TH44573A - ชั้นโมเลคิวลาร์ชีฟชนิดผลึกและกรรมวิธีเพื่อการผลิต - Google Patents
ชั้นโมเลคิวลาร์ชีฟชนิดผลึกและกรรมวิธีเพื่อการผลิตInfo
- Publication number
- TH44573A TH44573A TH1000745A TH0001000745A TH44573A TH 44573 A TH44573 A TH 44573A TH 1000745 A TH1000745 A TH 1000745A TH 0001000745 A TH0001000745 A TH 0001000745A TH 44573 A TH44573 A TH 44573A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- xylene
- para
- crystalline
- equal
- molecular
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract 9
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 36
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 8
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 claims abstract 4
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 claims abstract 4
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims abstract 4
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 claims abstract 4
- 239000012466 permeate Substances 0.000 claims abstract 4
- 238000002791 soaking Methods 0.000 claims abstract 4
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 claims abstract 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
Abstract
DC60 (26/05/43) บรรยายกรรมวิธีเพื่อการผลิตเพื่อการผลิตชั้นโมเลคิวลาร์ซีฟชนิดผลึกที่มีความสามารถใน การเลือกสำหรับพาราไซลีนต่อมาตา-ไซลีนดี และความสามารถในการเลือกและเพอร์มีแอนซ์ สำหรับพารา-ไซลีนดี กรรมวิธีนั้นต้องการการแช่ชุ่มสารรองรับก่อนการสังเคราะห์แบบไฮโดรเทอร์- มัล ซึ่งใช้วิธีแบบซีด(seeded method) และอาจถูกจัดการด้วยวิธีมาสดิงค์ก่อนการแช่ชุ่ม ชั้นโมเลคิว- ลาร์ซีฟชนิดผลึกมีความสามารถในการเลือก (อัลฟาx) สำหรับพารา-ไซลีนต่อ เมตา-ไซลีน เป็น 2 หรือ มากกว่านั้น และ เพอร์มิแอนซ์(Qx) สำหรับพารา-ไซลีน เป็น 3.27x10-8 mole(px)/ตารางเมตร.s.Pa(px) หรือ มากกว่านั้น วัดที่อุณหภูมิ (มากกว่าหรือเท่ากับ)250 องศาเซลเซียส. และความดันย่อยของอะโรแมติก ไฮโดรคาร์บอน (มากกว่าหรือเท่ากับ)10x10ยกกำลัง3 พาสคัล บรรยายกรรมวิธีเพื่อการผลิตเพื่อการผลิตชั้นโมเลคิวลาร์ซีฟชนิดผลึกที่มีความสามารถใน การเลือกสำหรับพาราไซลีนต่อมาตา-ไซลีนดี และความสามารถในการเลือกและเพอร์มีแอนซ์ สำหรับพารา-ไซลีนดี กรรมวิธีนั้นต้องการการแช่ชุ่มสารรองรับก่อนการสังเคราะห์แบบไฮโดรเทอร์- มัล ซึ่งใช้วิธีแบบซีด(seeded method) และอาจถูกจัดการด้วยวิธีมาสดิงค์ก่อนการแช่ชุ่ม ชั้นโมเลคิว- ลาร์ซีฟชนิดผลึกมีความสามารถในการเลือก (อัลฟาx) สำหรับพารา-ไซลีนต่อ เมตา-ไซลีน เป็น 2 หรือ มากกว่านั้น และ เพอร์มิแอนซ์ (Qx) สำหรับพารา-ไซลีน เป็น 3.27x10-8 mole(px)/m2.s.Pa(px) หรือ มากกว่านั้น วัดที่อุณหภูมิ มากกว่าหรือเท่ากับ250 ํซ. และความดันย่อยของอะโรแมติก ไฮโดรคาร์บอน มากกว่าหรือเท่ากับ:10x101 พาสคัล:
Claims (3)
1. ชั้นโมเลคิวลาร์ซีฟชนิดผลึกที่มีความสามารถในการเลือก (อัลฟาx) สำหรับพารา-ไซลีน ต่อ เมตา-ไซลีนเป็น 2 หรือมากกว่านั้นและเพอร์มีแอนซ์ (Qx) สำหรับพารา-ไซลีน เป็น 3.27x10-8 mole/ (px)/m 2.S.Pa(Px) หรือมากกว่านั้น โดยวัดที่อุณหภูมิ มากกว่าหรือเท่ากับ 250 ํซ. และความดันย่อยของอะโรแมติก ไฮโดรคาร์บอน มากกว่าหรือเท่ากับ10x103 พาสคัล
2. ชั้นโมเลคิวลาร์ซีฟชนิดผลึกตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งชั้นโมเลคิวลาร์ซีฟถูกวางอยู่บนสาร รองรับที่มีรูพรุนชนิดหนึ่ง
3. ชั้นโมเลคิวลาร์ซีฟชนิดผลึกตาแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH44573A true TH44573A (th) | 2001-04-19 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MXPA01009144A (es) | Capas de cedazo molecular cristalino y procesos para su manufactura. | |
| Xomeritakis et al. | Transport properties of alumina-supported MFI membranes made by secondary (seeded) growth | |
| Hedlund et al. | A masking technique for high quality MFI membranes | |
| Snyder et al. | Hierarchical nanomanufacturing: from shaped zeolite nanoparticles to high‐performance separation membranes | |
| Li et al. | The control of phase and orientation in zeolite membranes by the secondary growth method | |
| US5871650A (en) | Supported zeolite membranes with controlled crystal width and preferred orientation grown on a growth enhancing layer | |
| DE69411905D1 (de) | Kristalline molekularsiebe enthaltende schichten und verfahren zu ihrer herstellung | |
| US20200171535A1 (en) | Method and apparatus for forming articles with non-uniform coatings | |
| Wong et al. | Effects of synthesis parameters on the zeolite membrane morphology | |
| EP1173047A4 (en) | COMPOSITE SUBSTRATE, THIN FILM LIGHT-EMITTING ITEM CONTAINING THEREOF, AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF | |
| EP1635396A4 (en) | LAMINATED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND PROCESS FOR ITS MANUFACTURE | |
| Miachon et al. | Nanocomposite MFI-alumina membranes via pore-plugging synthesis: specific transport and separation properties | |
| Au et al. | Engineering the shape of zeolite crystal grain in MFI membranes and their effects on the gas permeation properties | |
| RU2006120377A (ru) | Гибкое шлифовальное изделие и способ его изготовления | |
| WO2014084861A1 (en) | Selective membrane supported on nanoporous graphene | |
| Mizukami | Application of zeolite membranes, films and coatings | |
| DE69512324D1 (de) | Herstellungsverfahren für Substrat mit mehrschichtigen gedruckten Spulen | |
| Gopalakrishnan et al. | Permeation properties of templated and template-free ZSM-5 membranes | |
| US9120680B2 (en) | Molecular sieve membranes and thermal treatment methods of making the same | |
| JP2009516051A5 (th) | ||
| JP2012210619A (ja) | 濾過用フィルター及びその製造方法 | |
| JP2003257854A5 (th) | ||
| TH44573A (th) | ชั้นโมเลคิวลาร์ชีฟชนิดผลึกและกรรมวิธีเพื่อการผลิต | |
| Cho et al. | Synthesis, ethanol dehydration and thermal stability of NaA zeolite/alumina composite membranes with narrow non-zeolitic pores and thin intermediate layer | |
| EP0781736A3 (en) | Ferroelectric thin film, substrate provided with ferroelectric thin film, device having capacitor structure and method for manufacturing ferroelectric thin film |