่ซึ่งอุณหภูมิกลาสทรานสิชั่นของไซคลิกโอเลฟินเรซินคืออย่างน้อยที่สุด 40 ํC. ในที่ซึ่งค่าที่ได้โดยการหักลบอุณหภูมิกลาสทรานสิชั่นของไซคลิกโอเลฟินเรซิ นจากอุณหภูมิของกระบอกของเอ็กซ์ทรูเดอร์ในขั้นตอนการขึ้นรูปคือไม่สูงมากกว่า 140 ํC, และ ในที่ซึ่งฟิล์มมีโดเมนของไซคลิกโอเลฟินเรซินที่กระเจิงในเมทริกซ์ของนอนไซ คลิกโอเลฟินเรซินในการสังเกตเห็นด้วย SEM แบบภาคตัดขวาง, และมีช่องว่างที่ อินเตอร์เฟซระหว่างเมทริกซ์และโดเมน

2. วิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มตามข้อถือสิทธิที่ 1 ในที่ซึงอุณหภูมิกลาสทราน สิชั่นของไซคลิกโอเลฟินเรซินคืออย่างน้อยที่สุด 75 ํC

3. วิธีการสำหรับการผลิตฟิล์มตามข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 ในที่ซึ่งไซคลิกโอเลฟิน ฟิล์มที่มีอยู่ไม่มากกว่า 20% โดยมวลในองค์ประกอบเรซิน