TH155693A - ชั้น TixSi1-xN และการผลิตชั้นดังกล่าว - Google Patents
ชั้น TixSi1-xN และการผลิตชั้นดังกล่าวInfo
- Publication number
- TH155693A TH155693A TH1501007951A TH1501007951A TH155693A TH 155693 A TH155693 A TH 155693A TH 1501007951 A TH1501007951 A TH 1501007951A TH 1501007951 A TH1501007951 A TH 1501007951A TH 155693 A TH155693 A TH 155693A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- tixsi1
- layers
- layer
- workpiece
- formula
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract 2
- 239000002159 nanocrystal Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 4
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 abstract 1
Abstract
การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับชิ้นงานเคลือบ ชั้นเคลือบดังกล่าวที่ประกอบรวมด้วย อย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชั้น TixSi1-xN, ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า x (สูตร) 0.85 และชั้น TixSi1-xN มีผลึกนาโนและผลึก นาโนที่มีอยู่ขนาดเม็ดเฉลี่ยนไม่มากเกิน 15 นาโนเมตรและมีเนื้อ (200) การประดิษฐ์นี้ยังเกี่ยวข้องกับ กระบวนการสำหรับการผลิตชั้นที่กล่าวมาข้างต้นที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่ากระบวนการสปัตเตอริง ที่ซึ่งความหนาแน่นกระแสสูงกว่า 0.2 แอมป์/เซนติเมตร2 เกิดขึ้นบนพื้นผิวเป้าหมายของเป้าหมายสปัตเตอ ริง และเป้าหมายคือ TixSi1-xN ที่ซึ่ง x (สูตร) 0.85 เป็น %อะตอม ขั้นกลางที่มี TiAIN หรือ CrAIN อย่างพึง ประสงค์ให้ถูกจัดให้มีระหว่างชั้น TixSi1-xN และลำตัวซับสเตรตของชิ้นงาน
Claims (3)
1. ชิ้นงานที่มีชั้นเคลือบ ชั้นเคลือบดังกล่าวที่ประกอบรวมด้วย อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชั้น TixSi1-xN, ที่ถูก กำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า x (สูตร)0.85 และชั้น TixSi1-xN มีผลึกนาโนและผลึกนาโนที่มีอยู่ขนาดเม็ดเฉลี่ยไม่ มากเกิน 15 นาโนเมตร, ที่ซึ่ง x เป็นความเข้มข้นของ Ti ที่แสดงเป็น %อะตอม เมื่อธาตุโลหะถูกพิจารณา เท่านั้น
2. ชิ้นงาน ตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1, ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่าชั้นกลางที่มี TiAIN ถูกจัดให้มีระหว่างชั้น TixSi1-xN และลำตัวซับสเตรตของชิ้นงาน
3. ชิ้นงานตามข้อถือสิทธิข้อที่ 2, ทีแท็ก :
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH155693A true TH155693A (th) | 2016-09-06 |
| TH1501007951A TH1501007951A (th) | 2016-09-06 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2015046595A5 (th) | ||
| IL274880A (en) | Composition and process for selective burning of a layer containing an aluminum compound in the presence of layers of materials with low K, copper and/or cobalt | |
| MY185883A (en) | Perovskite material layer processing | |
| RU2016121873A (ru) | Препятствующий оксидированию барьерный слой | |
| MY174610A (en) | Process for preparing a surface-modified material | |
| BR112016006159A2 (pt) | processo de fabricação de uma lâmina pré-pintada, método de fabricação e lâmina pré-pintada | |
| WO2014172131A3 (en) | Methods of forming perovskite films | |
| MX2018006412A (es) | Metodo de etiquetar un sustrato. | |
| EP3728692A4 (en) | CHEMICAL-RESISTANT MULTI-LAYER PAINTING APPLIED BY ATOMIC DEPOSITION | |
| UA118205C2 (uk) | Спосіб виготовлення деталей з низькою хвилястістю з гальванічно оцинкованого металевого листа та відповідні деталь і транспортний засіб | |
| WO2016098131A3 (en) | Improved method for the synthesis of ferric oraganic compounds | |
| JP2014504333A5 (th) | ||
| EP2981507A4 (en) | Metal compound, method for preparing the same, selective metallization of surface of substrate with the metal compound | |
| WO2018101743A3 (ko) | 적층체 | |
| EP3097574A4 (en) | Fabrication of enhanced supercapacitors using atomic layer deposition of metal oxide on nanostructures | |
| MX2017004159A (es) | Sustrato provisto con una pila que tiene propiedades termicas y una capa intermedia superestequiometrica. | |
| WO2015090991A3 (de) | Verfahren zur herstellung strukturierter metallischer beschichtungen | |
| WO2016209218A8 (en) | A stackable thin film memory | |
| WO2017103946A3 (en) | Tri-molecular complex of natural compounds | |
| WO2017026683A8 (ko) | 표면외관이 우수한 전기아연도금강판용 아연 플래쉬 도금 용액, 이를 이용한 전기아연도금강판의 제조방법 및 전기아연도금강판 | |
| FR3036307B1 (fr) | Procede ameliore de fabrication d'une piece metallique du type sandwich presentant une forme non-developpable | |
| JP2012216765A5 (th) | ||
| SG11201911459UA (en) | Multilayer antifouling coating film, substrate with multilayer antifouling coating film and method for producing same, coating material kit for forming multilayer antifouling coating film, upper-layer antifouling coating composition, and antifouling method | |
| PH12015502753A1 (en) | Tixsi1-xn layers and their production | |
| TH155693A (th) | ชั้น TixSi1-xN และการผลิตชั้นดังกล่าว |