TH25326B - Methods for preparing organohalo silane - Google Patents

Methods for preparing organohalo silane

Info

Publication number
TH25326B
TH25326B TH101000263A TH0101000263A TH25326B TH 25326 B TH25326 B TH 25326B TH 101000263 A TH101000263 A TH 101000263A TH 0101000263 A TH0101000263 A TH 0101000263A TH 25326 B TH25326 B TH 25326B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
silicon
particles
metallic
oxygen content
metallic silicon
Prior art date
Application number
TH101000263A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH51859A (en
Inventor
อินอุไก นายเททสึยา
โอโฮริ นายเอกิโอะ
ชิโนฮาระ นายโตชิโอ
ยีโน นายซูซูมุ
เอรามาตะ นายมิกิโอ
ฟุคุโอกา นายฮิโรฟูมิ
Original Assignee
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางวรนุช เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์ นางวรนุช เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางวรนุช เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์ นางวรนุช เปเรร่า filed Critical นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
Publication of TH51859A publication Critical patent/TH51859A/en
Publication of TH25326B publication Critical patent/TH25326B/en

Links

Abstract

DC60 (19/04/44) เตรียมออแกโนแฮโลซิเลนโดยกรรมวิธี Rochow ที่นำอนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอนมาทำ ปฏิกิริยา ออแกโนแฮไลด์ในสภาพที่มีตัวเร่งปฏิกิริยา คอปเปอร์ อนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอน, ซึ่ง เตรียม จากการบดแฟรกเมนท์ของวัตถุดิบที่เป็น เมแทลลิค ซิลิคอนให้ละเอียด, มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 10 ไมครอน ถึง 10 มม. และปริมาณออกซิเจนที่พื้น ผิวอย่างน้อย 0.05 % โดยน้ำหนัก และ/หรือ อย่าง น้อย 0.001 ก.ของออกซิเจน/ตร.ม.ของ พื้นที่ผิวซิลิคอน ซึ่งให้เป็นความแตกต่างระหว่าง ความเข้มข้นออกซิเจนที่วิเคราะห์หาโดยการ วิเคราะห์ออกซิเจนในโลหะของอนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอนและแฟรกเมนท์ตามลำดับ ขณะวิเคราะห์ อนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอนถูกคงไว้นานอย่าง น้อย 3 ชั่วโมงในบรรยากาศของอากาศที่ 25 องศาเซลเซียส และ RH 55 % เตรียมออแกโนแฮโลซิเลน โดยกรรมวิธี Rochow ที่นำอนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอนมาทำ ปฏิกิริยา ออแกโนแฮไลด์ในสภาพที่มีตัวเร่งปฏิกิริยา คอปเปอร์ อนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอน, ซึ่ง เตรียม จากการบดแฟรกเมนท์ของวัตถุดิบที่เป็น เมแทลลิค ซิลิคอนให้ละเอียด, มีขนาดอนุภาคเฉลี่ย 10 ไมครอน ถึง 10 มม. และปริมาณออกซิเจนที่พื้น ผิวอย่างน้อย 0.05 % โดยน้ำหนัก และ/หรือ อย่าง น้อย 0.001 ก.ของออกซิเจน/ต.ร.ม.ของ พื้นที่ผิวซิลิคอน ซึ่งให้เป็นความแตกต่างระหว่าง ความเข้มข้นออกซิเจนที่วิเคราะห์หาโดยการ วิเคราะห์ออกซิเจนใน โลหะของอนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอนและแฟรกเมนท์ตามลำดับ ขณะวิเคราะห์ อนุภาคเมแทลลิค ซิลิคอนถูกคงไว้นานอย่าง น้อย 3 ชั่วโมงในบรรยากาศของอากาศที่ 25 ํ ซ. และ RH 55 % DC60 (19/04/44) prepared organohallosilane by Rochow process using metallic silicon particles to process organohalides in the presence of copper catalytic particles. Silicon, prepared by fine grinding of metallic silicon raw materials, has an average particle size of 10 μm to 10 mm and a surface oxygen content of at least 0.05% by weight and / Or at least 0.001 g. Of oxygen / sq m. Of Silicon surface area Which is the difference between The oxygen concentration was determined by Metal oxygen analysis of metallic particles Silicon and fragments respectively while analyzing the metallic particles. Silicon was maintained for at least 3 hours in an air atmosphere at 25 ° C and RH 55%. Organohalosilane was prepared by the Rochow process using the metallic silicon particles to process the organohalides. In the presence of copper catalyst, metallic silicon particles, prepared by grinding the fragments of metallic silicon raw materials, have an average particle size of 10 microns to 10 mm. And Surface oxygen content of at least 0.05% by weight and / or at least 0.001 g of oxygen / m2 of Silicon surface area Which is the difference between The oxygen concentration was determined by Analyze oxygen in Metallic particles of metal Silicon and fragments respectively while analyzing the metallic particles. Silicon is maintained for at least 3 hours in an air of 25 ํ and 55% RH.

Claims (6)

1. กรรมวิธีสำหรับการเตรียมออแกโนแฮโลซิเลนที่ประกอบด้วยการทำปฏิกิริยาอนุภาค เม แทลลิคซิลิคอน ที่มีขนาดอนุภาคโดยเฉลี่ย 10 ไมครอน ถึง 10 มม. กับแฮไลด์อินทรีย์ในสภาพที่มี ตัวเร่ง ปฏิกิริยาคอปเปอร์ ที่ซึ่ง อนุภาคเมแทลลิคซิลิคอน, ซึ่งถูกเตรียมจากการบด แฟรกเมนท์ของ วัตถุดิบที่เป็นเมแทลลิคซิลิคอน ให้ละเอียด, มีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิวอย่างน้อย 0.05% โดยน้ำหนัก และ/หรือ อย่างน้อย 0.001 ก. ของออกซิเจนต่อตารางเมตรของพื้นที่ผิว ซิลิคอน ซึ่งถูกกำหนดไว้เป็น ความแตกต่างระหว่างความ เข้มข้นออกซิเจนที่ถูกวิเคราะห์หาโดยการวิเคราะห์ ออกซิเจนในโลหะของ อนุภาคเมแทลลิคซิลิคอน ซึ่งถูกคงไว้เป็นระยะเวลาอย่างน้อย 3 ชั่วโมงในบรรยากาศ ของอากาศที่ 25 ํ ซ. และ RH 55% และแฟรกเมนต์ ตามลำดับ1.Process for the preparation of organohalosilane consisting of metallic silicon particle reaction With an average particle size of 10 microns to 10 mm with organic halides in the presence of a copper catalyst, where metallic silicon particles, which were prepared from the fractionation of the raw material, were Metallic silicon finely, having a surface oxygen content of at least 0.05% by weight and / or at least 0.001 g of oxygen per square meter of silicon surface area, which is defined as The difference between The oxygen concentration was analyzed by analysis. Oxygen in the metal. Silicon metallic particles This was maintained for a period of at least 3 hours in an atmosphere of 25 C and 55% RH and fragments, respectively. 2. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่ใช้สูงถึง 0.3% โดยน้ำหนัก2. Procedure of claim 1, where metallic silicon particles have a high oxygen content of 0.3% by weight. 3. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนถูกคงไว้ในบรรยากาศของ อากาศเป็นระยะเวลา 3 ถึง 48 ชั่วโมง 4. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนถูกคงไว้ในบรรยากาศของ อากาศเป็นระยะเวลา 16 ถึง 24 ชั่วโมง 5. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิว อย่างน้อย 0.1% โดยน้ำหนัก 6. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิว อย่างน้อย 0.002 ก. ต่อตารางเมตรของพื้นที่ผิวซิลิคอน 7. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิวสูง ถึง 0.2% โดยน้ำหนัก 8. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิวสูง ถึง 0.25% โดยน้ำหนัก 9. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิวสูง ถึง 0.5% โดยน้ำหนัก 1 0. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิว สูงถึง 1.0% โดยน้ำหนัก 1 1. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิว สูงถึง 0.01 ก. ของออกซิเจนต่อตารางเมตรของพื้นที่ผิวซิลิคอน 1 2.กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิว สูงถึง 0.005 ก. ของออกซิเจนต่อตารางเมตรของพื้นที่ผิวซิลิคอน 1 3.กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอนุภาคเมแทลลิคซิลิคอนมีปริมาณออกซิเจนที่พื้นผิว น้อยกว่า 0.003 ก. ของออกซิเจนต่อตารางเมตรของพื้นที่ผิวซิลิคอน 13. Procedure of claim 1, whereby metallic silicon particles are maintained in an atmosphere of Air for a period of 3 to 48 hours. 4. Method of claim 3, where metallic silicon particles are maintained in the atmosphere of the 6. The process of claim 1, where the metallic silicon particles have a surface oxygen content of at least 0.1% by weight. The metallic silicon has a surface oxygen content of at least 0.002 g per square meter of silicon surface area. 7. The process of claim 1, where the metallic silicon particles have a surface oxygen content of up to 0.002 g. 8. Procedure of claim 1 where metallic silicon particles have a surface oxygen content of up to 0.25% by weight 9. Process of claim 1 where the metallic silicon particles are Silicon has a surface oxygen content of up to 0.5% by weight 1 0. Process of claim 1, where the metallic silicon particles have a surface oxygen content of up to 1.0% by weight 1 1. The process of Clause 1 where the metallic silicon particles have a surface oxygen content of up to 0.01 g of oxygen per square meter of silicon surface area 1 2. Procedure of claim 1 where the metalloid particles Lick silicon has a surface oxygen content of up to 0.005 g of oxygen per square meter. Silicon surface area 1 3. Procedure of claim 1, where metallic silicon particles have a surface oxygen content of less than 0.003 g of oxygen per square meter of silicon surface area 1. 4. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งแฮไลด์อินทรีย์ คือ แอลคิลแฮไลด์ หรือ เอริลแฮไลด์ 14. The process of claim 1, where organic halides are alkyl halides or eryil halides 1. 5. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งแฮไลด์อินทรีย์ คือ เมทธิลคลอไรด์, เอทธิลคอลไรด์ หรือ ฟีนิลคอลไรด์ 15. Method of claim 1, where organic halides are methyl chloride, ethyl chloride or phenyl chloride 1. 6. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งปริมาณของตัวเร่งปฏิกิริยาคอปเปอร์ คือ 0.1 ถึง 10 ส่วนโดยน้ำหนักต่อ 100 ส่วนโดยน้ำหนักของเมแทลลิคซิลิคอน6. Procedures of claim 1 where the amount of copper catalyst is 0.1 to 10 parts wt per 100 parts methalic silicon.
TH101000263A 2001-01-25 Methods for preparing organohalo silane TH25326B (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH51859A TH51859A (en) 2002-07-11
TH25326B true TH25326B (en) 2009-01-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1216682C (en) Expanded perlite products with controlled particle size distribution
Fubini Surface chemistery and quartz hazard
US8043591B2 (en) Process for preparing trichloromonosilane
CN1053641C (en) Partially hydrophobic precipitated silicas
US5110784A (en) Dual surface porous material
CN86107535A (en) Calcium phosphate type hydroxyl (base) phosphatic rock and preparation method thereof
CN1538936A (en) Granules based on pyrogenically produced aluminium oxide, their production process and use
JPH08208666A (en) Inverting method for high-boiling-point residue from direct method
JP4008533B2 (en) Method for conversion of high-boiling residues from direct process to monosilanes
RU2062779C1 (en) Method for production of methylchlorosilanes
KR20150141191A (en) Process for the preparation of polycrystalline silicon
TH25326B (en) Methods for preparing organohalo silane
TH51859A (en) Methods for preparing organohalo silane
CN87107398A (en) Improve a kind of method of direct processing performance by the manufacturing of control silicon
GB2119808A (en) Method for making methylchlorosilanes
JPH0725777B2 (en) Method for producing organic chlorosilane
US5973177A (en) Method for selecting silicon metalloid having improved performance in the direct process for making organohalosilanes
CN100360541C (en) Magnetic separation for silicon-containing materials
JPS6111957B2 (en)
CN1211536A (en) Process for producing active silicon powder for preparing alkyl-or aryl-halogenated silane
Ateş Cytokines: their relation with mineral dust induced diseases
Şener et al. The effect of silane modification on the adsorptive properties of natural pyrophyllite and synthetic titanium-based powders prepared by the sol-gel process
CN1072973C (en) Advanced particulate media for precise separation of particles suspended in fluids
US7108734B2 (en) Silicon powder for preparing alkyl- or aryl-halogenosilanes
JPH05155891A (en) 2-trimethoxysilylpropionic acid ester