TH177409A - Substrate with a low E multi-layer coating - Google Patents

Substrate with a low E multi-layer coating

Info

Publication number
TH177409A
TH177409A TH1501004866A TH1501004866A TH177409A TH 177409 A TH177409 A TH 177409A TH 1501004866 A TH1501004866 A TH 1501004866A TH 1501004866 A TH1501004866 A TH 1501004866A TH 177409 A TH177409 A TH 177409A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
film
conductive
oxides
substrate
transparent
Prior art date
Application number
TH1501004866A
Other languages
Thai (th)
Other versions
TH1501004866A (en
Inventor
สเทิร์นชูสส์
จูเลียตต์
ฮาเกน
แจน
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาว ปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นาย บุญมา เตชะวณิช
นาย ต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาว ปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นาย บุญมา เตชะวณิช, นาย ต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH1501004866A publication Critical patent/TH1501004866A/en
Publication of TH177409A publication Critical patent/TH177409A/en

Links

Abstract

แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 13/11/2558 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุซึ่งประกอบรวมด้วยซับสเทรต (1) ที่เคลือบบนอย่างน้อย ที่สุดบางส่วนของผิวหน้าของมันอย่างน้อยหนึ่งด้านด้วยชั้นหลายชั้นของฟิล์มบางซึ่งประกอบรวม ด้วยฟิล์มอย่างน้อยที่สุดสองชนิดที่มีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งแสงนำไฟฟ้า (2, 3) โดยฟิล์มดังกล่าว ได้รับการแยกด้วยฟิล์มคั่นกลางชนิดไดอิเล็กทริกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด (4) ซึ่งความหนาเชิง กายภาพของฟิล์มนี้เป็นอย่างมากที่สุด 50 นาโนเมตร ไม่มีฟิล์มโลหะพอกพูนอยู่ระหว่างฟิล์มดังกล่าว ซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ซึ่งนอกจากนี้แล้ว ชั้นหลายชั้นดังกล่าวประกอบ รวมด้วยฟิล์มกั้นออกซิเจนอย่างน้อยที่สุดจำนวนหนึ่งชนิด (6)เหนือฟิล์มดังกล่าวซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์ โปร่งใสนำไฟฟ้า (2) ซึ่งห่างมากที่สุดจากซับสเทรต (1) โดยฟิล์มแต่ละชนิดมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์ โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ที่มีความหนาเชิงกายภาพที่ประกอบรวมด้วยในช่วงที่ขยายไปตั้งแต่ 20 ถึง 80 นาโนเมตร ------------------------------------------------------------- การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุซึ่งประกอบรวมด้วยซับสเทรต (1) ที่เคลือบบนอย่างน้อย ที่สุดบางส่วนของผิวหน้าของมันอย่างน้อยหนึ่งด้านด้วยชั้นหลายชั้นของฟิล์มบางซึ่งประกอบ รวมด้วยฟิล์มอย่างน้อยที่สุดสองชนิดที่มีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งแสงนำไฟฟ้า (2, 3) โดยฟิล์ม ดังกล่าวได้รับการแยกด้วยฟิล์มคั่นกลางชนิดไดอิเล็กทริกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด (4) ซึ่งความ หนาเชิงกายภาพของฟิล์มนี้เป็นอย่างมากที่สุด 50 นาโนเมตร ไม่มีฟิล์มโลหะพอกพูนอยู่ระหว่างฟิล์ม ดังกล่าวซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ซึ่งนอกจากนี้แล้ว ชั้นหลายชั้นดังกล่าว ประกอบรวมด้วยฟิล์มกั้นออกซิเจนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด (6)เหนือฟิล์มดังกล่าวซึ่งมีพื้นฐานอยู่บน ออกไซด์โปร่งใสนำไฟฟ้า (2) ซึ่งห่างมากที่สุดจากซับสเทรต (1) โดยฟิล์มแต่ละชนิดมีพื้นฐานอยู่บน ออกไซด์โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ที่มีความหนาเชิงกายภาพที่ประกอบรวมด้วยในช่วงที่ขยายไปตั้งแต่ 20 ถึง 80 นาโนเมตร Edit Summary 11/11/2015 This invention relates to a material consisting of at least a substrate (1) coated on it. At the most, some of its surface is at least on one side, with multiple layers of thin film which comprise With at least two films based on conductive translucent oxides (2, 3). Were separated by at least one (4) dielectric film, the thickness of which The physical of this film is at most 50 nm. There is no metal film between them. Which is based on transparent oxides in conductive (2, 3) which, in addition, These multi-layers consist of Included with at least a number of oxygen barrier films. (6) above the said film based on oxide Conductive transparent (2) which is the furthest from the substrate (1), with each film based on oxide. Conductive transparent (2, 3) with a composite physical thickness in the range extending from 20 to 80 nm. -------------------- ----------------------------------------- This invention relates to composite materials. With a substrate (1) coated on at least At the most, some of its surface is at least on one side, with several layers of thin film which make up Combined with at least two films based on conductive translucent oxides (2, 3), the films were separated by at least one dielectric interstitial film (4). The physical thickness of this film is at most 50 nm. There is no metal film between the films. Such, which is based on a transparent oxide in conductive (2, 3), which, in addition, Multiple layers above It consists of at least one oxygen barrier film. (6) above the said film, which is based on Conductive transparent oxide (2) which is the most distant from the substrate (1), with each film based on Conductive transparent oxides (2, 3) with a composite physical thickness in the range extending from 20 to 80 nm.

Claims (1)

: แก้ไขบทสรุปการประดิษฐ์ 13/11/2558 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุซึ่งประกอบรวมด้วยซับสเทรต (1) ที่เคลือบบนอย่างน้อย ที่สุดบางส่วนของผิวหน้าของมันอย่างน้อยหนึ่งด้านด้วยชั้นหลายชั้นของฟิล์มบางซึ่งประกอบรวม ด้วยฟิล์มอย่างน้อยที่สุดสองชนิดที่มีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งแสงนำไฟฟ้า (2, 3) โดยฟิล์มดังกล่าว ได้รับการแยกด้วยฟิล์มคั่นกลางชนิดไดอิเล็กทริกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด (4) ซึ่งความหนาเชิง กายภาพของฟิล์มนี้เป็นอย่างมากที่สุด 50 นาโนเมตร ไม่มีฟิล์มโลหะพอกพูนอยู่ระหว่างฟิล์มดังกล่าว ซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ซึ่งนอกจากนี้แล้ว ชั้นหลายชั้นดังกล่าวประกอบ รวมด้วยฟิล์มกั้นออกซิเจนอย่างน้อยที่สุดจำนวนหนึ่งชนิด (6)เหนือฟิล์มดังกล่าวซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์ โปร่งใสนำไฟฟ้า (2) ซึ่งห่างมากที่สุดจากซับสเทรต (1) โดยฟิล์มแต่ละชนิดมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์ โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ที่มีความหนาเชิงกายภาพที่ประกอบรวมด้วยในช่วงที่ขยายไปตั้งแต่ 20 ถึง 80 นาโนเมตร ------------------------------------------------------------- การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวัสดุซึ่งประกอบรวมด้วยซับสเทรต (1) ที่เคลือบบนอย่างน้อย ที่สุดบางส่วนของผิวหน้าของมันอย่างน้อยหนึ่งด้านด้วยชั้นหลายชั้นของฟิล์มบางซึ่งประกอบ รวมด้วยฟิล์มอย่างน้อยที่สุดสองชนิดที่มีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งแสงนำไฟฟ้า (2, 3) โดยฟิล์ม ดังกล่าวได้รับการแยกด้วยฟิล์มคั่นกลางชนิดไดอิเล็กทริกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด (4) ซึ่งความ หนาเชิงกายภาพของฟิล์มนี้เป็นอย่างมากที่สุด 50 นาโนเมตร ไม่มีฟิล์มโลหะพอกพูนอยู่ระหว่างฟิล์ม ดังกล่าวซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ซึ่งนอกจากนี้แล้ว ชั้นหลายชั้นดังกล่าว ประกอบรวมด้วยฟิล์มกั้นออกซิเจนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด (6)เหนือฟิล์มดังกล่าวซึ่งมีพื้นฐานอยู่บน ออกไซด์โปร่งใสนำไฟฟ้า (2) ซึ่งห่างมากที่สุดจากซับสเทรต (1) โดยฟิล์มแต่ละชนิดมีพื้นฐานอยู่บน ออกไซด์โปร่งในนำไฟฟ้า (2, 3) ที่มีความหนาเชิงกายภาพที่ประกอบรวมด้วยในช่วงที่ขยายไปตั้งแต่ 20 ถึง 80 นาโนเมตรข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : แก้ไข 13/11/2558: Revised Invention Summary 11/11/2015 This invention relates to a material consisting of at least a substrate (1) coated on At the most, some of its surface is at least on one side, with multiple layers of thin film which comprise With at least two films based on conductive translucent oxides (2, 3). Were separated by at least one (4) dielectric film, the thickness of which The physical of this film is at most 50 nm. There is no metal film between them. Which is based on transparent oxides in conductive (2, 3) which, in addition, These multi-layers consist of Included with at least a number of oxygen barrier films. (6) above the said film based on oxide Conductive transparent (2) which is the furthest from the substrate (1), with each film based on oxide. Conductive transparent (2, 3) with a composite physical thickness in the range extending from 20 to 80 nm. -------------------- ----------------------------------------- This invention relates to composite materials. With a substrate (1) coated on at least At the most, some of its surface is at least on one side, with several layers of thin film which make up Combined with at least two films based on conductive translucent oxides (2, 3), the films were separated by at least one dielectric interstitial film (4). The physical thickness of this film is at most 50 nm. There is no metal film between the films. Such, which is based on a transparent oxide in conductive (2, 3), which, in addition, Multiple layers above It consists of at least one oxygen barrier film. (6) above the said film, which is based on Conductive transparent oxide (2) which is the most distant from the substrate (1), with each film based on Conductive transparent oxides (2, 3) with a composite physical thickness in the range extending from 20 to 80 nm. (Item one) which will appear on the advertisement page: edit 13/11/2015 1. วัสดุซึ่งประกอบรวมด้วยซับสเทรต (1) เคลือบบนอย่างน้อยที่สุดบางส่วนของผิวหน้าของ มันอย่างน้อยที่สุดหนึ่งด้านด้วยชั้นหลายชั้นของฟิล์มบางซึ่งประกอบรวมด้วยฟิล์มอย่างน้อย ที่สุดสองชนิดที่มีพื้นฐานอยุ่บนออกไซด์โปร่งใสนำไฟฟ้า (2, 3) โดยฟิล์มดังกล่าวไดรับการ แยกด้วยฟิล์มคั่นกลางชนิดไดอิเล้กทริกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด (4) ซึ่งความหนาเชิงกายภาพ ของฟิล์มนี้เป็นอย่างมากที่สุด 50 นาโนเมตรไม่มีฟิล์มโลหะพอกพูนอยู่ระหว่างฟิล์มดังกล่าว ซึ่งมีพื้นฐานอยู่บนออกไซด์โปร่งใสนำไฟฟ้า (2, 3) ซึแท็ก :1. a material consisting of a substrate (1) coating on at least part of the surface of the It is at least one side, with several layers of thin film, which is composed of at least one film. The two most commonly used transparent oxides are based on conductive transparent oxides (2, 3). Separated by at least one (4) dielectric film, the physical thickness The maximum size of this film is 50 nm. There is no metal film between it. It is based on transparent conductive oxides (2, 3).
TH1501004866A 2014-02-25 Substrate with a low E multi-layer coating TH177409A (en)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH1501004866A TH1501004866A (en) 2018-07-05
TH177409A true TH177409A (en) 2018-07-05

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EA201591585A1 (en) SUBSTRATE COATED BY LOW-EMISSION KIT
MX2016005455A (en) Element made from transparent layers.
MX2017016710A (en) Substrate provided with a stack having thermal properties.
MX2017016711A (en) Material provided with a stack having thermal properties.
TW201612003A (en) Infrared-reflecting film
PH12015501775A1 (en) Heat-absorbing glazing
JP2017004958A5 (en)
MX2015015046A (en) Substrate provided with a stack having thermal properties.
JP2015005731A5 (en) Oxide semiconductor film
MY173420A (en) Three-layer uv protective film for decorative laminated sheets (hpl)
MY178501A (en) Metal board, and substrate-type thin-film solar cell and top-emission-type organic el element using same
WO2016044162A3 (en) Optical film including an infrared absorption layer
MX2017009426A (en) Anti-static, anti-reflective coating.
MY200383A (en) Substrate having a stack with thermal properties
MX2017004155A (en) Substrate provided with a stack having thermal properties and having a metal terminal layer.
MX2017004159A (en) Substrate provided with a stack having thermal properties and an intermediate layer of stoichiometric compounds.
MX2018006762A (en) Susbtrate provided with a stack having thermal properties, comprising at least one nickel oxide layer.
TH177409A (en) Substrate with a low E multi-layer coating
JP2015230086A5 (en)
MX2018006764A (en) Susbtrate provided with a stack having thermal properties, comprising at least one nickel oxide layer.
TH2001002968A (en) The glass panels are coated with a stack of thin layers and with an enamel layer.
JP2016062766A5 (en)
WO2015140826A3 (en) Device for amplifying and directioning a luminous radiation
TH175669A (en) Manufacturing methods Stack coated substrates Which is combined with a transparent oxide film conductor
TH1901005705A (en) Laminate, Blister Containers and Push-Out Packaging