TH49253A - สารผสมสำหรับการขัด - Google Patents
สารผสมสำหรับการขัดInfo
- Publication number
- TH49253A TH49253A TH1003630A TH0001003630A TH49253A TH 49253 A TH49253 A TH 49253A TH 1003630 A TH1003630 A TH 1003630A TH 0001003630 A TH0001003630 A TH 0001003630A TH 49253 A TH49253 A TH 49253A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- abrasive
- oxide
- mixtures
- weight
- group
- Prior art date
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 8
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 5
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 abstract 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 abstract 2
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 abstract 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 abstract 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 abstract 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 abstract 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 abstract 2
- 229920000867 polyelectrolyte Polymers 0.000 abstract 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (30/10/43) สารผสมที่ใช้ในการขัดสำหรับการขัดฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำซึ่งประกอบรวมด้วย สารองค์ประกอบ (a) ถึง (d) ดังนี้ (a) สารสำหรับขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือกจากสารกลุ่ม ที่ประกอบรวมด้วย ซิลิคอน ได ออกไซด์, อลูมินัม ออกไซด์, ซี เรียม ออกไซด์, เซอร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ออกไซด์, และแมงกานีส ไดออกไซด์ ในปริมาณตั้งแต่ ร้อยละ 0.1 ถึงร้อยละ 50 โดยน้ำหนัก เมื่อเทียบ กับปริมาณ ของสารผสมที่ใช้ในการขัดทั้งหมด, (b) สารลดความต้านทานการขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือก จากสารกลุ่มที่ประกอบรวมด้วย สารลดแรงตึงผิว, โพลิเมอร์ที่ สามารถละลายน้ำได้และโพลีอิเล็กโตรไลต์ ในปริมาณตั้งแต่ ร้อยละ 0.0001 ถึงร้อยละ 3 โดยน้ำหนัก เมื่อเทียบกับปริมาณ ของสารผสมที่ใช้ในการขัดทั้งหมด , (c) สารเร่งการขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือกจากสารกลุ่ม ที่ประกอบรวมด้วยกรดอนินทรีย์, กรดอินทรีย์ และเกลือ อลู มินัม, เหล็ก, นิกเกิล, โคบอลต์ของกรดดังกล่าว ในปริมาณ ตั้งแต่ร้อยละ 0.001 ถึงร้อยละ 40 โดยน้ำหนัก เมื่อเทียบ กับปริมาณสารผสมที่ใช้ในการขัดทั้งหมด, และ (d) น้ำ สารผสมที่ใช้ในการขัดสำหรับการขัดฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำซึ่งประกอบรวมด้วย สารองค์ประกอบ (a) ถึง (d) ดังนี้ (a) สารสำหรับขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือกจากสารกลุ่ม ที่ประกอบรวมด้วย ซิลิคอน ได- ออกไซด์, อลูมินัม ออกไซด์, ซี เรียม ออกไซด์, เซอร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ออกไซด์, และแมงกานีส ไดออกไซด์ ในปริมาณตั้งแต่ ร้อยละ 0.1 ถึงร้อยละ 50 โดยน้ำหนัก เมื่อเทียบ กับปริมาณ ของสารผสมที่ใช้ในการขัดทั้งหมด, (b) สารลดความต้านทานการขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือก จากสารกลุ่มที่ประกอบรวมด้วย สารลดแรงตึงผิว, โพลิเมอร์ที่ สามารถละลายน้ำได้และโพลิอิเล็กโตรไลต์ ในปริมาณตั้งแต่ ร้อยละ 0.0001 ถึงร้อยละ 3 โดยน้ำหนัก เมื่อเทียบกับปริมาณ ของสารผสมที่ใช้ในการขัดทั้งหมด , (c) สารเร่งการขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือกจากสารกลุ่ม ที่ประกอบรวมด้วยกรดอนินทรีย์, กรดอินทรีย์ และเกลือ อลู มินัม, เหล็ก, นิกเกิล, โคบอลต์ของการกรดดังกล่าว ในปริมาณ ตั้งแต่ร้อยละ 0.001 ถึงร้อยละ 40 โดยน้ำหนัก เมื่อเทียบ กับปริมาณสารผสมที่ใช้ในการขัดทั้งหมด, และ (d) น้ำ
Claims (1)
1. สารผสมที่ใช้ในการขัดสำหรับการขัดฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำ ซึ่งประกอบรวมด้วย สารองค์ประกอบ (a) ถึง (d): (a) สารสำหรับขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือกจากสารกลุ่ม ที่ประกอบรวมด้วย ซิลิคอน ได- ออกไซด์, อลูมินัม ออกไซด์, ซี เรียม ออกไซด์, เซอร์โคเนียม ออกไซด์, ไทเทเนียม ออกไซด์, ซิลิคอน ไนไตรด์ และแมงกานีส ไดออกไซด์ในปริมาณตั้งแต่ร้อย ละ 0.1 ถึงร้อยละ 50 โดยน้ำหนัก เมื่อเทียบ กับปริมาณของสาร ผสมที่ใช้ในการขัดทั้งหมด (b) สารลดความต้านทานการขัดอย่างน้อย 1 ชนิดที่ถูกเลือก จากสารแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH49253A true TH49253A (th) | 2002-02-07 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY118462A (en) | Polishing composition | |
| DK1611892T3 (da) | Farmaceutiske sammensætninger indeholdende drospirenon | |
| CA2402431A1 (en) | 1,2,3,4-tetrahydroisoquinoline derivatives | |
| PL345176A1 (en) | Composition based no low-ethoxylated sorbitane ester for washing creatinic substances | |
| CA2412330A1 (en) | Preservation and storage medium for biological materials | |
| MXPA03001496A (es) | Composiciones abrasivas y metodos para fabricarlas. | |
| TWI255850B (en) | Slurry for chemical mechanical polishing | |
| PL377304A1 (pl) | Rozpuszczalna w wodzie saszetka zawierająca skoncentrowaną kompozycję oraz sposób obróbki powierzchni wymagających czyszczenia | |
| BR0016757A (pt) | Composição aquosa em gel, e, composição em gel para uso em composições dentifrìcias aquosas | |
| ES2271226T3 (es) | Formulacion agroquimica. | |
| DE69636504D1 (de) | Wässrige Zusammensetzungen enthaltend eine Haloalkynyl-Verbindung und einen Puffer zur Verleihung biozider Eigenschaften und zur Stabilisierung der Endformulierungen | |
| TH49253A (th) | สารผสมสำหรับการขัด | |
| WO2002008200A3 (en) | Arylethene-sulfonamides, their preparation and their use as endothelin antagonists | |
| WO2005034917A3 (fr) | Poudre d’eau a base de silice hydrophobe | |
| DK1018345T3 (da) | Vandoplöselige, törre sammensætninger | |
| JP2004536158A5 (th) | ||
| CA2449057A1 (en) | Environmentally compatible defrosting and antifreeze agents for aeroplanes | |
| WO2005056066A3 (en) | Ph dependent medicinal compositions | |
| RU97113614A (ru) | Состав для предотвращения карбонатных отложений | |
| TH37429A3 (th) | สารผสมขัดเงา | |
| TW416986B (en) | Liquid bleaching agent composition with enhanced viscosity | |
| TH61584A (th) | สารผสมสำหรับขัดและวิธีการผลิตฮาร์ดดิสก์หน่วยความจำ | |
| CA2322146A1 (en) | Rust-resistant calcium steel | |
| TH45459A3 (th) | สารผสมสำหรับการขัดเรียบและสารผสมสำหรับการชะล้าง | |
| JPS59156946A (ja) | 吹付けコンクリ−ト用急結剤 |