TH43970A - ผงทองแดงที่มีพื้นที่ผิวสูง ความหนาแน่นต่ำและกระบวนการชุบผิวด้วยไฟฟ้าสำหรับการทำผงทองแดงดังกล่าว - Google Patents

ผงทองแดงที่มีพื้นที่ผิวสูง ความหนาแน่นต่ำและกระบวนการชุบผิวด้วยไฟฟ้าสำหรับการทำผงทองแดงดังกล่าว

Info

Publication number
TH43970A
TH43970A TH9801004979A TH9801004979A TH43970A TH 43970 A TH43970 A TH 43970A TH 9801004979 A TH9801004979 A TH 9801004979A TH 9801004979 A TH9801004979 A TH 9801004979A TH 43970 A TH43970 A TH 43970A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
approximately
copper powder
electrolyte
critical point
ion concentrations
Prior art date
Application number
TH9801004979A
Other languages
English (en)
Inventor
เจ. โคฮัท สตีเฟน
เค. ไฮเนส โรนัลด์
ดี. ซอพแชค นิโคลัส
กอร์ท เวนดี้
Original Assignee
นายชวลิต อัตถศาสตร์
นายไชยวัฒน์ บุนนาค
Filing date
Publication date
Application filed by นายชวลิต อัตถศาสตร์, นายไชยวัฒน์ บุนนาค filed Critical นายชวลิต อัตถศาสตร์
Publication of TH43970A publication Critical patent/TH43970A/th

Links

Abstract

DC60 (19/08/42) การประดิษฐ์นี้จะเกี่ยวข้องกับ ผงทองแดงที่มีพื้นที่ผิวสูง ความหนาแน่นต่ำ ที่มีความ หนาแน่นปรากฏในช่วงประมาณ 0.20 ถึงประมาณ 0.60 กรัมต่อลูกบาศก์เซนติเมตร และมีพื้น ที่ ผิวอย่างน้อยประมาณ 0.5 ตารางเมตรต่อกรัม การประดิษฐ์ นี้ยังคงเกี่ยวข้องกับ กระบวนการการ ทำผิวชุดอิเล็กโทรด สำหรับการทำผงทองแดง ดังที่กล่าวแล้วข้างต้น โดยการทำผิว ชุบอิเล็กโทรด ของผงทองแดง จากสารละลายอิเล็กโทรไลต์ ที่ใช้ การร่วมกันของตัวแปรของกระบวนการ ณ. จุด วิกฤต ของกระบวนการ ซึ่งตัวแปร ณ. จุดวิกฤตเหล่านี้ ประกอบด้วย ความเข้มข้นของ ทองแดง ไอออน สำหรับสารละลายอิเล็กโทรไลต์ ในช่วงประมาณ 2 ถึงประมาณ 7 กรัมต่อลิตร ความ เข้มข้นของไอออนคลอ ไรด์อิสระ สำหรับสารละลายอิเล็กโทรไลต์ในช่วงประมาณ 8 ถึง ประมาณ 20 ส่วนในล้านส่วน ระดับความไม่บริสุทธิ์สำหรับสาร ละลายอิเล็กโทรไลต์ ต้องไม่มากกว่า ประมาณ 1.0 กรัมต่อลิตร และสารละลายอิเล็กโทรไลต์ ก็จะต้องปราศจากสารเติมแต่ง อินทรีย์ การประดิษฐ์นี้จะเกี่ยวข้องกับ ผงทองแดงที่มีพื้นที่ผิวสูง ความหนาแน่นต่ำ ที่มีความหนาแน่นปรากฏในช่วงประมาณ 0.20 ถึงประมาณ 0.60 กรัมต่อลูกบาศก์เซนติเมตร และมีพื้น ที่ผิวอย่างน้อยประมาณ 0.5 ตารางเมตรต่อกรัม การประดิษฐ์ นี้ยังคงเกี่ยวข้องกับ กระบวนการการทำผิวชุดอิเล็กโทรด สำหรับการทำผงทองแดง ดังที่กล่าวแล้วข้างต้น โดยการทำผิว ชุดอิเล็กโทรดของผงทองแดง จากสารละลายอิเล็กโทรไลต์ ที่ใช้ การร่วมกันของตัวแปรของกระบวนการ ณ จุดวิกฤต ของกระบวนการ ซึ่งตัวแปร ณ. จุดวิกฤตเหล่านี้ ประกอบด้วย ความเข้มข้นของ ทองแดงไอออน สำหรับสารละลายอิเล็กโทรไลต์ ในช่วงประมาณ 2 ถึงประมาณ 7 กรัมต่อลิตร ความเข้มข้นของไอออนคลอ ไรด์อิสระ สำหรับสารละลายอิเล็กโทรไลต์ในช่วงประมาณ 8 ถึง ประมาณ 20 ส่วนในล้านส่วน ระดับความไม่บริสุทธิ์สำหรับสาร ละลายอิเล็กโทรไลต์ ต้องไม่มากกว่าประมาณ 1.0 กรัมต่อลิตร และสารละลายอิเล็กโทรไลต์ก็จะต้องปราศจากสารเติมแต่ง อินทรีย์

Claims (5)

1. ผงทองแดงที่มีความหนาแน่นปรากฏอยู่ในช่วงประมาณ 0.20ถึงประมาณ 0.60 กรัมต่อลูกบาศก์เซนติเมตร และมีพื้นที่ผิว อย่างน้อยประมาณ 0.5 ตารางเมตรต่อกรัม
2. ผงทองแดงตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ ผงดังกล่าว จะมี ขนาดของอนุภาคเฉลี่ยประมาณ 5 ถึงประมาณ 50 ไมครอน
3. ผงทองแดงตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ ผงดังกล่าว จะมี ความหนาแน่นช่วงแถบเขียวประมาณ 4 ถึงประมาณ 8 กรัมต่อ ลูกบาศก์เซนติเมตร
4. ผงทองแดงตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ในที่ ผงดังกล่าว จะมี ความแข็งแรงแถบเขียวที่ประมาณ 3,500 ถึงประมาณ 7,000 psi
5. ผงทองแดงตามข้อถือสิแท็ก :
TH9801004979A 1998-12-22 ผงทองแดงที่มีพื้นที่ผิวสูง ความหนาแน่นต่ำและกระบวนการชุบผิวด้วยไฟฟ้าสำหรับการทำผงทองแดงดังกล่าว TH43970A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH43970A true TH43970A (th) 2001-03-30

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Soares et al. Hydride effect on the kinetics of the hydrogen evolution reaction on nickel cathodes in alkaline media
Visintin et al. Changes in real surface area, crystallographic orientation and morphology of platinum electrodes caused by periodic potential treatments: phenomenological approach
EP2818583B1 (en) Electrolytic manganese dioxide, method for producing same, and use of same
EP1890349A2 (en) Electrolytic manganese dioxide, positive electrode active material, and battery
Brown et al. Confirmation of thiourea/chloride ion coadsorption at a copper electrode by in situ SERS spectroscopy
Zinola et al. Electroreduction of molecular oxygen on preferentially oriented platinum electrodes in acid solution
CN110165340A (zh) 一种铝空气电池用碱性电解液和铝空气电池
Stickney et al. Electrodeposition of Pb onto Pt (111) surfaces containing iodine adlattices: Studies by low-energy electron diffraction and Auger spectroscopy
TH43970A (th) ผงทองแดงที่มีพื้นที่ผิวสูง ความหนาแน่นต่ำและกระบวนการชุบผิวด้วยไฟฟ้าสำหรับการทำผงทองแดงดังกล่าว
EP3896198A1 (en) Electrolytic copper foil and method for producing same
Jin et al. Effect of some amino acid chelating agents on the passivation of copper anodes in copper sulfate/sulfuric acid electrolyte
van Dijk et al. Nanocomposite electrodes made of carbon nanofibers and black wax. Anodic stripping voltammetry of zinc and lead
Mathiyarasu et al. An insight into the passivation of cupronickel alloys in chloride environment
Šepa et al. Hydrogen Evolution Reaction at Sodium Tungsten Bronzes in Acid Solutions
CN108164041A (zh) 一种高精度压延铜箔黑化处理所产废水的处理方法
Mutlu et al. Enhanced corrosion resistance and surface characterization of anodized 7075 Al
Al‐Kharafi et al. Potentiodynamic Investigation of Cu in Alkaline Phosphate Solutions Containing Added Anions
Lorking Some electrode processes on copper anodes in orthophosphoric acid solution
Jeong et al. Correlations between electrolyte concentration and solid electrolyte interphase composition in electrodeposited lithium
CA2459553A1 (en) Electrolytic solution for alkaline battery and alkaline battery containing the same
Afifi et al. The formation of lead dioxide electrodes by the planté process
Singh et al. Electrochemical behaviour of 63/37 brass in aqueous binary mixtures of dimethyl formamide
SU897900A1 (ru) Электролит дл получени порошка сплава кобальта с самарием
Yun-long et al. Effects of sodium lignosulfonate on bismuth electrochemical deposition on copper surfaces from HCl-NaCl-BiCl3 solution
Mishina et al. Electrodeposition of silver from nitrate solutions