TH49475A - Compound for polishing - Google Patents
Compound for polishingInfo
- Publication number
- TH49475A TH49475A TH1003561A TH0001003561A TH49475A TH 49475 A TH49475 A TH 49475A TH 1003561 A TH1003561 A TH 1003561A TH 0001003561 A TH0001003561 A TH 0001003561A TH 49475 A TH49475 A TH 49475A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- substance
- oxide
- phosphate ester
- compound
- group containing
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title abstract 2
- -1 phosphate compound Chemical class 0.000 claims abstract 16
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims abstract 11
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims abstract 11
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 claims abstract 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 claims 1
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 abstract 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 abstract 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 abstract 1
Abstract
DC60 (25/10/43) สารผสมสำหรับการขัดวัสดุฐานรองดิสก์แม่เหล็กที่ใช้สำหรับฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำ ซึ่งประกอบรวมด้วย (a) น้ำ; (b) สารประกอบฟอสเฟตอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งถูกเลือกจากสาร กลุ่มที่ประกอบด้วยฟอสเฟต เอสเทอร์ ของเอ็ทท็อกซีเลต อัลคิล แอลกอฮอล์ และฟอสเฟตเอสเทอร์ของเอ็ทท็อกซีเลต อาริล แอลกอฮอล์; (c) สารเร่งการขัดอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งถูกเลือกจากสาร กลุ่มที่ประกอบด้วย กรดอนินทรีย์, กรด- อินทรีย์, และเกลือ ของกรดเหล่านี้ นอกเหนือไปจากสารประกอบฟอสเฟตขององค์ประกอบ (b); (d) สารสำหรับขัดอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งถูกเลือกจากสาร กลุ่มที่ประกอบด้วย อลูมินัม ออกไซด์, ซิลิคอน, ไดออกไซด์, ซีเรียม ออกไซด์, เซียร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์, และแมงกานีส ไดออกไซด์ สารผสมสำหรับการขัดวัสดุฐานรองดิสก์แม่เหล็กที่ใช้สำหรับฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำ ซึ่งประกอบรวมด้วย (a) น้ำ; (b) สารประกอบฟอสเฟตอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งถูกเลือกจากสาร กลุ่มที่ประกอบด้วยฟอสเฟต เอสเทอร์ ของเอ็ทท็อกซีเลต อัลคิล แอลกอฮอล์ และฟอสเฟตเอสเทอร์ของเอ็ทท็อกซีเลต อาริล แอลกอฮอล์; (c) สารเร่งการขัดอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งถูกเลือกจากสาร กลุ่มที่ประกอบด้วย กรดอนินทรีย์, กรด- อินทรีย์, และเกลือ ของกรดเหล่านี้ นอกเหนือไปจากสารประกอบฟอสเฟตขององค์ประกอบ (b); (d) สารสำหรับขัดอย่างน้อย 1 ชนิด ซึ่งถูกเลือกจากสาร กลุ่มที่ประกอบด้วย อลูมินัม ออกไซด์, ซิลิคอน, ไดออกไซด์, ซีเรียม ออกไซด์, เซียร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์, และแมงกานีส ไดออกไซด์ DC60 (25/10/43) Polishing compound, magnetic disk base used for hard disk memory. Which consists of (a) water; (b) At least one phosphate compound, selected from the substance. Group containing phosphate ester of alkyl alcohol ethoxylates and phosphate ester of aryl alcohol ethoxylates; (c) At least one polishing accelerator that was selected from the substance. Group consisting of Inorganic acids, acids - organic, and their salts. In addition to the phosphate compound of the composition (b); (d) at least one abrasive, which is selected from the A group containing aluminum oxide, silicon, dioxide, cerium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, silicon nitride, and manganese dioxide. Hard disk memory Which consists of (a) water; (b) At least one phosphate compound, selected from the substance. Group containing phosphate ester of alkyl alcohol ethoxylates and phosphate ester of aryl alcohol ethoxylates; (c) At least one polishing accelerator that was selected from the substance. Group consisting of Inorganic acids, acids - organic, and their salts. In addition to the phosphate compound of the composition (b); (d) at least one abrasive, which is selected from the A group containing aluminum oxide, silicon, dioxide, cerium oxide, cerconium oxide, titanium oxide, silicon nitride, and manganese dioxide.
Claims (1)
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH49475A true TH49475A (en) | 2002-02-21 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE60239384D1 (en) | FORMULATIONS OF BORIC ACID COMPOUNDS | |
| MY118462A (en) | Polishing composition | |
| DE69420163D1 (en) | Process for the preparation of a composition containing zirconium-cez mixed oxides | |
| RU2002107322A (en) | PRODUCT AS COSMETIC WIPES | |
| CO4970765A1 (en) | LOW PH COMPOSITIONS CONTAINING ACID FOR PERSONAL CARE THAT EXHIBIT REDUCED ITCHING | |
| JPH02276899A (en) | Enzyme-liouid detergent composition | |
| NO990667L (en) | Depeptide benzamidine as kinogenase inhibitor | |
| ATE146360T1 (en) | FREEZE-DRIED DROPS CONTAINING GONADOTROPIN | |
| ID21897A (en) | ACID B-SULFONYL HYDROXYCAMM AS A MATERIAL HANDLING MATRIX METALOPROTEINASE | |
| EP1166766A4 (en) | External preparation compositions | |
| DE60140621D1 (en) | CERBASING ABRASANT AND ITS PRODUCTION | |
| AR027014A1 (en) | PARTICULATE OF WHITENING ACITVATOR, DETERGENT COMPOSITION THAT INCLUDES IT AND AVERAGE HYDROLIGANCE METHOD OF A SALT MOLECULA | |
| SE9201588D0 (en) | PHOSPHORETIC HMG-COA REDUCTION INHIBITORS, NEW INTERMEDIATES AND METHOD | |
| TH49475A (en) | Compound for polishing | |
| ATE260638T1 (en) | COSMETIC COMPOSITION | |
| ES2107805T3 (en) | DETERGENT COMPOSITION AND PROCEDURE TO PRODUCE IT. | |
| ES2081837T3 (en) | USE OF A FINISHED PAINT FOR PROTECTION AGAINST FORMATION OF EXTERNAL RUST STAINS. | |
| ATE120369T1 (en) | USE OF STABLE OXAPENEM-3-CARBONIC ACIDS FOR THE PRODUCTION OF BETA-LACTAMASE INHIBITING DRUGS. | |
| TW367227B (en) | Dispersant for water-insoluble calcium salts, and beverage containing the same | |
| TH37429A3 (en) | Polishing mixtures | |
| FI943623A0 (en) | A stable, pumpable, synthetic detergent composition and method of storing it | |
| PT925781E (en) | COMPOSITION FOR DESPIGMENTATION | |
| WO2003074000A3 (en) | Eleutherosides as adjuncts for vaccines and immune modulation | |
| ES2102212T3 (en) | CLEANING AND CONSERVATION AGENTS. | |
| RU2003120377A (en) | COMPOSITION FOR HYDROABRASIVE CLEANING OF SURFACE OF PARTS AND DEACTIVATION |