Claims (13)
1. กรรมวีธีสำหรับการแช่ซับสเตรทนำไฟฟ้าให้อิ่มตัว โดยเฉพาะอย่างยิ่งขดลวดพันของเครื่องไฟฟ้าด้วยเรซินระบบ A) ซึ่งสามารถบ่มตัวด้วยวิธีแรดิคัลเสรี ซึ่งมีลักษณะพิเศษใน ที่ว่าเรซินระบบ A) นี้ประกอบด้วย A1) เรซินซึ่งสามารถบ่มตัวโดยวิธีแรดิคัลเสรีเพื่อให้ เทอร์โมเซททิงพลาสติก A2) สารช่วยบ่มชนิดที่เหมาะสมอย่างน้อย 1 ชนิด และตัวเร่ง ถ้าต้องการ A3) ถ้าต้องการโคโมโนเมอรและ/หรือพอลิเมอร์อื่น ๆ ต่อไป อีกซึ่งมีพันธะคู่ไม่อิ่มตัวแบบเอธิลีนที่สามารถเกิดพอลิเ มอร์ได้แบบแรดิคัลเสรี ซึ่งมีความดันไอของ A3) ต่ำที่ อุณหภูมิการแช่ให้อิ่มตัวและการบ่มตัวและ A4) ถ้าต้องการสารเติมแต่งสามัญทั่วไปต่อไปอีก มีลักษณะพิเศษในที่ว่าเรซินระบบ A) เป็นกึ่งผลึกหรือผลึก พลาสติก ความหนืดสูงที่อุณหภูมิห้องและมีลักษณะพิเศษในที่ ว่า ระซินระบบ A) มีความหนืดต่ำที่อุณหภูมิการแช่ให้อิ่ม ตัว1. The process for immersing conductive substrates, especially electrical device coils, with a freely radically curing resin system A) is characterized by the following: A1) a freely radically curing resin to form thermosetting plastic; A2) at least one suitable curing agent and a catalyst if desired; A3) if further comonomers and/or polymers with freely radically polymerizable unsaturated ethylene double bonds are required, resulting in low vapor pressure at the immersion and curing temperatures; and A4) if further common additives are desired. A key characteristic of resin system A is that it is a semi-crystalline or crystalline plastic with high viscosity at room temperature and exhibits low viscosity at the immersion temperature.
2. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าเรซินส่วนประกอบ A1) นี้เลือกจาก กลุ่มที่ประกอบด้วยพอลิเอสเทอร์ไม่อิ่มตัว พอลิเอสเทอรชนิด ไม่อิ่มตัว บิสมาลิอิมีด โอลิโกเมอริกไดแอลลิลฟธาเลท ไวนิล อีเธอร์ที่เสรีจากโคโมเมอร์ ไวนิลเอสเทอร์ที่เสรีจากโคโ มโนเมอร์ ไวนิลยูรีเธนที่เสรีจากโคโมโนเมอร์ พอลิบิวทะได อีน เรซิน และ/หรือ สารผสมของสารเหล่านี้และพอลิเอสเทอร์ ไม่อิ่มตัวและพอลิเอสเทอร์ริมิดไม่อิ่มตัวนี้อาจจะมีหมู่ไว นิลและ/หรือหมู่แอลลิลที่สามารถเกิดโคพอลิเมอร์ได้อยู่ด้วย2. The immersion saturation procedure under claim 1 is characterized by the fact that the resin component A1) is selected from a group consisting of unsaturated polyesters, unsaturated polyesters, bismalimide, oligomeric diallyl phthalates, comomer-free vinyl ethers, comomer-free vinyl esters, comomer-free vinyl urethanes, polybutadiene resins and/or mixtures of these and these unsaturated polyesters and unsaturated polyester rimides may contain copolymerizable vinyl and/or allyl groups.
3. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าเลือกเรซิน ส่วนประกอบ A1) นี้ จากกลุ่มที่ประกอบด้วยพอลิเอสเทอร์ไม่อิ่มตัว พอลิเอสเทอร์ ริมิดไม่อิ่มตัวและบิสมาลิอิมีด และมีลักษณะในที่ว่าเรซิน ส่วนประกอบ A3)นี้เลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยโอลิโกเมอริก ไอแอลลิลฟธาเลทไดไวนิลเอธิลีนยูเรีย ไดไวนิลโพรธิลีนยูเรีย N-ไวนิลคาร์บาโซล N-ไวนิลพิโรลิโคน ไวนิล เอสเทอร์ที่เสรีจากโคโมโนเมอร์ ไวนิลอีเธอร์ที่เสรี จากโคโมโนเมอร์ ไวนิลบูรีเธนที่เสรีจากโคโมโนเมอร์ พอลิเอส เทอร์ที่มีหมู่ไวนิลและ/หรือหมู่แอลลิลอยู่ด้วยหรือสารผสม ของสารเหล่านี้3. The immersion process under claim 2 is characterized by the selection of resin component A1) from the group of unsaturated polyesters, unsaturated rimidated polyesters and bismalimide, and by the characteristic that resin component A3) is selected from the group of oligomeric, allyl phthalate divinylethylene urea, divinylprothylene urea, N-vinyl carbazole, N-vinyl pyrolicone, comonomer-free vinyl esters, comonomer-free vinyl ethers, comonomer-free vinyl butane, polyesters containing vinyl and/or allyl groups, or mixtures of these.
4. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่า ส่วนประกอบ ช่วยบ่ม A2) นี้เป็นเปอร์ออกไซด์ อินทรีย์และ/หรือ สาร ประกอบซึ่งแรดิคัลเสรีเป็นผลจากพันธะคาร์บอนกับคาร์บอนแตก ออไป 1 พันธะหรือมากกว่านี้4. The saturation process under any one of the claims 1 through 3 is characterized by the fact that the curing compound A2) is an organic peroxide and/or compound which is radically free as a result of the breaking of one or more carbon-carbon bonds.
5. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าน่าส่งเรซิน ระบบ A) ในสถานะที่กระตุ้นให้ว่องไวแล้วหรือกระตุ้นให้ว่อง ไวทันทีก่อนขึ้นการแช่อิ่มตัวโดยการเติมส่วนประกอบช่วยการ บ่อม A2)5. The immersion process under any one of the claims 1 through 4 is characterized by the delivery of resin in the system A) in an activated state or immediately activated prior to immersion by adding auxiliary components A2).
6. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าการแช่ให้ อิ่มตัวนี้ ทำซับสเตรทที่ต้องการแช่ให้อิ่มตัวนี้ ให้ร้อน ไว้ล่วงหน้าให้ถึงอุณหภูมิซึ่งเท่ากับหรือสูงกว่าอุณหภูมิ ของสารหลอมเหลวของเรซินระบบนี้6. The immersion process under any one of the claims 1 through 5 is characterized by the preheating of the substrate to be saturated to a temperature equal to or greater than the molten temperature of the resin of this system.
7. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าปฏิบัติการทำซับสเตรทให้ร้อนไว้ ล่วงหน้าให้สำเร็จโดยความร้อนจูล การทำให้ร้อนแบบการ เหนี่ยวนำการฉายรังสีไมโครเวฟ การฉายรังสีอินฟาเรดหรือโดย การผ่านทางตู้อบร้อนแบบสามัญทั่วไป7. The saturation process under claim 6 is characterized by the preheating of the substrate by joule heating, induction heating, microwave irradiation, infrared irradiation, or by conventional heat treatment.
8. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าปฏิบัติการ แช่ซับสเตรทให้อิ่มตัวให้สำเร็จโดยการจุ่มอย่างง่าย ๆ โดย การทำให้ท่วม โดยการหมุนจุ่ม โดยการหยดหรือโดยการหล่อใน หรือด้วยสารหลอมเหลวที่เป็นเรซินระบบ A) ที่ซึ่งการทำ ซับสเตรทให้ร้อนในระหว่างกรรมวิธีการแช่ให้อิ่มตัวนี้ไม่จำ เป็นต้องขัดจังหวะ8. A immersion procedure under any of the claims 1 through 7 which is of the special nature that the substrate immersion is accomplished by simple immersion, by flooding, by rotating immersion, by dripping or by casting in, or by a molten resin system A), in which the heating of the substrate during this immersion procedure does not need to be interrupted.
9. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง8 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าในกรณีของการ แช่ให้อิ่มตัวดดยการจุ่หรือการทำให้ท่วมสามารถทำให้ร้อนไป พร้อมกันได้ในีระหว่างกรรมวิธีการแช่ให้อิ่มตัว ซึ่ง ซับสเตรทนี้คงอยู่ในเรซินระบบ A) จนกระทั่งเรซินที่มีอยู่ ในซับสเตรทนี้เกิดเป็นเจล9. A immersion process under any of the claims 1 through 8 which is of a special nature in which, in the case of immersion by submersion or flooding, it can be heated simultaneously during the immersion process, and the substrate remains in the resin system A) until the resin in the substrate forms a gel.
10. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 10 ข้อใดข้อหนึ่งซึ่งมีลักษณะพิเศษในที่ว่าหลังจากชั้น การแช่ให้อิ่มตัวนี้ปฏิบัติการบ่มของสารหลอมเลวที่เป็นเร ซินระบบ A) ที่มีอยู่ในซับสเตรทนี้ให้สำเร็จโดยความร้อนจูล การทำให้ร้อนแบบการเหนี่ยวนำการฉายรังสีไมโครเวฟ การฉาย รังสีอินฟาเรดโดยการผ่านทางตู้อบ ร้อนสามัญทั่วไปที่ อุณหภูมิซึ่งสูงกว่าอุณหภูมิของสารหลอมเหลวที่เป็นเรซิน ระบบ A)10. Any of the immersion processes under claims 1 through 10 are characterized by the following: after this immersion layer, the curing of the molten resin system A) contained in this substrate is completed by joule heating, induction heating, microwave irradiation, infrared irradiation, or conventional oven heating at a temperature higher than the temperature of the molten resin system A).
11. กรรมวิธีสำหรับการแช่ให้อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 10ซึ่งมีลักษณะพิเศษใน ที่ว่าสนับสนุนการบ่มตัวเพิ่มเติมของสารหลมเหลวที่เป็นรเ ซินระบบ A) ที่มีอยู่ในซับสเตรทนี้โดยการปฏิบัติงานของ รังสีพลังงานสูงสำหรับการทำพื้นผิวให้แห้ง11. The immersion saturation process under claim 10 is characterized by the support of further curing of the resinous system A liquid contained in this substrate by the action of high-energy radiation for surface drying.
12. การใช้ประโยชน์ของกรรมวิธีสำหรับการแช่ซับสเตรทให้ อิ่มตัวตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง ข้อ 11 ข้อใดข้อหนึ่ง สำหรับซับสเตรทที่นำไฟฟ้า12. Utilization of any of the substrate saturation methods under claims 1 through 11 for electrically conductive substrates.
13. การใช้ประโยชน์ของกรรมวิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 12 สำหรับขดลวดพันเครื่องไฟฟ้า (ข้อถือสิทธิ 13 ข้อ, 3 หน้า, 0 รูป)13. Utilization of the processes under claim 12 for electrical winding coils (13 claims, 3 pages, 0 images)