TH145944A - อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลม, อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม, วิธีการผลิตอนุภาคเหล่านี้, ฟิลเลอร์ที่ปลดปล่อยความร้อน และที่เป็นเครื่องสำอาง - Google Patents

Abstract

DC60 (21/02/57) วัตถุประสงค์ของการประดิษฐ์นี้ คือเพื่อให้ได้อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมี เส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคที่ใหญ่ อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมีคุณสมบัติที่ดีเยี่ยม เนื่องจาก อนุภาคเหล่านี้มีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 ไมครอน หรือมากกว่า อัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละ รูปทรงที่ใกล้เคียงกับทรงกลม อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งได้มาโดยการเผาอนุภาคซิงค์เปอร์ ออกไซด์ชนิดกลมจนเป็นผง เเละซึ่งมีอัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละการกระจายขนาดอนุภาคที่สูง วิธีการผลิตอนุภาคเหล่านี้ เเละฟิลเลอร์ที่ปลดปล่อยความร้อน เเละที่เป็นเครื่องสำอาง ที่เเต่ละชนิดมี อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ที่ได้คืออนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 ไมครอน หรือ มากกว่า และอัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่า เเละอนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งได้มาโดยการเเยก อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมด้วยความร้อน เเละซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 ไมครอน หรือมากกว่า เเละอัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่า วัตถุประสงค์ของการประดิษฐ์นี้ คือเพื่อให้ได้อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมี เส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคที่ใหญ่ อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมีคุณสมบัติที่ดีเยี่ยม เนื่องจาก อนุภาคเหล่านี้มีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 am หรือมากกว่า อัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละ รูปทรงที่มใกล้เคียงกับทรงกลม อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งได้มาโดยการเผาอนุภาคซิงค์เปอร์ ออกไซด์ชนิดกลมจนเป็นผง เเละซึ่งมีอัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละการกระจายขนาดอนุภาคที่สูง วิธีการผลิตอนุภาคเหล่านี้ เเละฟิลเลอร์ที่ปลดปล่อยความร้อน เเละที่เป็นเครื่องสำอาง ที่เเต่ละชนิดมี อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ที่ได้คืออนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภุาคเฉลี่ย 0.04 am หรือ มากกว่า อัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่า เเละอนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งได้มาโดยการเเยกอนุภาค ซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมด้วยความร้อน เเละซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 am หรือ มากกว่า เเละอัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่า

Claims (2)

: DC60 (21/02/57) วัตถุประสงค์ของการประดิษฐ์นี้ คือเพื่อให้ได้อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมี เส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคที่ใหญ่ อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมีคุณสมบัติที่ดีเยี่ยม เนื่องจาก อนุภาคเหล่านี้มีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 ไมครอน หรือมากกว่า อัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละ รูปทรงที่ใกล้เคียงกับทรงกลม อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งได้มาโดยการเผาอนุภาคซิงค์เปอร์ ออกไซด์ชนิดกลมจนเป็นผง เเละซึ่งมีอัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละการกระจายขนาดอนุภาคที่สูง วิธีการผลิตอนุภาคเหล่านี้ เเละฟิลเลอร์ที่ปลดปล่อยความร้อน เเละที่เป็นเครื่องสำอาง ที่เเต่ละชนิดมี อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ที่ได้คืออนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 ไมครอน หรือ มากกว่า และอัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่า เเละอนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งได้มาโดยการเเยก อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมด้วยความร้อน เเละซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 ไมครอน หรือมากกว่า เเละอัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่า วัตถุประสงค์ของการประดิษฐ์นี้ คือเพื่อให้ได้อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมี เส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคที่ใหญ่ อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งมีคุณสมบัติที่ดีเยี่ยม เนื่องจาก อนุภาคเหล่านี้มีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 am หรือมากกว่า อัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละ รูปทรงที่มใกล้เคียงกับทรงกลม อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลมซึ่งได้มาโดยการเผาอนุภาคซิงค์เปอร์ ออกไซด์ชนิดกลมจนเป็นผง เเละซึ่งมีอัตราส่วนที่มีขนาดเล็ก เเละการกระจายขนาดอนุภาคที่สูง วิธีการผลิตอนุภาคเหล่านี้ เเละฟิลเลอร์ที่ปลดปล่อยความร้อน เเละที่เป็นเครื่องสำอาง ที่เเต่ละชนิดมี อนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ที่ได้คืออนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภุาคเฉลี่ย 0.04 am หรือ มากกว่า อัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่า เเละอนุภาคซิงค์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งได้มาโดยการเเยกอนุภาค ซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลมด้วยความร้อน เเละซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 am หรือ มากกว่า เเละอัตราส่วน 2.0 หรือน้อยกว่าข้อถือสิทธิ์ (ข้อที่หนึ่ง) ซึ่งจะปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :

1.อนุภาคซิงค์เปอร์ออกไซด์ชนิดกลม ซึ่งมีเส้นผ่าศูนย์กลางอนุภาคเฉลี่ย 0.04 am หรือ มากกว่า เเละอัตราส่วน

2.0 หรือ น้อยกว่าแท็ก :