TH43814B - Gas supply system - Google Patents

Gas supply system

Info

Publication number
TH43814B
TH43814B TH1001706A TH0001001706A TH43814B TH 43814 B TH43814 B TH 43814B TH 1001706 A TH1001706 A TH 1001706A TH 0001001706 A TH0001001706 A TH 0001001706A TH 43814 B TH43814 B TH 43814B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
shield
gas
flow
valve
frame
Prior art date
Application number
TH1001706A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH43814A (en
Inventor
ดูเน่ บาร์โธโลมิว นายซูน เค ยู่ นายกรีโกรีย์ มร์ค สทูมโบ นายมาร์ค บี คิง นายเจฟฟรีย์ ชาน นายลอว์เร้นซ์
Original Assignee
ซิลิคอน วอลเลย์ กรุ๊พ เธอร์มอล ซิสเท็มส์ แอลแอลซี
Filing date
Publication date
Application filed by ซิลิคอน วอลเลย์ กรุ๊พ เธอร์มอล ซิสเท็มส์ แอลแอลซี filed Critical ซิลิคอน วอลเลย์ กรุ๊พ เธอร์มอล ซิสเท็มส์ แอลแอลซี
Publication of TH43814B publication Critical patent/TH43814B/en
Publication of TH43814A publication Critical patent/TH43814A/en

Links

Abstract

การประดิษฐ์นี้จะจัดให้มีอุปกรณ์และวิธีการสำหรับแจกจ่ายก๊าซด้วยการป้อน หลายครั้ง เข้าไปยังห้อง 125 เพื่อแปรรูป สับสเตรต 115 ในรูปลักษณะหนึ่ง ระบบ 155 จะประกอบด้วย เครื่องฉีดก๊าซที่ผ่านกระบวนการ 190 สำหรับนำก๊าซที่ผ่าน กระบวน การเข้าไปยังห้อง 125 และชุดประกอบของเกราะ 200 ซึ่ง มีโครงของส่วนหุ้มกำบัง 210, 215 จำนวนหนึ่งที่อยู่ถัดไป จากเครื่องฉีดก๊าซที่ผ่านกระบวนการเพื่อลดการเกาะสะสม ของผล พลอยได้จากกระบวนการบนนั้น โครงของส่วนหุ้มกำบัง 210, 215 แต่ละอัน จะมีแผงกั้น 230 และท่อสำหรับวัด 240 ที่มีแถวลำ ดับของรู 245 ในนั้นเพื่อส่งมอบชีลด์ ก๊าซผ่านแผงกั้น ชีลด์ ก๊าซจะถูกป้อนไปยังท่อสำหรับวัด 240 โดยผ่านทางไหล 255 จำนวนหนึ่ง ซึ่งแต่ละทางมีตัวจำกัดค่าของกระแสการไหล 265 ที่มีลิ้นออริฟิส 270 ซึ่งถูก จัดขนาดเพื่อให้มีกระแสการไหล ที่เท่ากันของซีลด์ก๊าซจากโครงของส่วนหุ้มกำบัง 210, 215 แต่ละอัน ทางที่ดี ลิ้นออริฟิส 270 ควรจะถูกจัดขนาดเพื่อ ให้กระแสการไหลของ ชีลด์ก๊าซผ่านท่อสำหรับวัด 240 แต่ละท่อ คงที่ถึงแม้ว่าชีลด์ก๊าซจะถูกป้อนจากช่องจ่ายซึ่ง จะแปรผัน ในความดันหรือกระแสการไหล This invention will provide a device and method for gas distribution by multiple feeding into chamber 125 to process the substratum 115 in one form. Go through the process to enter room 125 and armor assembly 200, which houses a number of 210, 215 shield frames next to it. from a gas injection machine that has been processed to reduce the deposition of by-products from the process on it. Each shield frame 210, 215 has a 230 barrier and a 240 gauge tube with a sequence of 245 holes in it to deliver the shield. Gas is supplied through a shield shield. The gas is fed to the 240 measuring tube through a number of 255 flows, each of which has a 265 flow limiter with an Orifice 270 valve, which is sized to provide have a flow equal parts of the gas seal from the frame of each shield 210,215. Ideally, the Orifice 270 valve should be sized to let the flow of The gas shield passes through each 240 measuring tubes. Stable even if the gas shield is fed from outlets which vary in pressure or flow.

Claims (1)

1. ชุดประกอบของเกราะสำหรับระบบการเกาะสะสมของไอสารเคมี ซึ่งชุด ประกอบของเกราะมีส่วนประกอบดังต่อไปนี้ (a) โครงของส่วนหุ้มกำบังหลายอัน ซึ่งโครงของส่วนหุ้ม กำบังแต่ละอันมีแผงกั้น และท่อนำที่มีแถวลำดับของรูในนั้น เพื่อส่งมอบซีลด์ก๊าซผ่านแผงกั้น และ (b) ทางไหลหลายทาง ซึ่งทางไหลอย่างน้อยหนึ่งทางถูกประกบ กับท่อนำแต่ละท่อ เพื่อป้อนชีลด์ก๊าซไปยังส่วนนั้น และ (c) ตัวจำกัดค่าของกระแสการไหลในทางไหลแต่ละทาง ซึ่งตัว จำกัดค่าของกระแส การไหลมีลิ้นออรีฟีสที่มีพื้นที่หน้าตัด1. An armor assembly for a chemical vapor deposition system in which the armor assembly consists of the following components: (a) the frame of the shield. Which the structure of the cladding Each shield has a barrier. And guide pipes with an array of holes in them To deliver gas seals through barrier panels and (b) multiple flow routes. In which at least one flow is interlaced With each guide pipe To feed the gas shield to that section and (c) the limiter of the current flow in each flow, which the limiter of the current The flow has an orphe valve with cross-sectional area.
TH1001706A 2000-05-16 Gas supply system TH43814A (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH43814B true TH43814B (en) 2001-03-20
TH43814A TH43814A (en) 2001-03-20

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102613349B1 (en) Exhaust apparatus and substrate processing apparatus and thin film fabricating method using the same
EP1796442B1 (en) Plasma processing system
US7468494B2 (en) Reaction enhancing gas feed for injecting gas into a plasma chamber
DE112012001861B4 (en) chemical supply system
KR960039050A (en) Substrate deposition apparatus
RU2012158324A (en) SYSTEM (OPTIONS) AND METHOD FOR REDUCING THE DYNAMICS OF COMBUSTION IN THE COMBUSTION CHAMBER
EP1054076A3 (en) Gas distribution system
HK1093717A1 (en) Method and device for electron beam irradiation
JPS60129668A (en) Liquid chromatograph mass spectrometer
CN103237919B (en) Modular coater separates
US20230332783A1 (en) Steam dispersion system
US9803281B2 (en) Nozzle head and apparatus
JP2022509662A (en) Multi-chamber vacuum exhaust system
TH43814B (en) Gas supply system
US20140334982A1 (en) Apparatus for Treating a Gas Stream
CA2506103A1 (en) Flow directing insert for a reactor chamber and a reactor
TH43814A (en) Gas supply system
PL1475139T3 (en) Cleaning apparatus for a group of tubular filter elements, which are open at one end
ATE172649T1 (en) VENTURI SCRUBBER WITH TWO ADJUSTABLE VENTURI THROATS
US20220390414A1 (en) Ion mobility spectrometer
CN112567068B (en) Apparatus for coating a substrate with a carbon-containing layer
KR101323360B1 (en) Heater unit and substrate treating apparatus having the same
ES8503817A1 (en) Feed-water heater.
WO2012028782A1 (en) Nozzle head
US20070189909A1 (en) Apparatus for manufacturing semiconductor devices