TH37151A - วิธีสำหรับบำบัดวัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์และเวสเซลและโรงงานสำหรับทำตามวิธีนี้ - Google Patents
วิธีสำหรับบำบัดวัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์และเวสเซลและโรงงานสำหรับทำตามวิธีนี้Info
- Publication number
- TH37151A TH37151A TH9701001741A TH9701001741A TH37151A TH 37151 A TH37151 A TH 37151A TH 9701001741 A TH9701001741 A TH 9701001741A TH 9701001741 A TH9701001741 A TH 9701001741A TH 37151 A TH37151 A TH 37151A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- treatment
- fine
- gas
- fluidide
- layer
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (17/08/42) ในวิธีสำหรับบำบัด วัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์ วัสดุละเอียดจะถูกรักษาในชั้นฟลูอิ ไดด์ (2) โดยแก๊สบำบัดที่ไหล จากฐานขึ้นสู่ด้านบนและที่ซึ่งจะถูกบำบัดในนั้น เพื่อที่จะลดการใช้แก๊สบำบัดให้ต่ำที่สุด และเพื่อที่จะลด การหลุดออกไปของอนุภาค ละเอียดโดยแก๊สบำบัด วัสดุละเอียดที่ มีการกระจายอนุภาคใหญ่และสัดส่วนค่อนข้างสูง ของอนุภาค ละเอียดจะถูกนำมาใช้สำหรับบำบัดและความเร็วผิวหน้าของแก๊ส บำบัดในชั้น ฟลูอิไดด์ (2) จะถูกรักษาให้น้อยกว่าความเร็ว ที่ต้องการสำหรับฟลูอิไดด์อนุภาคที่ใหญ่ที่สุด ของวัสดุ ละเอียดที่ได้กล่าวมาแล้ว (รูปที่ 1) ในวิธีสำหรับบำบัด วัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์ วัสดุละเอียดจะถูกรักษาในชั้นฟลูอิไดด์ (2) โดยแก๊สบำบัดที่ไหล จากฐานขึ้นสู่ด้านบนและที่ซึ่งจะถูกบำบัดในนั้น เพื่อที่จะลดการใช้แก๊สบำบัดให้ต่ำที่สุด และเพื่อที่จะลด การหลุดออกไปของอนุภาคละเอียดโดยแก๊สบำบัด วัสดุละเอียดที่ มีการกระจายอนุภาคใหญ่และสัดส่วนค่อนข้างสูงของอนุภาค ละเอียดจะถูกนำมาใช้สำหรับบำบัดและความเร็วผิวหน้าของแก๊ส บำบัดในชั้นฟลุอิไดด์ (2) จะถูกรักษาให้น้อยกว่าความเร็ว ที่ต้องการสำหรับฟลูอิไดด์อนุภาคที่ใหญ่ที่สุดของวัสดุ ละเอียดที่ได้กล่าวมาแล้ว (รูปที่ 1)
Claims (1)
1. วิธีสำหรับบำบัด ที่นิยมรีดิวส์ วัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์ โดยเฉพาะสำหรับรีดิวส์สินแร่ละเอียด ที่ซึ่ง วัสดุละเอียดที่ได้กล่าวมาแล้วจะถูกรักษาในชั้นฟลูอิไดด์ (2) โดยแก๊สบำบัดที่ไหลจากฐานขึ้นสู่ด้านบน และที่ซึ่งจะ ถูกบำบัดในนั้นบรรยายลักษณะที่ว่า วัสดุละเอียดที่มีการ กระจายอนุภาคกว้างที่มีสัดส่วนค่อนข้างสูงของอนุภาคละเอียด และสัดส่วนของอนุภาคที่ใหญ่กว่าจะถูกใช้สำหรับบำบัดและ ความเร็วผิวหน้าของแก๊สบำบัดในชั้นฟลูอิไดด์(2) จะถูกรักษา ให้น้อยกว่าความเร็วที่ต้องการสำหรับฟลูอิไดด์สัดส่วนของ อนุภาแท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH37151A true TH37151A (th) | 2000-02-14 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS54108464A (en) | Method of biologically treating drainage by downward flow | |
| GEP20012468B (en) | Method and Apparatus for Producing a High-Velocity Particle Stream | |
| DE69627507D1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum bearbeiten einer öffnung mittels einer abrasiven flüssigkeit | |
| GR3005939T3 (th) | ||
| EP1603154A3 (en) | Apparatus and method for surface finishing a silicon film | |
| DE69806949D1 (de) | Verfahren und gerät zum herstellen dreidimensionaler körper | |
| NZ235950A (en) | Method of treating or coating a substrate with an aqueous dispersion of copolymer particles | |
| JPS5969265A (ja) | 精密湿式ブラスト用投射材及びその製法 | |
| CA2187092A1 (en) | Structure forming method, apparatus and the resulting product | |
| WO2004031433A3 (en) | Tungsten disulfide surface treatment and method and apparatus for accomplishing same | |
| TH37151A (th) | วิธีสำหรับบำบัดวัสดุละเอียดในวิธีชั้นฟลูอิไดด์และเวสเซลและโรงงานสำหรับทำตามวิธีนี้ | |
| ES8607745A1 (es) | Procedimiento y dispositivo para la concentracion de una superficie de particulas microscopicas | |
| EP0982379A3 (en) | Particle surface-modifying method and particle surface-modifying device | |
| ATE454224T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur trennung von teilchenmaterial | |
| CN86100414A (zh) | 磁力植砂工艺及其设备 | |
| JPS5721267A (en) | Wet-blast process | |
| JPS57198545A (en) | Manufacture of magnetic recording medium | |
| ATE134553T1 (de) | Verfahren zum herstellen von mit extrem harten schleifkörnern belegten schleif- od. dgl. werkzeugen, insbes.zur zahnradfeinbearbeitung und damit erhältliche schleif- od. dgl. werkzeug. | |
| JPH09141664A (ja) | 成形用金型 | |
| JPS543955A (en) | Spirally moving type particle shape controlling apparatus | |
| IL150052A0 (en) | A fluidized bed processor having a hydro dynamically active layer and a method for use thereof | |
| von Berg et al. | Process modelling for gas atomization of liquid metal jets | |
| JPS57117371A (en) | Method for finishing surface pattern on painting material | |
| JPS5621689A (en) | Water treating apparatus | |
| JPS52126591A (en) | Process for treating lapped surfce |