TH51255A - วิธีการขัดเงาหรือปรับระนาบวัสดุฐานรอง - Google Patents
วิธีการขัดเงาหรือปรับระนาบวัสดุฐานรองInfo
- Publication number
- TH51255A TH51255A TH1004856A TH0001004856A TH51255A TH 51255 A TH51255 A TH 51255A TH 1004856 A TH1004856 A TH 1004856A TH 0001004856 A TH0001004856 A TH 0001004856A TH 51255 A TH51255 A TH 51255A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- metal
- mixtures
- hydroxyl groups
- polishing
- leveling
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (20/02/44) วิธีการขัดเงาหรือปรับระนาบวัสดุฐานรอง ที่ประกอบด้วย การขัดอย่างน้อยส่วน หนึ่งของผิวของวัสดุฐานรองที่ประกอบด้วย โลหะ, โลหะออกไซด์, สารผสมรวมของโลหะ หรือ ของผสมของสารเหล่านี้ ด้วยสารผสมที่ประกอบด้วยสารขัดที่เป็นโลหะออกไซด์ และสาร พาหะที่ เป็นของเหลว ซึ่งสารผสมมี pH ประมาณ 7 หรือต่ำกว่า และสารขัดที่เป็นโลหะออกไซด์มีความ หนาแน่นของหมู่ไฮดรอกซิล ทั้งหมดของผิว ไม่มากกว่าประมาณ 3 หมู่ไฮดรอกซิลต่อตาราง นา โนเมตร วิธีการขัดเงาหรือปรับระนาบวัสดุฐานรอง ที่ประกอบด้วย การขัดอย่างน้อยส่วน หนึ่งของผิวของวัสดุฐานรองที่ประกอบด้วย โลหะ, โลหะออกไซด์, สารผสมรวมของโลหะ หรือ ของผสมของสารเหล่านี้ ด้วยสารผสมที่ประกอบด้วยสารขัดที่เป็นโลหะออกไซด์ และสาร พาหะที่ เป็นของเหลว ซึ่งสารผสมมี pH ประมาณ 7 หรือต่ำกว่า และสารขัดที่เป็นโลหะออกไซด์มีความ หนาแน่นของหมู่ไฮดรอกซิล ทั้งหมดของผิว ไม่มากกว่าประมาณ 3 หมู่ไฮดรอกซิลต่อตาราง นา โนเมตร
Claims (2)
1. วิธีการขัดเงา หรือ ปรับระนาบวัสดุฐานรอง ที่ประกอบ ด้วยการขัดอย่าง น้อยส่วนหนึ่งของผิวของวัสดุฐานรองที่ประกอบด้วย โลหะ, โลหะออกไซด์, สารผสมรวมของ โลหะ หรือของผสมของสาร เหล่านี้ ด้วยสารผสมที่ประกอบด้วยสารขัดที่เป็นโลหะออกไซด์ และ สารพาหะที่เป็นของเหลว ซึ่งสารผสมมี pH ประมาณ 7 หรือ ต่ำกว่า และสารขัดที่เป็นโลหะ ออกไซด์มีความหนาแน่นของ หมู่ไฮดรอกซิลทั้งหมด ของผิวไม่มากกว่าประมาณ 3 หมู่ไฮดรอกซิล ต่อ ตารางนาโนเมตร
2. วิธีการของข้อถือสิทธิที่ 1 ซึ่งวัสดุฐแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH51255A true TH51255A (th) | 2002-06-06 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| IL150186A0 (en) | Method of polishing or planarizing a substrate | |
| DE69903538D1 (de) | Verfahren zur herstellung von schleifkörnern durch imprägnieren und damit hergestellte schleifmittel | |
| WO2000000560A3 (en) | Chemical mechanical polishing slurry and method for using same | |
| AU584873B2 (en) | Abrasive grits or ceramic bodies and preparation thereof | |
| ATE178039T1 (de) | Schleifkorn, enthaltend calciumoxid- und/oder strontiumoxid | |
| WO2004072199A3 (en) | Mixed-abrasive polishing composition and method for using the same | |
| IL134213A0 (en) | A polishing composition including an inhibitor of tungsten etching | |
| DE69002557T2 (de) | Keramik aus aluminiumoxyd, schleifmittel und deren verfahren zur herstellung. | |
| MY126717A (en) | Cmp composition containing silane modified abrasive particles. | |
| EP1055486A3 (en) | Dressing apparatus and polishing apparatus | |
| DE60020389D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum planarisieren von mikroelektronischem substratenaufbau | |
| DE3688768T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von sehr feinen kugelförmigen Metalloxydteilchen. | |
| MY129818A (en) | Method for manufacturing substrate | |
| ATE258577T1 (de) | Zusammensetzungen und verfahren zum polieren und egalisieren von oberflächen | |
| WO2002061008A3 (en) | Alkali metal-containing polishing system and method | |
| MY118116A (en) | Method of polishing a memory or rigid disk with an ammonia and/or halide-containing composition | |
| NZ233397A (en) | Hard surface cleaning composition containing anionic surfactant ammonium salt, alkanolamine(s) and solvent | |
| MY133054A (en) | Chemical mechanical abrasive composition for use in semiconductor processing | |
| DE59300120D1 (de) | Verfahren zum kontaminationsfreien Zerkleinern von Halbleitermaterial, insbesondere Silicium. | |
| IT8685525A0 (it) | Viscosita' della miscela abrasiva e dispositivo per il controllo della quantita' di granaglia automatico della densita' e della metallica usata nella segagione dei graniti o pietre dure. | |
| TH51255A (th) | วิธีการขัดเงาหรือปรับระนาบวัสดุฐานรอง | |
| JPS5429189A (en) | Abrasive wheel for glinding purpose | |
| EP0816457A3 (en) | Slurry using Mn oxide abrasives and fabrication process of a semiconductor device using such a polishing slurry | |
| DE60139939D1 (de) | Aluminiumoxid-yttriumoxid-zirkonoxid eutektium enthaltende, geschmolzene schleifpartikel, schleifgegenstände und verfahren zur herstellung und verwendung derselben | |
| KR900014080A (ko) | 금속도장면의 연마방법 |