Claims (9)
ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :แก้ไข 30 พ.ค. 2560Disclaimer (all) which will not appear on the advertisement page: Revised May 30, 2017
1. สารผสมสำหรับการทรีตเมนท์ด้วยการกัดกรดของวัสดุที่เป็นเรซิน, ซึ่งสารผสมประกอบ รวมด้วยสารละลายที่เป็นแอคเควียสซึ่งมีความเข้มข้นของเปอร์แมงกาเนต ไอออนเป็น 0.2 มิลลิโมล/ ล. หรือมากกว่าและความเข้มข้นของกรดทั้งหมดเป็น 10 โมล/ล. หรือมากกว่า, และ ซึ่งสารละลายที่เป็นแอคเควียสสอดคล้องต่ออย่างน้อยหนึ่งในสภาวะ (1) ถึง (3) ที่ตามมา: (1) การมีกรดซัลโฟนิคที่เป็นอินทรีย์ในปริมาณเป็น 1.5 โมล/ล. หรือมากกว่า, และ (3) การกำหนดปริมาณในการเติมของเกลือแมกนีเซียมแอนไฮดรัสให้เป็น 0.1 ถึง 1.0 โมล/ล.1. Mixture for acid etching treatment of resin material, which compound Combined with an activated solution with a permanganate ion concentration of 0.2 mmol / l or more and a total acid concentration of 10 mol / l or more, and which solution That is, the actuase corresponds to at least one of the following (1) to (3) conditions: (1) the presence of organic sulfonic acid in the amount of 1.5 mol / l, or Greater than, and (3) the addition of magnesium anhydrous salt is 0.1 to 1.0 mol / l.
1. สารผสมสำหรับการทรีตเมนท์ด้วยการกัดกรดของวัสดุที่เป็นเรซิน, สารผสมซึ่งประกอบ รวมด้วยสารละลายที่เป็นแอคเควียสซึ่งมีความเข้มข้นของเปอร์แมงกาเนต ไอออนเป็น 0.2 มิลลิโมล/ ล. หรือมากกว่าและความเข้มข้นของกรดทั้งหมดเป็น 10 โมล/ล. หรือมากกว่า, และ สารละลายที่เป็นแอคเควียสซึ่งตอบสนองต่ออย่างน้อยหนึ่งในสภาวะ (1) ถึง (3) ที่ตามมา: (1) การมีกรดซัลโฟนิคที่เป็นอินทรีย์ในปริมาณเป็น 1.5 โมล/ล. หรือมากกว่า, (2) การกำหนดความเข้มข้นเชิงโมลของแมงกานีส ไอออนแบบไดวาเลนท์ให้เป็น 15 เท่า หรือมากกว่าซึ่งสูงกว่าความเข้มข้นเชิงโมลของเปอร์แมงกาเนต ไอออน, และ (3) การกำหนดปริมาณในการเติมของเกลือแมกนีเซียมที่ปราศจากน้ำให้เป็น 0.1 ถึง 1 โมล/ล.1. Mixture for acid etching treatment of resin material, mixtures containing Combined with an activated solution with a permanganate ion concentration of 0.2 mmol / l or more and a total acid concentration of 10 mol / l or more, and a solution that It is an activity that responds to at least one of the following (1) to (3) conditions: (1) the presence of organic sulfonic acid in the amount of 1.5 mol / l. Or greater, (2) determination of the molar concentration of manganese Divalent ions to be 15 or more times higher than the molar concentration of permanganate ions, and (3) the determination of the addition of anhydrous magnesium salts to 0.1 to 1 mol. / L.
2. สารผสมตามข้อถือสิทธิที่ 1, ซึ่งเปอร์แมงกาเนต ไอออนจะถูกสร้างขึ้นโดยการนำแมงกา- นีส ไอออนแบบไดวาเลนท์ไปยังการออกซิเดชันด้วยไฟฟ้าในสารละลายที่เป็นแอคเควียส2. Mixture according to claim 1, which permanganate The ions are created by directing divalent manganese ions to electrolytic oxidation in an anhydrous solution.
3. สารผสมตามข้อถือสิทธิที่ 1, ซึ่งเปอร์แมงกาเนต ไอออนจะถูกสร้างขึ้นโดยการละลายเกลือ เปอร์แมงกาเนตในสารละลายที่เป็นแอคเควียส3. Mixture according to claim 1, which permanganate Ions are created by dissolving the salt. Permanganate in a solution as an actuase
4. สารผสมตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 3, ซึ่งสารละลายที่แอคเควียสจะตอบ สนองต่อสภาวะ (1) ของข้อถือสิทธิที่ 1, และกรดซัลโฟนิคที่เป็นอินทรีย์คือ กรดซัลโฟนิคที่เป็นอะลิ- ฟาติคซึ่งมีหนึ่งถึงห้าอะตอมของคาร์บอน4. Mixture according to any of Claim 1 to 3, which the Acquias solution will respond to condition (1) of claim 1, and the sulfonic acid that Is organic is Aliphatic sulfonic acid, which has one to five carbon atoms.
5. สารผสมตามข้อถือสิทธิที่ 1, ซึ่งสารละลายที่เป็นแอคเควียสจะตอบสนองต่อสภาวะ (2) ของข้อถือสิทธิที่ 1, และสารละลายที่เป็นแอคเควียสจะถูกเตรียมได้โดยการเติมเกลือเปอร์แมงกาเนต ลงไปยังสารละลายของกรดที่เป็นแอคเควียสซึ่งมีแมงกานีส ไอออนแบนไดวาเลนท์5. Mixture according to claim 1, in which the actuase solution will respond to condition (2) of claim 1, and the actuase solution will be prepared. By adding salt permanganate Down to a solution of manganese acid actuase Ion Band Divalent
6. สารผสมตามข้อถือสิทธิที่ 1, ซึ่งสารละลายที่เป็นแอคเควียสจะตอบสนองต่อสภาวะ (3) ของข้อถือสิทธิที่ 1, และเกลือแมกนีเซียมที่ปราศจากน้ำคือ อย่างน้อยหนึ่งเมมเบอร์ที่ถูกเลือกจากกลุ่ม ซึ่งประกอบด้วยแมกนีเซียม ซัลเฟตที่ปราศจากน้ำ, แมกนีเซียม คลอไรด์ที่ปราศจากน้ำ, และแมกนี- เซียม ไนเตรตที่ปราศจากน้ำ6. The mixtures according to claim 1, in which the actuase solution will respond to the condition (3) of claim 1, and the anhydrous magnesium salt are: At least one member is selected from the group. Which contains magnesium Anhydrous sulfate, anhydrous magnesium chloride, and anhydrous magni-sium nitrate.
7. กระบวนการของการทรีตเมนท์ด้วยการกัดกรดของวัสดุที่เป็นเรซิน, ซึ่งประกอบรวมด้วย การนำสารผสมตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 6 ไปสัมผัสกับพื้นผิวของวัสที่เป็นเรซินซึ่ง จะถูกทรีต7. The process of resin etching treatment, which consists of The mixture according to either claim 1 through 6 is applied to the resin material surface to be treated.
8. กระบวนการสำหรับการชุบเคลือบผิววัสดุที่เป็นเรซิน, ซึ่งประกอบรวมด้วยการกัดกรด วัสดุที่เป็นเรซินโดยกระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 7, จากนั้นการประยุกต์ใช้ตัวเร่งปฏิกิริยาในการชุบ เคลือบผิวไม่ใช้ไฟฟ้า, และการกระทำการชุบเคลือบผิวแบบไม่ใช้ไฟฟ้าลำดับ8. Process for resin plating, including etching. The material is resin by process according to claim 7, then the application of catalyst to plating Non-electrolytic coating, and sequence electroless plating operation
9. กระบวนการสำหรับการควบคุมสารผสมตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 6, กระบวนการซึ่งประกอบรวมด้วยการควบแน่นสารผสมโดยการทำให้ร้อนขึ้นเมื่อปริมาตรของสาร ผสมจะถูกเพิ่มขึ้น 19. Process for the control of mixtures according to any of claims 1 through 6, a process which consists of the condensation of the mixture by heating up on its volume. The mixture will be added by 1.
0. กระบวนการสำหรับการควบคุมสารผสมตามข้อใดข้อหนึ่งของข้อถือสิทธิที่ 1 ถึง 6, กระบวนการซึ่งประกอบรวมด้วยการเป่าแก๊สไอโซนเข้าไปในสารผสมเมื่อความเข้มข้นของเปอร์- แมงกาเนต ไอออนในสารผสมจะถูกลดลง0. Process for the control of mixtures in accordance with any one of claims 1 through 6, a process which consists of blowing gas ion zones into the mixture when the per-manganate ion concentration in the mixture becomes Was reduced