SU968104A2 - Ячейка дл нанесени электролитических покрытий - Google Patents
Ячейка дл нанесени электролитических покрытий Download PDFInfo
- Publication number
- SU968104A2 SU968104A2 SU813249251A SU3249251A SU968104A2 SU 968104 A2 SU968104 A2 SU 968104A2 SU 813249251 A SU813249251 A SU 813249251A SU 3249251 A SU3249251 A SU 3249251A SU 968104 A2 SU968104 A2 SU 968104A2
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- electrolyte
- perforation
- anode
- cell
- supplying
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
(54) ЯЧЕЙКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ
ПОКРЫТИЙ
1
Изобретение относитс к нанесению электролитических покрытий.
По основному авт. св. № 644875 известна чейка дл нанесени электролитических покрытий на обрабатываемую поверхность деталей сложной конфигурации, преимущественно шеек коленчатых валов.
Эта чейка содержит разъемный корпус из химического диэлектрика с рабочей полостью , подвод щими и отвод щими каналами , полукольцевыми перфорированными анодами, уплотнени ми, полост ми дл подвода и отвода электролита из рабочей полости , газосборной камерой с дренажным отверстием, расположенной над отвод щим каналом и сообщающейс посредством перфорации с полостью дл отвода электролита , причем отвод щий канал расположен выще уровн рабочей полости.
Интенсификаци процесса электролиза за счет использовани повыщенных плотностей тока (более 90-ПО А/дм, например, в процессах электролитического осаждени износостойкого хрома) с целью увеличени скорости осаждени электролитического покрыти с одновременным сохранением качества и равномерности электролитического покрыти при различных его толщинах (0,2- 0,6 мм) требует обеспечени равномерной подачи свежего ионизированного электролита непосредственно на всю обрабатываемую поверхность и интенсивную, равномерную его смен емость по всему объему рабочей полости чейки с одновременным отводом газов электролиза.
Однако конструкци перфорации анодов известной чейки не предусматривает обеспечени перечисленных факторов. Это прежде всего объ сн етс тем, что подающа электролит перфораци полукольцевых анодов известных чеек и анодных устройств выполнена обычно перпендикул рно или под углом к обрабатываемой поверхности, при 15 этом ее суммарна площадь всегда меньше площади этой поверхности. В результате такого исполнени подающей перфорации практически исключено равномерное омывание обрабатываемой поверхности свежим ионизированным электролитом.
Одновременно нагнетаемые струи ионизированного электролита при ударе об обрабатываемую поверхность отражаютс от нее, дроб тс и смещиваютс с электролитом рабочей полости, что приводит к обеднению прикатодного сло электролита, непосредственно омывающего обрабатываемую поверхность, и к неоднородности электролита , заполн ющего рабочую полость. Вместе с тем хаотическое движение массы электролита , нагнетаемого через перфорацию полукольцевых анодов, затрудн ет его последующую равномерную смен емость в рабочей полости , что способствует скоплению газов электролиза в нижнем объеме рабочей полости (под обрабатываемой поверхностью) и насыщению газами электролита верхнего объема рабочей полости (над обрабатываемой поверхностью).
В результате при использовании известной чейки в электролитических процессах с плотностью тока более 90-110 А/дм (например , в процессах электролитического хромировани щеек коленчатого вала в проточном саморегулирующем холодном электролите ) на обрабатываемой поверхности осаждаетс неоднородное по структуре электролитическое покрытие с рковыраженной дендритной бугристостью, котора особенно значительна в местах контакта ионизированных струй электролита, нагнетаемых через перфорацию полуанодов, при этом число дендритов и их размер увеличиваетс с наращиванием толщины сло электролитическбго покрыти .
Цель изобретени - повышение скорости наращивани электролитического покрыти за счет интенсификации и стабилизации процесса . электролиза с одновременным улучщением качества электролитического покрыти и равномерности его осаждени .
Указанна цель достигаетс тем, что в чейке дл нанесени электрических покрытий перфораци анода дл подачи электролита выполнена по касательной к образующим обрабатываемой поверхности в одном направлении.
Одновременно сечение перфорации дл подачи электролита в плоскости касательной к образующей обрабатываемой поверхности выполнено трапецеидальным с расширением в направлении к этой образующей, при этом длина отрезка или сумма отрезков, образованных при пересечении продолжени сторон этой трапеции с образующей, равна ее длине , а перфораци дл отвода электролита выполнена радиальной и размещена вне площади очерченной проекцией продолжени этих сторон на поверхности анода.
Кроме того, анод чейки выполнен с дополнительной перфорацией дл подвода электролита, расположенной так же по касательной к каждой верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности в направлении, что и основна перфораци , а рабоча полост.ь чейки заполнена нейтральным абразивным материалом, например стекл нными шариками.
На фиг. 1 изображена чейка дл электролитического покрыти и конструкци ее полуанодов; на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1; на фиг. 3 - схема подачи электролита.
Полуаноды 1 и 2 чейки дл нанесени электролитических покрытий, выполненные из нерастворимого в электролите материала , оснащены равномерно чередующейс , охватывающей обрабатываемую поверхность детали 3 перфорацией дл подачи 4 и дл отвода электролита 5 из рабочей полости 6.
При этом подающа 4 электролит перфораци полуанодов 1 и 2 выполнена по касательной к образующим обрабатываемой поверхности детали 3 в одном направлении по окружности.
Подающа 4 электролит перфораци в сечении плоскостью по касательной к образующим обрабатываемой поверхности выполнена чередующейс и представл ет из себ трапецию с расширением в сторону этой образующей, при этом сумма отрезков, образованных при пере-сечении продолжени сторон трапеции с образующей обрабатываемой поверхности, равна ее длине.
Отвод ща 5 электролит перфораци размещена против промежутков между подающей 4 перфорацией вне площади, очерченной проекцией на поверхность полуанодов 1 и 2 продолжени сторон его трапецеидального сечени в направлении, образующей обра-батываемой поверхности детали 3.
По касательной к верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности детали 3 в том же направлении, что и основна подающа 4 перфораци , полуаноды 1 и 2 оснащены дополнительной подающей 7 и 8 перфорацией анологичной по сечению основной.
Перфораци подающа 4 и дополнительна 7 и 8 св заны между собой каналом-коллектором 9, сообщающимс с полостью 10 дл подвода электролита, а отвод ща 5 электролит перфораци сообщаетс с отвод щей электролит полостью II.
Рабоча полость б чейки заполнена нейтральным абразивным материалом, например шариками 12 из стекла, диаметр которых больше поперечного сечени перфораций полуанодов.
Ячейка работает следующим образом.
Электролит из полости 10 поступает в канал-коллектор 9, из которого через перфорацию подающую 4 и дополнительную 7 и 8 нагнетаетс в рабочую полость чейкипо касательной к образующим обрабатываемой детали 3, в том числе к верхней и нижней образующим . Суммарна длина струй нагнетаемого электролита, при соприкосновении с обрабатываемой поверхностью детали 3 по ее образующим, под действием сил поверхностного нат жени обволакивают эту поверхность, создава на ней посто нно обновл ющуюс сплошную и концентричную пленку ионизированного свежего электролита .
Обща направленность по окружности, нагнетаемых струй электролита в рабочую полость 6, а также суммарна длина каждой из них, равной длине образующей, в месте контакта с ней придает массе электролита, заполн ющей эту полость, вращательное движение, котора дополнительно «раст гивает по всей обрабатываемой поверхности детали 3 обволакивающую ее пленку свежего ионизированного электролита, равномерно распредел его по этой поверхности.
Одновременно под действием, центробежных сил, вращающейс массы электролита происходит равномерный отвод отработанного электролита и газов электролиза через промежутки между стру ми трапецеидального сечени нагнетаемого электролита, образованных за счет прерывистой, трапецеидальной по сечению перфорации подающей 4 и дополнительной 7 и 8,- в радиальную отвод щую 5 перфорацию полуанодов 1 и 2 и далее в отвод щую полость 11 чейки.
Струи электролита, нагнетаемого в рабочую полость 6 через дополнительную 7 и 8 перфорацию по касательной к верхней и нижним образующим обрабатываемой поверхности детали 3, образуют на этих участках пленку свежего, посто нно обновл ющегос , ионизированного электролита и преп тствует скоплению газов электролиза в рабочей полости под обрабатываемой поверхностью и насыщению ими верхних слоев электролита над этой поверхностью.
Внутреннюю поверхность полуанодов 1 и 2 и поверхность наращиваемого электролитического покрыти в процессе электролиза механически обрабатьщают стекл нными щариками 12, увлекаемых вращающимс потоком электролита рабочей полости, которые активизируют эти поверхности и сбивают зарождающиес дендриты.
Выполнение подающей электролит перфорации полуанодов чейки по касательной к образующим обрабатываемой поверхности в одном напра-Блении, наличие дополнительной подающей электролит перфорации, выполненной так же по касательной к каждой верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности в том же направлении,что и основна подающа перфораци , а также выполнение сечени подающей электролит перфорации в плоскости касательной к образующей трапецеидальной с расщирением в сторону этой образующей, при условии, что
длина отрезка или сумма отрезков образованных при пересечении продолжени сторон трапеций с образующей не меньще ее длины, а отвод ща электролит перфораци анода расположена вне площади очерченной
проекцией на поверхность полуанодов продолжени этих сторон и выполнена радиальной , позвол ет вести процесс электролиза при плотност х тока 150-350 А/дм и получать качественное, равномерное покрытие.
Наличие нейтрального абразивного материала позвол ет стабилизировать процесс электрЬлиза, что дает возможность получать качественные электролитические покрыти толщиной 0,20-0,6 мм.
Claims (4)
1.Ячейка дл нанесени электролитических покрытий по авт. св. № 644875, отличающа с тем, что, с целью повышени ско0 рости наращивани электролитического покрыти за счет интенсификации и стабилизации процесса электролизера, улучщени качества электролитического покрыти и его равномерности, перфораци анода дл подачи электролита выполнена по касательной к образующим обрабатываемой поверхности в одном.направлении.
2.Ячейка по п. I, отличающа с тем, что сечение перфорации анода дл подачи электролита в плоскости касательной к образующей обрабатываемой поверхности выполнено трапецеидальным с расщирением в направлении к этой образующей, при этом длина отрезка или сумма отрезков, образованных при пересечении продолжени сторон трапецией с образующей, равна ее длине, а
5 перфораци анода дл отвода электролита расположена вне площади очерченной на поверхности анода проекцией продолжени этих сторон и выполнена радиальной.
3.Ячейка по п. 1, отличающа с тем, 0 что анод выполнен с дополнительной перфорацией дл подачи электролита, расположенной так же по касательной к каждой верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности в направлении, что и основна перфораци .
5
4. Ячейка по п. 1, отличающа с тем, что рабоча полость заполнена нейтральным абразивным материалом, например стекл нными шариками.
/1-/I
.1
vvv
w ww w
I I 11 I
b
5
/ /-X /.
fc.f
.J
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813249251A SU968104A2 (ru) | 1981-02-18 | 1981-02-18 | Ячейка дл нанесени электролитических покрытий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU813249251A SU968104A2 (ru) | 1981-02-18 | 1981-02-18 | Ячейка дл нанесени электролитических покрытий |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU644875 Addition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU968104A2 true SU968104A2 (ru) | 1982-10-23 |
Family
ID=20943511
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU813249251A SU968104A2 (ru) | 1981-02-18 | 1981-02-18 | Ячейка дл нанесени электролитических покрытий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU968104A2 (ru) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG86463A1 (en) * | 2000-03-24 | 2002-02-19 | Applied Materials Inc | Perforated anode for uniform deposition of a metal layer |
US6830673B2 (en) | 2002-01-04 | 2004-12-14 | Applied Materials, Inc. | Anode assembly and method of reducing sludge formation during electroplating |
US7837851B2 (en) | 2005-05-25 | 2010-11-23 | Applied Materials, Inc. | In-situ profile measurement in an electroplating process |
-
1981
- 1981-02-18 SU SU813249251A patent/SU968104A2/ru active
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SG86463A1 (en) * | 2000-03-24 | 2002-02-19 | Applied Materials Inc | Perforated anode for uniform deposition of a metal layer |
US6521102B1 (en) | 2000-03-24 | 2003-02-18 | Applied Materials, Inc. | Perforated anode for uniform deposition of a metal layer |
US6830673B2 (en) | 2002-01-04 | 2004-12-14 | Applied Materials, Inc. | Anode assembly and method of reducing sludge formation during electroplating |
US7837851B2 (en) | 2005-05-25 | 2010-11-23 | Applied Materials, Inc. | In-situ profile measurement in an electroplating process |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5462649A (en) | Method and apparatus for electrolytic plating | |
US4395320A (en) | Apparatus for producing electrodeposited wires | |
US2689215A (en) | Method and apparatus for plating pipe | |
US4772367A (en) | Apparatus for and a method of electrochemically polishing pipe inside surfaces | |
CN1051205A (zh) | 金属带电镀的装置和方法 | |
SU968104A2 (ru) | Ячейка дл нанесени электролитических покрытий | |
US4430166A (en) | Method and apparatus for electro-treating a metal strip | |
GB2343193A (en) | Metal recovery using electrochemical cell | |
US1974441A (en) | Process and apparatus for electroplating | |
US2583101A (en) | Electrolytic cell | |
US3891534A (en) | Electroplating system for improving plating distribution of elnisil coatings | |
US4441975A (en) | Electrotreating apparatus with electrode roll | |
SU945257A1 (ru) | Установка дл нанесени композиционных покрытий электронатиранием | |
GB2179958A (en) | Radial cell electroplating device | |
US4416756A (en) | Electrotreating apparatus with depletable anode roll | |
US3915835A (en) | Method of improving plating distribution of elnisil coatings | |
EP0364013B1 (en) | Method and apparatus for the electrolytic coating of one side of a moving metal strip | |
RU1773948C (ru) | Ячейка дл нанесени электролитических покрытий | |
SU1108140A1 (ru) | Ячейки дл нанесени электролитических покрытий | |
RU1702721C (ru) | Устройство для вневанного электроосаждения покрытий | |
KR200260904Y1 (ko) | 용액확산방지턱을 갖는 콘덕터롤 | |
RU2030488C1 (ru) | Анод для нанесения покрытий на внешнюю поверхность цилиндрических изделий методом электролитического натирания | |
SU1252396A1 (ru) | Электрод центробежный | |
SU1052569A1 (ru) | Устройство дл проведени гальванических процессов | |
KR900008255B1 (ko) | 전기도금장치의 역류기구 |