TH11908B - การใช้วัสดุหล่อสำหรับการผลิตผลิตภัณฑ์หล่อที่มีความต้านทานต่อคลอโรฟลูออโรคาร์บอนที่เฮโลจิเนทแล้วบางส่วน - Google Patents

Abstract

???????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????????

Claims (5)

1. การใช้วัสดุหล่อที่มีสารต่อไปนี้ในการเป็นส่วนประกอบที่จำเป็น A)โคโพลีเมอร์แบบกราฟท์ จาก 1 ถึง 50% โดยน้ำหนัก เทียบกับน้ำหนักทั้งหมดของวัสดุหล่อซึ่งประกอบด้วย a1) ฐานสำหรับการกราฟท์ จาก 50 ถึง 90% โดยน้ำหนัก เทียบกับ A) ซึ่งประกอบด้วย a11) แอคริเลท พอลิเมอร์ ที่เชื่อมขวางบางส่วนหรือสมบูรณ์ ที่เกิดจาก a111) แอลคิล แอคริเลท อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด จาก 50 ถึง 99.9% โดยน้ำหนัก เทียบกับ a11) ซึ่งอนุมูลแอลคิล มีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม a112) พอลิฟังก์ชันแนล มอนอเมอร์ สำหรับการเชื่อมขวาง จาก 0.1 ถึง 5% โดยน้ำหนัก เทียบกับ a11) และ a113) มอนอเมอร์เพิ่มเติมจาก 0 ถึง 49.9% โดยน้ำหนักเทียบกับ a11) ซึ่งเกิดเป็นโคโพลีเมอร์กับ a111) ได้ และเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วย ไวนิล แอลคิล อีเธอร์ ซึ่งอนุมูลแอลคิล มีคาร์บอน 1 ถึง 8 อะตอม บิวทาไดอีน ไอโซพรีน สไทรีน แอคริโลไนทริล เมธาคริโลไนทริล และเมธิล เมธาคริเลท และ a12)บิวทาไดอีน พอลิเมอร์ ซึ่งประกอบด้วย a121) บิวท่ไดอีน จาก 60 ถึง 100% โดยน้ำหนักเทียบกับ a12)และ a122) มอนอเมอร์ที่เกิดโคพอลิเมอร์ได้ต่อไปจาก 0 ถึง 40% โดยน้ำหนักเทียบกับ a12) ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยไวนิล แอลคิล อีเธอร์ ซึ่งหมู่แอลคิลมีคาร์บอน 1 ถึง 8 อะตอม แอลคิล แอคริเลท ซึ่งหมู่แอลคิล มีคาร์บอน 1 ถึง 10 อะตอม ไอโซพรีน สไทรีน แอคริโลไนทริล เมธาคริโลไนทริล และเมธิลเมธาคริเลท และ a2) เซลล์ shell ที่กราฟท์บนโคโพลิเมอร์แบบกราฟท์จาก 10 ถึง 50% โดยน้ำหนัก เทียบกับA) และประกอบด้วย a21) ไวนิลแอโรแมทิค มอนอเมอร์ จาก 60ถึง 50% โดยน้ำหนัก เทียบกับ a21) และ a22) โคมอนอเมอร์ ที่มีขั้วที่เกิดโคพอลิเมอร์ได้จาก 10 ถึง 40% โดยน้ำหนัก ซึ่งเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยแอคริโลไนทริล เมธาคริโลไนทริล เอสเทอร์ของ (เมธ) แอคริลิคแอซิด ซึ่งอนุมูลแอลคิล มีคาร์บอน 1 ถึง 4 อะตอม แมลีอิคแอนไฮไดรด์,(เมธ) แอคริแลมีด และไวนิลแอลคิลอีเธอร์ ซึ่งอนุมูลแอลคิล มีคาร์บอน 1 ถึง 8 อะตอม B) โคพอลิเมอร์จาก 30 ถึง 99% โดยน้ำหนักเทียบกับน้ำหนักทั้งหมดของวัสดุหล่อของ b1) ไวนิลแอโรเมทิค มอนอเมอร์ จาก 50 ถึง 99% โดยน้ำหนัก และ b2) มอนอเมอร์ดังที่อธิบายไว้สำหรับ a22) จาก 1 ถึง 50% โดยน้ำหนัก และ C) สารเติมแต่งธรรมดา และสารช่วยกรรมวิธีจาก 0 ถึง 20% โดยน้ำหนักสำหรับการผลิตผลิตภัณฑ์หล่อที่ซึ่งสัมผัสกับ CFCS ที่เฮโลจีเนทแล้วบางส่วน (HCFCS)

2. การใช้ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ในที่ซึ่ง อัตราส่วนผสมของ a11) และ a12) คือ จาก 4:1 ถึง 1:4

3. การใช้ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ในที่ซึ่งกราฟท์ไปบนโคพอลิเมอร์แบบกราฟท์ ซึ่งประกอบด้วย a11) จาก 65 ถึง 80% โดยน้ำหนัก และ a22) จาก 20 ถึง 35% โดยยน้ำหนัก

4. การใช้ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ในที่ซึ่ง ปริมาณของฐานสำหรับการกราฟท์ a11) และ a12) ในโคพอลิเมอร์แบบกราฟท์ทั้งหมดของ A

5. การใช้ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง สำหรับการผลิตภาชนะภายในของตู้เย็น