TH146166A - วิธีการฟื้นฟูสารขัดถู - Google Patents
วิธีการฟื้นฟูสารขัดถูInfo
- Publication number
- TH146166A TH146166A TH1401004711A TH1401004711A TH146166A TH 146166 A TH146166 A TH 146166A TH 1401004711 A TH1401004711 A TH 1401004711A TH 1401004711 A TH1401004711 A TH 1401004711A TH 146166 A TH146166 A TH 146166A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- abrasive
- abrasives
- slurry
- restore
- concentration
- Prior art date
Links
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 title claims abstract 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 8
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims abstract 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- -1 alkaline earth metal salts Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract 2
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
Abstract
DC60 (15/08/57) ความมุ่งประสงค์ของการประดิษฐ์นี้คือเพื่อจัดเตรียมวิธีการฟื้นฟูสารขัดถูจากสเลอร์รี สารขัดถูที่ผ่านการใช้แล้ว ซึ่งสามารถคืนสภาพสารขัดถูได้โดยวิธีการที่มีประสิทธิผลและภายหลัง จากนั้นจะสามารถได้มาซึ่งสารขัดถูที่ผ่านการฟื้นฟูแล้วที่มีความบริสุทธิ์สูงโดยวิธีการแบบเรียบง่าย วิธีการฟื้นฟูสารขัดถูนี้ จากสเลอร์รีสารขัดถูที่ผ่านการใช้แล้ว, จะฟื้นฟูสารขัดถูที่มีอยู่ในสเลอร์รี สารขัดถูดังกล่าว, ได้รับการทำให้ลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าสารขัดถูดังกล่าวประกอบรวมด้วย อย่างน้อยหนึ่งชนิดของสารขัดถูที่คัดเลือกจากเพชร, ไบรอนไนไทรด์, ซิลิกอนคาร์ไบด์, อะลูมินา, อะลูมินาเซอร์โคเนียและเซอร์โคเนียมออกไซด์, และโดยการฟื้นฟูสารขัดถูซึ่งครอบคลุมขั้นตอน (A) เพื่อคืนสภาพสเลอร์รีสารขัดถูที่ปล่อยจากเครื่องขัด, ขั้นตอนการแยกและการปรับความเข้มข้น (B) เพื่อเติมเกลือโลหะแอลคาไลน์เอิร์ธในฐานะเป็นเกลืออนินทรีย์ไปยังสเลอร์รีสารขัดถูที่ผ่านการ คืนสภาพแล้วเพื่อเกาะรวมกลุ่มสารขัดถู, และการแยกและการปรับความเข้มข้นสารขัดถูจากของเหลว หลัก, และขั้นตอนการคืนสภาพสารขัดถู (C) เพื่อการคืนสภาพสารขัดถูที่ผ่านการแยกและการปรับ ความเข้มข้นแล้ว
Claims (1)
- : DC60 (15/08/57) ความมุ่งประสงค์ของการประดิษฐ์นี้คือเพื่อจัดเตรียมวิธีการฟื้นฟูสารขัดถูจากสเลอร์รี สารขัดถูที่ผ่านการใช้แล้ว ซึ่งสามารถคืนสภาพสารขัดถูได้โดยวิธีการที่มีประสิทธิผลและภายหลัง จากนั้นจะสามารถได้มาซึ่งสารขัดถูที่ผ่านการฟื้นฟูแล้วที่มีความบริสุทธิ์สูงโดยวิธีการแบบเรียบง่าย วิธีการฟื้นฟูสารขัดถูนี้ จากสเลอร์รีสารขัดถูที่ผ่านการใช้แล้ว, จะฟื้นฟูสารขัดถูที่มีอยู่ในสเลอร์รี สารขัดถูดังกล่าว, ได้รับการทำให้ลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าสารขัดถูดังกล่าวประกอบรวมด้วย อย่างน้อยหนึ่งชนิดของสารขัดถูที่คัดเลือกจากเพชร, ไบรอนไนไทรด์, ซิลิกอนคาร์ไบด์, อะลูมินา, อะลูมินาเซอร์โคเนียและเซอร์โคเนียมออกไซด์, และโดยการฟื้นฟูสารขัดถูซึ่งครอบคลุมขั้นตอน (A) เพื่อคืนสภาพสเลอร์รีสารขัดถูที่ปล่อยจากเครื่องขัด, ขั้นตอนการแยกและการปรับความเข้มข้น (B) เพื่อเติมเกลือโลหะแอลคาไลน์เอิร์ธในฐานะเป็นเกลืออนินทรีย์ไปยังสเลอร์รีสารขัดถูที่ผ่านการ คืนสภาพแล้วเพื่อเกาะรวมกลุ่มสารขัดถู, และการแยกและการปรับความเข้มข้นสารขัดถูจากของเหลว หลัก, และขั้นตอนการคืนสภาพสารขัดถู (C) เพื่อการคืนสภาพสารขัดถูที่ผ่านการแยกและการปรับ ความเข้มข้นแล้ว ข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : แท็ก :
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH146166A true TH146166A (th) | 2016-03-04 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2015004567A3 (en) | Chemical-mechanical polishing composition comprising benzotriazole derivatives as corrosion inhibitors | |
| PH12014501857A1 (en) | Abrasive regeneration method | |
| EA201790633A1 (ru) | Пропитанный и содержащий покрытие расклинивающий наполнитель, содержащий средства для химической обработки, и способы его применения | |
| TW201612285A (en) | Tungsten chemical-mechanical polishing composition | |
| MY177685A (en) | Abrasive material regeneration method and regenerated abrasive material | |
| TWI799467B (zh) | 得自含胺引發之多元醇之固化劑的高移除速率化學機械拋光墊 | |
| LT3206829T (lt) | Lazerinio apdorojimo būdas perskelti arba perpjauti ruošinį, formuojant "adatos" formos pažeidimus | |
| TW201614034A (en) | Copper barrier chemical-mechanical polishing composition | |
| EP3492546A4 (en) | ABRASIVE GRAIN, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, POLISHING SLURRY WITH THESE GRINDING GRAINS AND POLISHING METHOD USING THIS POLISHING SLURRY | |
| TW201612305A (en) | Cleaning composition following CMP and methods related thereto | |
| MY153077A (en) | Method to selectively polish silicon carbide films | |
| CO2018003666A2 (es) | Absorbente para la remoción selectiva de sulfuro de hidrógeno | |
| MY155812A (en) | Method for regenerating cerium-based abrasive | |
| RU2017103686A (ru) | Растворы для полировки и способы их применения | |
| EP3625747A4 (en) | ELECTRONIC PLATFORM, SYSTEMS AND PROCEDURES FOR PLANNING POLISHED DIAMOND PARAMETERS TO ENABLE INDIVIDUAL DIAMOND TRANSACTIONS | |
| MX2013006892A (es) | Emulsion de compuestos hidrofobicos libres de silicio y fluor para metodos de recuperacion de petroleo a traves delcambio de mojabilidad de rocas hidrofilica a oleofilica. | |
| MX2019006568A (es) | Eliminacion de ligandos lixiviados de purificacion de afinidad. | |
| WO2011130072A3 (en) | Composition and method for polishing bulk silicon | |
| MY179920A (en) | Lapping slurry having a cationic surfactant | |
| CL2015003079A1 (es) | Uso de surfactantes cationicos en la cianuración de minerales carbonosos refractarios para recuperación de metales. | |
| TH146166A (th) | วิธีการฟื้นฟูสารขัดถู | |
| AR101929A1 (es) | Método para la recuperación de líquido iónico y su sistema | |
| GB201602926D0 (en) | Procedure for efficient recovery of diamonds,gold from tailings | |
| TH146167A (th) | วิธีการฟื้นฟูสารขัดถู | |
| TH150524A (th) | วิธีการคืนสภาพใหม่วัสดุขัดถู และวัสดุขัดถูที่ผ่านการคืนสภาพใหม่แล้ว |