Claims (8)
1. กรรมวิธีการ สำหรับการเตรียมผงแทนทาลัม โดยที่ซึ่งผงที่เป็นกลุ่มแบสิกของแทนทาลัมได้ ถุกเตรียมโดยขั้นตอนรีดักชันตามด้วยขั้นตอนการล้างด้วยน้ำ การชะละลายด้วยกรด และการทำให้แห้ง ก่อนการปฏิบัติการด้วยความร้อน ซึ่งผงที่เป็นกลุ่มแบสิกของแทนทาลัมดังกล่าวมีกลุ่มก้อนที่เป็นกลุ่ม แบสิก ซึงประกอบด้วยอนุภาคของผงแต่ละชนิด โดยที่การปรับปรุงประกอบด้วย การผงที่เป็นกลุ่มแบสิกดังกล่าวไปผ่านขั้นตอนการแตกกลุ่มก้อนระหว่างขั้นตอนรีดักชัน และการปฏิบัติการด้วยความร้อน ซึงขั้นตอนการแตกกลุ่มก้อนดังกล่าวได้ถูกกำเนินการจนกระทั่ง ผลผลิตที่ถูกแตกกลุ่มก้อนมีการกระจายของขนาดในลักษณะที่ผลผลิตมีเส้นผ่าศูนย์กลางเฉลี่ยเชิง ปริมาตร ,MV เป็นไมครอน พื้นที่ผิวหน้าจำเพาะหลายเท่า , BET เป็น ม.2 /กรัม จะต่ำกว่า 25 2.กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่งการทำให้แตกละเอียดดังกล่าว ได้ถูกดำเนินการ จนกระทั่งผลผลิตที่ถูกทำให้แตกละเอียด มีขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียดตั้งแต่ ประมาณ 0.01 ถึง 20 ไมโครเมตร 3. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่งการทำให้แตกละเอียดดังกล่าว ถูกดำเนินการอย่าง ต่อเนื่อง จนกระทั่งการกระจายขนาดของผลผลิตกลุ่มก้อน ที่ถูกทำให้แตกละเอียดมีค่าD10 น้อยกว่า 2.5 ไมโครเมตร 4. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง การทำให้แตกละเอียดดังกล่าว ถูกดำเนินการ อย่างต่อเนื่อง จนกระทั่งการกระจายขนาดของผลผลิตกลุ่มก้อน ที่ถูกทำให้แตกละเอียดมีค่า D90 น้อย กว่า 50 ไมโครเมตร 5. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง การกระจายขนาดของผลผลิตกลุ่มก้อนที่ถูกทำ ให้แตกละเอียดมีค่า D10 น้อยกว่า 2.5 และ D90 น้อยกว่า 50 ไมโครเมตร 6. กรรมวิธีการาของข้ถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง การกระจายขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกทำให้แตก ละเอียดดังกล่าว เป็นแบบยูนิโมดอล 7. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง การกระจายขนาดดังกล่าว มีขนาดกลุ่มก้อนที่ถูก ทำให้แตกละเอียดมัธยฐานสูงถึงประมาณ 10 ไมโครเมตร 8. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง ขั้นตอนการทำให้แตกละเอียดได้ถูกปฎิบัติการ โดยทำการผสมผงแทนทาลัมดังกล่าว กับของเหลว และทำการบดส่วนผสมของเหลวและผงแทนทาลัม ดังกล่าว ด้วยการใช้อุปกรณ์ผสมแรงเฉือนสูง 9. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 8 โดยที่ซึ่ง ของเหลวดังกล่าว ประกอบด้วยน้ำ 1 0. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง ขั้นตอนของการทำให้แตกละเอียดดังกล่าวได้ ถูกปฎิบัติการ โดยการใช้เครื่องบดละเอียดแบบกระแทก 1 1. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิ 10 ประกอบเพิ่มเติมด้วย ก่อนขั้นตอนการทำให้แตกละเอียด ดังกล่าว ทำปฎิกิริยราผงแทนทาลัมดังกล่าวกับไฮโดรเจน 1 2. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง ขั้นตอนการตทำให้แตกละเอียดได้ถูกปฎิบัติการ โดยการใช้อุปกรณ์บดละเอียดแอบบลูกกลม 1 3. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 12 ประกอบเพิ่มเติมด้วยก่อนขั้นตอนการทำให้แตก ละเอียดดังกล่าว ทำปฎิกิริยาผงแทนทาลัมดังกล่าว กับไฮโดรเจน 1 4. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง ขั้นตอนการทำให้แตกละเอียดได้ถูกปฎิบัติการ โดยการใช้อุปกรณ์บดละเอียดอุลตราไซนิก 1 5. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิ 14 ประกอบเพิ่มเติมด้วย ก่อนขั้นตอนการทำให้แตกละเอียด ดังกล่าว ทำปฎิกิริยาผงแทนทาลัมดังกล่าวกับไฮโดรเจน 1 6. กรรมวิะการของข้อถือสิทธิ 1 โดยที่ซึ่ง ผงที่เป็นกลุ่มแบซิกดังกล่าว ของแทนทาลัม ได้ ถูกปฎิบัติการลำดับแรก โดยรีดิวซึ่งเกลือแทนทาลัมด้วยสารรีดิวซึ่ง กรรมวิธีการดังกล่าว ประกอบ เพิ่มเติมด้วย หลังจากขั้นตอนของการทำให้แตกละเอียด คือ ขั้นตอนของการปฎิบัติการด้วยความร้อน ดีออกซิไดซิ่ง, การชะละลาย และการทำให้แห้งแก่ผงที่ถูกทำให้แตกละเอียดดังกล่าว 1 7. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 16 โดยที่ซึ่ง กลือแทนทาลัมประกอบด้วย K2Taf 1 8. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 16 โดยที่ซึ่ง สารรีดิวซิ่งดังกล่าว ถูกเลือกจากกลุ่มที่ ประกอบด้วยโซเดียม, โปตัสเซียม, แมกนีเซียม และไฮโดรเจน 1 9. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 ประกอบเพิ่มเติมด้วย หลังจากขั้นตอนการทำให้แตก ละเอียดดังกล่าว ปฎิบัติการด้วยความร้อนแก่ผงแทนทาลัมดังกล่าว เพื่อให้เกิดเป็นผงแทนทาลัม ที่ถูก ปฎิบัติการด้วยความร้อน ซึ่งมีกลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน 2 0. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 19 ประกอบเพิ่มเติมด้วยหลังจากขั้นตอนการปฎิบัติการ ด้วยความร้อนดังกล่าว ดีออกซิไดซิ่ง แก่ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อนดังกล่าวเมื่อทำให้ เกิดเป็นผงที่ถูกทำเป็นกลุ่มก้อน ซึ่งถูกดีออกซิไดซ์ และถุกปฎิบัติการด้วยความร้อน และกลุ่มก้อนที่ถูก ดีออกซิไดซ์ 2 1. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 19 โดยที่ซึ่ง ขั้นตอนของการปฎิบัติการด้วยความร้อน ดังกล่าว ถูกดำเนินการที่อุณหภูมิตั้งแต่ประมาณ 800 องศาเซลเซียส ถึงประมาณ 1600 องศาเซลเซียส 2 2. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 20 ประกอบเพิ่มเติมด้วยขั้นตอนของการร่อนด้วยตะแกรง แก่ผงแทนทาลัม ที่ถูกดีออกซิไดซ์และถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน เพื่อให้ได้รับผลผลิตที่เป็นผง แทนทาลัม ซึ่งมีการกระจายขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกดีออกไดซ์และถูกปฎิบัติการด้วยความร้อนแบบ ยูนิโมดอล 2 3. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 22 โดยที่ซึ่ง ช่วงการกระจายขนาดกลุ่มก้อนแบบยูนิ โมดอล คือ30-500ไมโครเมตร 2 4. กรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 20 โดยที่ซึ่ง ผงที่ถูกทำเป็นกลุ่มก้อนที่ถูกดีออกซิไดซ์ และถูกปฎิบัติการด้วยความร้อนดังกล่าว มีการกระจายขนาด ด้วยขนาดกลุ่มก้อนมัธยฐานคือ150 ถึง 250 ไมโครเมตร 2 5. ผงแทนทาลัม ที่ถูกผลิตขึ้นตามที่สอดคล้องกับกรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 1 2 6. ผงแทนทาลัม ที่ถูกผลิตขึ้นตามที่สอดคล้องกับกรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 6 2 7. ผงแทนทาลัม ที่ถูกผลิตขึ้นตามที่สอดคล้องกับกรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 14 2 8. ผงแทนทาลัม ที่ถูกผลิตขึ้นตามที่สอดคล้องกับกรรมวิธีการของข้อถือสิทธิ 22 2 9. ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ซึ่งมีอนุภาคกลุ่มก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียดโดยที่ ซึ่งเป็นผลผลิตของเส้นศูนย์กลางเชิงปริมาตร MV อยู่ในไมครอน พื้นที่ผิวหน้าจำเพาะ BET ใน ม2/กรัม อยู่ในช่วงต่ำกว่า 25 3 0. ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ของข้อถือสิทธิ 29 โดยมีการกระจายขนาดกลุ่ม ก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียดด้วยค่าD10 น้อยกว่า 2.5 ไมรโครเมตร 31.Processes for preparing tantalum powder Where the powder that is the classic tantalum group It was prepared by a reduction step followed by a water rinsing procedure. Acid leaching And drying Before thermal operation The powders that belong to the classic tantalum group contain the basic clump consisting of particles of each powder. Where improvements consist of The bulk powder is passed through the bulking process during the reduction process. And operating with heat The process of dissociation was carried out until Clumped yields have size distribution in such a way that the yield has a volumetric mean diameter, MV in microns, multiple specific surface area, BET in m 2 / g is lower than 25. 2. Claims method. 1 where such shattering Has been done Until the products are shattered The finer size ranges from approximately 0.01 to 20 μm. 3. Procedure of claim 1, where such fineness shall be as follows. Was continued until the size distribution of the bulk yield The resolution of D10 is less than 2.5 μm. 4. Procedure of claim 1, where such shattering is performed is continuous. Until the distribution of the size of the clump product Fragmented, D90 was less than 50 μm 5. Method of claim 1 whereby the size distribution of the clump produced D10 is less than 2.5 and D90 is less than 50 μm. 6. Clause 1, where the distribution of the size distribution of the fractured clump is less than 50 μm. Such detail It is unimodal. 7. The method of claim 1 whereby the size distribution Has the correct size of the clusters Declination of median up to approximately 10 μm. 8. Procedure of claim 1 whereby the fining process was performed. The tantalum powder is mixed with the liquid and the liquid mixture and the tantalum powder are ground through the use of a high shear mixing device. 9. Process of claim 8 where the liquid is Consists of water 1 0. Process of claim 1, whereby the process of such shattering is Operated By using a impact grinding machine. 1 1. Process of claim 10 includes additional Before the aforementioned shattering procedure, the said tantalum powder was applied with hydrogen 1 2. Procedure of Claim 1, where the fining procedure was performed. By the use of grinding equipment to cover the balls. 1. 3. Process of claim 12 is supplemented before the cracking process. Such detail React the said tantalum powder with hydrogen 1 4. Procedure of claim 1 where the fining process was performed. By using ultrasynthetic grinding equipment 1 5. Process of claim 14 consists of additions. Before the aforementioned refinement procedure, said tantalum powder with hydrogen 1 6. Behavior of claim 1, where the aforementioned tantalum group powder was executed. First By reducing the tantalum salt with the redew substance which The aforementioned process includes additional After the fining step is the process of heat treatment. Deoxidizing, leaching and drying of the aforementioned powder 1 7. Procedure of Claim 16 Where Tantalum Pickling contains K2Taf 1 8. Claim Procedure 16 Where such reducing substance Was selected from the group Contains Sodium, Potassium, Magnesium and Hydrogen 1 9. Process of claim 1 includes additions. After the cracking procedure Such detail Treated with heat to the tantalum powder. To form a tantalum powder that was treated with heat. Which has a clump that has been heat treated 2 0. Process of claim 19 is supplemented after the operation process. With such heat Deoxidizing To the tantalum powder that was treated with such heat when Forming a powder that has been formed into clumps Deoxidized And operating with heat And de-oxidized clot 2 1. Procedure of Claim 19 where the aforementioned thermoforming procedure was performed at temperatures ranging from approximately 800 ° C to approximately 1600. Degrees Celsius 2 2. The method of claim 20 is supplemented by the sieving process. Mature tantalum powder That were de-oxidized and treated with heat To obtain tantalum powder yield, which has a deoxidized clump size distribution and is treated with unimodal heat 2 3.Procedure of claim 22 by Where the unimodal bulk size distribution range is 30-500 μm 2 4. Method of claim 20 whereby the deoxidized bulk powder is determined by the And was treated with such heat Size distribution With the median clot size of 150 to 250 μm 2 5. Tantalum powder produced in accordance with the process of claim 1 2 6. Tantalum powder produced in accordance with the process of claim 6 2 7. Tantalum powder produced in accordance with Clause 14 2 8. Tantalum powder was manufactured in accordance with Claim 22 2 9. Tantalum powder that has been shredded. Which contains a group of particles that have been shattered, where Which is the product of the volumetric center MV in microns, the BET specific surface area in m 2 / g is in the range below 25 3 0. Fractured tantalum powder. Of claim 29, with group sizes distributed Crushed lump with a D10 value less than 2.5 μm 3.
1. ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ของข้อถือสิทธิ 28 ซึ่งมีการกระจายขนาดกลุ่ม ก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียดด้วยค่าD90 น้อยกว่า 20 ไมโครเมตร 31.Shattered tantalum powder Of claim 28, in which group sizes are distributed Crushed lumps with a D90 value less than 20 μm 3.
2. ผงที่ถูกทำให้แตกละเอียด ของข้อถือสิทธิ 28 ซึ่งมีการกระจายขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกทำให้ แตกละเอียดด้วยค่า D10 น้อยกว่า 2.5 และค่า D90 น้อยกว่า 20 ไมโครเมตร 32.Finish powder Of claim 28, in which the size of the compromised clusters is distributed Finely cracked with D10 values less than 2.5 and D90 values less than 20 μm 3.
3. ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน ซึ่งมีขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน โดยที่ซึ่งเป็นผลผลิตของเส้นผ่านศูนย์กลางเชิงปริมาตร ของกลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน MV อยู่ในไมครอน พื้นที่ผิวหน้าจำเพาะหลายเท่า BET ใน ม2/กรัม อยู่ในช่วงตั้งแต่ป 90 ถึง 250 และ BET มากกว่าที่ประมาณ 0.7 ม2/กรัม 33.Tantalum powder that is treated with heat Which is the size of a cluster that has been treated with heat Where is the product of the volumetric diameter Of the thermally treated MV clusters in microns, the specific surface area is several times the BET in m 2 / g, in the range from 90 to 250, and the BET greater than approximately 0.7 m 2 / g3.
4. ผงแทนลาทัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน ของข้อถือสิทธิ 33 ซึ่งมีการกระจายขนาด กลุ่มก้อน ที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน ด้วยค่า D10 น้อยกว่า 45 3 5. ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน ของข้อถือสิทธิ 32 ซึ่งมีการะกระจายขนาด กลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยการความร้อนด้วยค่า D90 น้อยกว่า 350 ไมโครเมตร 3 6. ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน ของข้อถือสิทธิ 33 ซึ่งมีการกระจายขนาด กลุ่มก้อน ที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อนพร้อมกับค่า D10 น้อยกว่า 45 และ D90 น้อยกว่า350 3 7. ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกซิไดซ์ ซึ่งมีอนุภาคกลุ่มก้อนที่ ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกไซด์ โดยที่ซึ่งเป็นผลผลิตของเส้นผ่าศูนย์กลางเชิงปริมาตรของ กลุ้มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกซิไดซ์ MV อยู่ในไมครอน จำนวนครั้งของพื้นที่ ผิวหน้าจำเพาะ BET อยู่ในม2/กรัม คืออยู่ในช่วงน้อยกว่า 90 ถึง 250 และ BET มากกว่าเกินกว่า 0.7 ม2/กรัม 3 8.ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกซิไดซ์ ของข้อถือสิทธิ 37 ซึ่งมี การกระจายขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกซิไซด์ พร้อมกับค่า D90 น้อยกว่า 45 3 9. ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกซิไดซ์ ของข้อถือสิทธิ 37 ซึ่งมี การกระจายขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีไซด์ พร้อมกับค่า D10 น้อยกว่า 350 ไทมโครเมตร 4 0. ผงแทนทาลัมที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกซิไดซ์ ของข้อถือสิทธิ 37 ซึ่งมี การกระจายขนาดกลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีไซด์ กับค่า D10 น้อยกว่า 45 และ D90 น้อยกว่า 350 4 1. ผงที่เป็นกลุ่มแบซิกที่ถูกทำให้แตกละเอียดของแทนทาลัม ซึ่งมีอนุภาคกลุ่มก้อนที่ถูกทำ ให้แตกละเอียด โดยที่ซึ่งอัตราส่วนของความหนาแน่นมวลรวมสก๊อต อยู่ในกรัม/นิ้ว3 :BET พื้นที่ ผิวหน้าจำเพาะอยู่ใน ม2/กรัม อยู่ในช่วงตั้งแต่ 20 ถึง 35 4 2. ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ดังที่ถูกอ้างถึงในข้อถือสิทธิ 29 โดยที่ซึ่งหลังจากการ ปฎิบัติการด้วยความร้อน และดีออกซิไดซ์ ผงแทนทาลัมดังกล่าว มีอนุภาคกลุ่มก้อนที่ปฎิบัติการ ด้วยความร้อนและถูกดีออกซิไดซ์ โดยที่ซึ่งอัตราส่วนของความหนาแน่นมวลรวมสก็อตเป็น กรัม /นิ่ว 3 : พื้นที่ผิวหน้า BET เป็น ม.2 กรัม จะอยู่ในช่วงตั้งแต่ 38 ถึง 50 และ BET จะมากกว่า 0.86 ม.2/กรัม 4 3.ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ดังที่ถูกอ้างถึงในข้อถือสิทธิ 29 โดยที่ ซึ่งหลังจาก การปฎิบัติการด้วยความร้อน และดีออกซิไดซ์ ผงแทนทาลัมดังกล่าว มีอนุภาคกลุ่มก้อนที่ถูกปฎิบัติการ ด้วยความร้อนและถูกดีออกซิไดซ์ โดยที่ซึ่ง อัตราส่วนของความเร็วการบรรจุแม่พิมพ์ อยู่ใน มก./วินาที พื้นที่ผิวหน้า BET อยู่ใน ม.2/ กรัม อยู่ในช่วงตั้งแต่ 66 ถึง 160 สำหรับผงกับ BET จะมากกว่า 0.86 ม.2/กรัม 4 4.ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ดังที่ถูกอ้างถึงในข้อถือสิทธิ 29 โดยที่ ซึ่งหลังจาก การปฎิบัติการด้วยความร้อน และดีออกซิไดซ์ ผงแทนทาลัมดังกล่าว มีอนุภาคกลุ่มก้อนที่ถูก ปฎิบัติการด้วยความร้อนและถูกดีออกซิไดซ์ โดยที่ซึ่ง อัตราส่วนของความเร็วการบรรจุแม่พิมพ์ อยู่ใน มก./วินาที พื้นที่ผิวหน้า BET อยู่ใน ม.2/ กรัม หลังจากทำการร่อนด้วยตะแกรง ให้มีขนาด -500 เมช อยู่ในช่วงตั้งแต่ 350 ถึง 700 สำหรับผงกับ BET จะมากกว่า 0.86 ม.2/กรัม 44. Tan Latum powder that has been treated with heat. Of claim 33, where the thermally treated clump size distribution with a value D10 is less than 45 3 5. Thermally treated tantalum powder Of claim 32, which is distributed in size The clump was thermally treated with D90 less than 350 μm 3 6. Tantalum powder that was thermally treated. Of claim 33, where the thermally treated clump size distribution with D10 is less than 45 and D90 is less than 350 3. 7. Thermally treated tantalum powder. And was deoxidized Which contains particles that Being treated with heat And was deoxide Where is the product of the volumetric diameter of Wormwood cubes that were treated with heat And was deoxidized, MV in microns, number of times the area BET specific surface is in m2 / g. It is in the range less than 90 to 250 and BET is greater than 0.7 m 2 / g. 3 8. Tantalum powder that has been treated with heat. And was deoxidized Of claim 37, where the heat-treated cluster sizes are distributed And was deoxidized with D90 less than 45 3 9. Tantalum powder that was treated with heat. And was deoxidized Of claim 37, where the chunk size distribution was thermally treated and deformed with a D10 value less than 350 thymchrome 4 0. Treated tantalum powder Heat treatment And was deoxidized Of claim 37, where the bulk size distribution was thermally treated and designed with a D10 value less than 45 and D90 less than 350 4 1. Basig treated powder. Fineness of tantalum Which contains particles Shatter Where is the ratio of the total mass density of Scotch In g / in 3: BET specific surface area in m 2 / g ranges from 20 to 35 4 2. Finely crushed tantalum powder. As referred to in claim 29, where after the Operating with heat And deoxidized Such tantalum powder There are clumps of particles that operate With heat and being de-oxidized Where the ratio of the total mass density of scotch in grams / gallon 3: BET surface area in m 2 g ranges from 38 to 50 and BET is greater than 0.86 m 2 / g 4 3. Powder Crushed tantalum As referred to in claim 29, where after heat treatment And deoxidized Such tantalum powder There are clumps of particles that have been operated. With heat and deoxidized, where the mold filling speed ratio is in mg / s, the BET surface area is in m2 / g, it ranges from 66 to 160, for powder with BET is greater. 0.86m2 / g 4 4.Shifted tantalum powder As referred to in claim 29, where after heat treatment And deoxidized Such tantalum powder With particles It was heat treated and de-oxidized, where the mold filling speed ratio was in mg / s. BET surface area was in m2 / g. After sieving with a sieve to size. -500 mesh ranges from 350 to 700, for powder with BET more than 0.86 m2 / g 4.
5. ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ซึ่งถูกปฎิบัติการด้วยความร้อน และถูกดี ออกซิไดซ์ ให้ได้เป็นผงแทนทาลัมสุดท้ายที่ใช้ประโยชน์ สำหรับการผลิตตัวเก็บประจุ ผงดังกล่าว ประกอบด้วยอนุภาคกลุ่มก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียด ซึ่งมีการกระจายขนาดกลุ่มก้อนแบบยูนิโมดอล 45.Powdered tantalum powder Which was treated with heat and was de-oxidized to form the last used tantalum powder. For the manufacture of such powder capacitors, they consist of finely ground particles. Which has a unimodol 4 cluster size distribution
6. ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ซึ่งถูกปรับด้วยการปฎิบัติการด้วยความร้อนให้ได้ เป็นผงแทนทาลัมสุดท้าย ดังที่ถูกอ้างอิงถึงในข้อถือสิทธิ 45 โดยที่ซึ่ง กลุ่มก้อนที่ถูกก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียดมี การกระจายขนาดกลุ่มช่วงแคบ อยู่ในช่วงตั้งแต่ 0.01 ถึง 20 ไมครอน 4 7. ผงแทนทาลัมที่ถูกทำให้แตกละเอียด ซึ่งถูกปรับด้วยการปฎิบัติการด้วยความร้อนให้ได้ เป็นผงแทนทาลัมสุดท้าย ดังที่ถูกอ้างถึงในข้อถือสิทธิ 45 โดยที่ซึ่ง กลุ่มก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียด ดังกล่าว มีการกระจายขนาดกลุ่มก้อน ที่ถูกทำให้แตกละเอียดพร้อมกับขนาดกลุ่มที่ถูกทำให้แตกละเอียด มัธยฐาน คือประมาณ 3-5 ไมครอน 4 8. ผงแทนทาลัมที่ใช้ประโยชน์ สำหรับการผลิตตัวเก็บประจุซึ่งมี (a) การกระจายขนาด กลุ่มก้อนแบบยูนิโมดอล (b) การกระจายขนาดกลุ่มก้อนมีช่วงแคบอยู่ในช่วงตั้งแต่ประมาณ 30 ถึง 500 ไมโครเมตร และ (c) การกระจายกลุ่มก้อน พร้อมกับมีขนาดกลุ่มก้อนแบบมัธยฐาน ของ150 ถึง 250 ไมโครเมตร 4 9.กรรมวิธีการสำหรับการเตรียมผงแทนทาลัมที่มีการกระจายของขนาดลดลง โดยการ รีดิวซ์เกลือแทนทาลัม เพื่อผลิตผงที่เป็นกลุ่มแบสิกของแทนทาลัมของแทนทาลัมโดยรีดักชัน ตามด้วย การล้างน้ำ การชะลอด้วยกรด , และการทำให้แห้งก่อนการปฏิบัติการด้วยความร้อน โดยที่การ ปรับปรุงประกอบด้วย การนำผงที่เป็นกลุ่มแบสิกของแทนทาลัมดังกล่าว ที่มีอนุภาคของผงละเอียดแต่ละชนิด ซึ่งสร้าง กลุ่มก้อนเป็นกลุ่มแบสิก ไปผ่านขั้นตอนการแตกกลุ่มก้อนด้วยแรงเฉียนสูงระหว่างขั้นตอนรีดักชัน และ การปฏิบัติการด้วยความร้อน เพื่อให้ได้ผงแทนทาลัมที่ถูกคัดขนาดที่มีกลุ่มก้อนที่ถูกทำให้แตกละเอียด โดยมีการกระจายของขนาดที่มีเส้นผ่าศูนย์กลางเฉลี่ยเชิงปริมาตร MV เป็นไมครอน , พื้นที่ผิวหน้า จำเพาะหลายเท่า , BET เป็น ม.2/ กรัม ไม่ช่วงไม่เกิน 25 5 0.วิธีการของการทำผงแทนทาลัมที่มีการกระจายของขนาดนอนุภาคที่ถูกจำกัดจากผงที่เป็น กลุ่มแบสิกของแทนทาลัม ซึ่งประกอบด้วยกลุ่มก้อนของอนุภาคขนาดเล็กที่ถูกเตรียมโดยขั้นตอนรีดักชัน , การล้างด้วยน้ำ การชะละลายด้วยกรด และการทำให้แห้ง ก่อนการปฏิบัติการด้วยความร้อน ซึ่ง กรรมวิธีดังกล่าวระหว่างขั้นตอนรีดักชัน และการปฏฺิบัติการด้วยความร้อนดังกล่าว จะประกอบด้วยการ แตกกลุ่มก้อนทางเชิงกล ของผงที่เป็นกลุ่มแบสิกดังกล่าว เพื่อทำให้เกิดผลผลิตอินเทอร์มีเดียท ที่มี bET เป็น ม.2/กรัม และการทำให้ผลผลิตอินเทอร์มีเดียทดังกล่าวเกิดเป็นกลุ่มก้อนด้วยความร้อนในเวลา ต่อมา และการบดละเอียดของผลผลิตอินเทอร์มีเดียทที่ถูกทำให้เป็นกลุ่มก้อนด้วยความร้อนเหล่านี้ 5 1. กรรมวิธีสำหรับการผลิตผงแทนทาลัม ที่ประกอบด้วยการรีดิวซ์เกลือแทนทาลัมด้วยสาร รีดิวซ์ เพื่อผลิตผงแทนทาลัม ตามด้วยการล้างด้วยน้ำ , การชะล้างด้วยกรด , การทำให้แห้ง , การ ปฏิบัติการด้วยความร้อน , การบดละเอียด , ดีออกซิเดชัน , การชะละลาย , การทำให้แห้ง และการร่อน ด้วยตะแกรงของผงแทนทาลัม โดยที่การปรับปรุงประกอบด้วยการแตกต่างกลุ่มก้อนของแทนทาลัม ก่อน การปฏิบัติการด้วยความร้อนดังกล่าว 5 2. ตัวเก็บประจุซึ่งมีโครงร่างอิเล็คโทรดกิ่งกลาง ซึ่งประกอบด้วยแอโนดที่เป็นโลหะที่ถูก เผาผนึกกับตะกั่วอิเล็คโทรด โดยที่แอโนดดังกล่าวประกอบด้วยผลผลิตที่ถูกเผาผนึกที่ผลิตได้จากผง แทนทาลัมที่มีอนุภาคที่ถูกแตกกลุ่มก้อน ซึ่งอนุภาคที่ถูกแตกกลุ่มก้อนดังกล่าวมีการกระจายของขนาด ซึ่งถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่าผลลัพธ์ที่ได้รับมาโดยการคูณกันของเส้นผ่าศูนย์กลางเฉลี่ยเชิงปริมาตร, MV เป็นไมครอน พื้นที่ผิวหน้าจำเพาะหลายเท่า เป็น ม2/กรัม ที่ถูกวัดค่าโดย Nitorgen Brunauer Emmet t. กรรมวิธีของ Teller จะอยู่ในช่วงต่ำกว่าประมาณ 25 ไมโครอน -ม.2/กรัม 5 3.ตัวเก็บประจุ ซึ่งมีโคร่งร่างอิเล็กคโทรดกึ่งกลาง ซึ่งประกอบด้วยแอโนดที่เป็นโลหะที่ถูก เผาผนึก กับตะกั่วอิเล็คโทรด โดยที่แอโนด ดังกล่าว ประกอบด้วยผลผลิตที่ถูกเผาผนึก ที่ผลิตได้จากผงที่ เป็นกลุ่มแบสิกของแทนทาลัม ที่ถูกเตรียมโดยขั้นตอนรีดักชัน ตามด้วยขั้นตอนการล้างด้วยน้ำ การชะ ละลายด้วยกรด และการทำให้แห้ง ก่อนการปฏิบัติการด้วยความร้อน ซึ่งผงที่เป็นกลุ่มแบสิกของ แทนทาลัมดังกล่าวที่กลุ่มก้อนที่เป็นกลุ่มแบสิก ที่ประกอบด้วย อนุภาคของผงแต่ละชนิด การนำผงที่ เป็นกลุ่มเบสิกดังกล่าวไปผ่านขั้นตอนการแตกกลุ่มก้อน ระหว่างขั้นตอนการรีดักชัน และการปฏิบัติการ ด้วยความร้อนดังกล่าว ซึงขั้นตอนการแตกกลุ่มก้อนดังกล่าว ได้ถูกดำเนินไปจนกระทั่งผลิภัณฑ์ที่ถูก แตกกลุ่มก้อนมีการกระจายของขนาด ในลักษณะที่ผลลัพธ์ที่ได้รับมาโดการคุณกันของเส้นผ่าศูนย์กลาง เฉลี่ยเชิงปริมาณ MV เป็นไมครอน พื้นทีผิวหน้าจำเพาะหลายเท่า , เป็น ม.2/กรัม ที่ถูกวัดค่าโดย กรรมวิธี Nitorgen Brunauer Emmett,Teller จะต่ำกว่า 25 ไมโครอน -ม.2/กรัม 5 4.ตัวเก็บประจุ ซึ่งมีโคร่งร่างอิเล็กคโทรดกึ่งกลาง ซึ่งประกอบด้วยแอโนดที่เป็นโลหะที่ถูก เผาผนึก กับตะกั่วอิเล็คโทรด โดยที่แอโนด ดังกล่าว ประกอบด้วยผลผลิตที่ถูกเผาผนึก ที่ผลิตได้จากผง แทนทาลัม ที่ถูกปฏิบัติการด้วยความร้อน และดีออกซิไดซ์ ซึ่งมีอนุภาคกลุ่มก้อนที่ถูกปฏิบัติการด้วย ความร้อน และถูกดีออกซิไดซ์ โดยที่ซึ่ง เส้นผาศูนย์กลางเฉลี่ยเชิงปริมาณ , MV เป็นไมครอน พื้นที่ ผิวหน้าจำเพาะหลายเท่า , เป็น ม2/กรัม ที่ถูกวัดค่าโดยกรรมวิธี Nitorgen Brunauer Emmett,Teller (BET) ของอนุภาคกลุ่มก้อนที่ถูกปฏิบัติการด้วยความร้อน และถูกดีออกซิไดซ์ ทำให้เกิดช่วงตั้งแต่ 90 ถึง 250 ไมครอน -ม.2/กรัม เมื่อวิธีการพื้นที่ผิวจำเพาะ (BET) มากกว่า 0.7 ม.2/กรัม 5 5. ตัวเก็บประจุ ตามข้อถือสิทธิ 53 โดยที่ซึ่ง ผงที่เป็นกลุ่มเบสิกของแทนทาลัมดังกล่าว มีอนุภาคที่ถูกแตกกลุ่มก้อน ซึ่งมีอัตราส่วนของความหนาแน่นมวลรวมสก็อต เป็น กรัม /นิ้ว 3 ต่อพื้นที่ ผิวหน้า เป็น -ม.2/กรัม ที่ถูกวัดค่าโดยกรรมวิธี Nitorgen Brunauer Emmett,Teller ระหว่าง 20 ถึง 35 5 6.ตัวเก็บประจุ ตามข้อถือสิทธิ 54 โดยที่ซึ่ง อนุภาคของผงแทนลาลัมที่ถูกปฏิบัติการด้วย ความร้อน และถูกดีออกไวด์ดังกล่าว มีอัตราส่วนของความหนาแน่นมวลรวมสก็อต เป็นกรัม /นิ้ว 3 ต่อ พื้นผิวหน้า เป็น -ม.2/กรัม ที่ถูกวัดค่าโดยกรรมวิธี Nitorgen Brunauer Emmett,Tellerตั้งแต่ 38 ถึง 50 เมื่ออนุภาคพื้นที่ผิวหน้ามากกว่า 0.86 (วิธีการ BET) 56.Powdered tantalum powder Which was adjusted by operating with heat It is the final tantalum powder. As referred to in claim 45, where the crushed lump contains Narrow range group size distribution It is in the range from 0.01 to 20 microns. 4 7. Finished tantalum powder. Which was adjusted by operating with heat It is the final tantalum powder. As referred to in claim 45, where such fragmented clusters have a cluster size distribution. The median crushed group size was approximately 3-5 microns. 4 8. Utilized tantalum powder. For the manufacture of capacitors which have (a) size distribution The unimodal clusters (b) the cluster size distribution ranges from approximately 30 to 500 μm and (c) the cluster distribution. With a median clump size of 150 to 250 μm 4. 9. Methods for preparing tantalum powder with reduced size distribution by reducing tantalum salt. To produce the tantalum bulk powder of tantalum by reduction followed by water rinsing, acid retarding, and pre-heat treatment drying, where improvements include: The powder that belongs to the classic tantalum group. Which contains particles of each type of fine powder which form the basic clump It goes through a high shear clumping process during reduction and thermal operations. To obtain screened tantalum powder with finely crushed clumps. The size distribution with the mean volumetric diameter MV in microns, the surface area Specifically, BET is m 2 / g, not more than 25 5 0. Methods of making tantalum powder with limited particle size distribution from powders that are Tantalum Basic Group It consists of a group of small particles that are prepared by a reduction, rinsing process. Acid leaching And drying Before the heat operation, which during the reduction process And operations with such heat Will consist of Mechanical Of the powder that is the classic group To produce intermedia yields with bET in m2 / g, and to induce the production of the intermedium into clumps by subsequent heating and fine grinding of the intermediate yields. These are thermoformed mediums. 5 1. Process for producing tantalum powder. Containing tantalum salt reduction with reducing agents to produce tantalum powder This is followed by water rinsing, acid washing, drying, heat operations, grinding, deoxidation, leaching, drying and sieving with tantalum powder. The improvement consists of differentiation of tantalum clusters prior to such thermal operation. 5. 2. Capacitors with central electrode configuration. Which contains metal anodes that are Sintered with lead electrodes Where the anode consists of sintered products produced from powder. Tantalum with clumped particles The particles that have been broken in the clump have a size distribution. It is characterized that the results obtained by multiplying the volumetric mean diameter, MV in microns, the specific surface area, in m2 / g, measured by Nitorgen Brunauer Emmet t. In the lower range, about 25 microns - m 2 / g 5 3. a capacitor Centered electrode It consists of a metal anode sintered with lead electrode where the anode consists of a sintered product. Produced from the powder It is a classic tantalum group. That was prepared by the reduction process This is followed by water washing, acid leaching and drying procedures. Before thermal operation Which the powder is the classic group of Such tantalum at the group is the basic group. Containing The powder particles of each type of powder go through the bulking process. During the reduction process And operation With such heat Which the process of breaking such groups Was carried on until the product was The clumps have a distribution of size. In such a way that the results obtained from the diameter The quantitative mean MV in microns. Specific surface multiple times, in m2 / g, measured by Nitorgen Brunauer Emmett, Teller method is below 25 μm 2 / g 5 4. Capacitor. Centered electrode It consists of a metal anode sintered with lead electrode where the anode consists of a sintered product. Produced from tantalum powder that has been thermally treated And deoxidized Where there were thermally and deoxidized clump particles where the quantitative mean diode, MV in microns, several times the specific surface area, in m2 / g was measured by the Nitorgen method. Brunauer Emmett, Teller (BET) of Thermally Operated Bulk Particles. And was deoxidized This produces a range from 90 to 250 μm-m2 / g when the Specific Surface Area (BET) method is greater than 0.7 m 2 / g 5 5. Capacitors according to claim 53, where the powder as a base group. Tantalum With particles that have been broken into clumps The ratio of the total mass density of scotch in g / inch 3 to surface area - m2 / g was measured by the Nitorgen Brunauer Emmett, Teller method between 20 and 35. 5 6. Capacitor. In accordance with claim 54, where the thermally treated and deoxidated tanlum powder particles are The ratio of the total mass density of Scotch in g / in 3 to the surface in - m2 / g was measured by Nitorgen Brunauer Emmett, Teller method from 38 to 50 when the particle surface area is greater than 0.86 ( BET method) 5
7. ตัวเก็บประจุ ที่มีโครงร่างอิเล็กโทรดกึ่งกลาง ซึ่งประกอบด้วยแอโนดที่เป็นโลหะที่ถูก เผาผนึกกับตะกั่วอิเล็กโทรด โดยที่แอโนดดังกล่าวประกอบด้วยผลผลิตที่ถูกเผาผนึกที่ผลิตได้จากผง แทนทาลัมที่ถูกปฏิบัติการด้วยความร้อน และดีออกซิไดซ์ ที่มีอนุภาคซึ่งมีอัตราส่วนของอัตราเร็วการ เติมแก่แม่พิมพ์ เป็น มก./วินาที ต่อพื้นที่ผิวหน้า เป็น -ม.2/กรัม ที่ถูกกำหนดโดยวิธีการ Nitorgen Brunauer Emmett,Teller ระหว่าง 66 ถึง 160 สำหรับผงที่มีพื้นที่ผิวหน้ามากกว่า 0.86 ม.2/กรัม ที่ ถูกกำหนดโดยวิธีการ Brunauer Emmett,Teller 57.Capacitors with center electrode layout. Which contains metal anodes that are Sintered with lead electrodes Where the anode consists of sintered products produced from powder. Thermally treated tantalum And deoxidized Containing particles which have the ratio of the speed The mold was added in mg / s per surface area in - m2 / g, determined by the Nitorgen Brunauer Emmett, Teller method between 66 and 160 for powders with a surface area greater than 0.86 m 2 / g at Determined by Method Brunauer Emmett, Teller 5.
8. ตัวเก็บประจุ ตามข้อถือสิทธิ 57 โดยที่ซึ่ง อัตราส่วนของอัตราเร็วการเติมแก่แม่พิมพ์ต่อ พื้นที่ผิวหน้าดังกล่าว ที่ถูกวัดค่าโดยกรรมวิธี Nitrogen Brunauer Emmett,Teller หลังจากผงดังกล่าว ถูกร่อนด้วยตะแกรงให้มีขนาด +500 เมช อยู่ในระหว่าง 350 ถึง 7008. Capacitor according to claim 57, where the ratio of the mold fill speed to Such surface area Measured by Nitrogen Method Brunauer Emmett, Teller. After the powder Sifted with a sieve to a size of +500 mesh, between 350 and 700