SU968104A2 - Ячейка дл нанесени электролитических покрытий - Google Patents

Ячейка дл нанесени электролитических покрытий Download PDF

Info

Publication number
SU968104A2
SU968104A2 SU813249251A SU3249251A SU968104A2 SU 968104 A2 SU968104 A2 SU 968104A2 SU 813249251 A SU813249251 A SU 813249251A SU 3249251 A SU3249251 A SU 3249251A SU 968104 A2 SU968104 A2 SU 968104A2
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
electrolyte
perforation
anode
cell
supplying
Prior art date
Application number
SU813249251A
Other languages
English (en)
Inventor
Михаил Васильевич Апатенко
Валерий Николаевич Хохряков
Петр Михайлович Татару
Виталий Николаевич Долматов
Михаил Парфентьевич Стратулат
Валерий Иванович Четверкин
Original Assignee
Белгородский Филиал Всероссийского Проектно-Конструкторского И Технологического Института "Россельхозтехпроект"
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Белгородский Филиал Всероссийского Проектно-Конструкторского И Технологического Института "Россельхозтехпроект" filed Critical Белгородский Филиал Всероссийского Проектно-Конструкторского И Технологического Института "Россельхозтехпроект"
Priority to SU813249251A priority Critical patent/SU968104A2/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU968104A2 publication Critical patent/SU968104A2/ru

Links

Landscapes

  • Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)

Description

(54) ЯЧЕЙКА ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКИХ
ПОКРЫТИЙ
1
Изобретение относитс  к нанесению электролитических покрытий.
По основному авт. св. № 644875 известна  чейка дл  нанесени  электролитических покрытий на обрабатываемую поверхность деталей сложной конфигурации, преимущественно шеек коленчатых валов.
Эта  чейка содержит разъемный корпус из химического диэлектрика с рабочей полостью , подвод щими и отвод щими каналами , полукольцевыми перфорированными анодами, уплотнени ми, полост ми дл  подвода и отвода электролита из рабочей полости , газосборной камерой с дренажным отверстием, расположенной над отвод щим каналом и сообщающейс  посредством перфорации с полостью дл  отвода электролита , причем отвод щий канал расположен выще уровн  рабочей полости.
Интенсификаци  процесса электролиза за счет использовани  повыщенных плотностей тока (более 90-ПО А/дм, например, в процессах электролитического осаждени  износостойкого хрома) с целью увеличени  скорости осаждени  электролитического покрыти  с одновременным сохранением качества и равномерности электролитического покрыти  при различных его толщинах (0,2- 0,6 мм) требует обеспечени  равномерной подачи свежего ионизированного электролита непосредственно на всю обрабатываемую поверхность и интенсивную, равномерную его смен емость по всему объему рабочей полости  чейки с одновременным отводом газов электролиза.
Однако конструкци  перфорации анодов известной  чейки не предусматривает обеспечени  перечисленных факторов. Это прежде всего объ сн етс  тем, что подающа  электролит перфораци  полукольцевых анодов известных  чеек и анодных устройств выполнена обычно перпендикул рно или под углом к обрабатываемой поверхности, при 15 этом ее суммарна  площадь всегда меньше площади этой поверхности. В результате такого исполнени  подающей перфорации практически исключено равномерное омывание обрабатываемой поверхности свежим ионизированным электролитом.
Одновременно нагнетаемые струи ионизированного электролита при ударе об обрабатываемую поверхность отражаютс  от нее, дроб тс  и смещиваютс  с электролитом рабочей полости, что приводит к обеднению прикатодного сло  электролита, непосредственно омывающего обрабатываемую поверхность, и к неоднородности электролита , заполн ющего рабочую полость. Вместе с тем хаотическое движение массы электролита , нагнетаемого через перфорацию полукольцевых анодов, затрудн ет его последующую равномерную смен емость в рабочей полости , что способствует скоплению газов электролиза в нижнем объеме рабочей полости (под обрабатываемой поверхностью) и насыщению газами электролита верхнего объема рабочей полости (над обрабатываемой поверхностью).
В результате при использовании известной  чейки в электролитических процессах с плотностью тока более 90-110 А/дм (например , в процессах электролитического хромировани  щеек коленчатого вала в проточном саморегулирующем холодном электролите ) на обрабатываемой поверхности осаждаетс  неоднородное по структуре электролитическое покрытие с  рковыраженной дендритной бугристостью, котора  особенно значительна в местах контакта ионизированных струй электролита, нагнетаемых через перфорацию полуанодов, при этом число дендритов и их размер увеличиваетс  с наращиванием толщины сло  электролитическбго покрыти .
Цель изобретени  - повышение скорости наращивани  электролитического покрыти   за счет интенсификации и стабилизации процесса . электролиза с одновременным улучщением качества электролитического покрыти  и равномерности его осаждени .
Указанна  цель достигаетс  тем, что в  чейке дл  нанесени  электрических покрытий перфораци  анода дл  подачи электролита выполнена по касательной к образующим обрабатываемой поверхности в одном направлении.
Одновременно сечение перфорации дл  подачи электролита в плоскости касательной к образующей обрабатываемой поверхности выполнено трапецеидальным с расширением в направлении к этой образующей, при этом длина отрезка или сумма отрезков, образованных при пересечении продолжени  сторон этой трапеции с образующей, равна ее длине , а перфораци  дл  отвода электролита выполнена радиальной и размещена вне площади очерченной проекцией продолжени  этих сторон на поверхности анода.
Кроме того, анод  чейки выполнен с дополнительной перфорацией дл  подвода электролита, расположенной так же по касательной к каждой верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности в направлении, что и основна  перфораци , а рабоча  полост.ь  чейки заполнена нейтральным абразивным материалом, например стекл нными шариками.
На фиг. 1 изображена  чейка дл  электролитического покрыти  и конструкци  ее полуанодов; на фиг. 2 - сечение А-А на фиг. 1; на фиг. 3 - схема подачи электролита.
Полуаноды 1 и 2  чейки дл  нанесени  электролитических покрытий, выполненные из нерастворимого в электролите материала , оснащены равномерно чередующейс , охватывающей обрабатываемую поверхность детали 3 перфорацией дл  подачи 4 и дл  отвода электролита 5 из рабочей полости 6.
При этом подающа  4 электролит перфораци  полуанодов 1 и 2 выполнена по касательной к образующим обрабатываемой поверхности детали 3 в одном направлении по окружности.
Подающа  4 электролит перфораци  в сечении плоскостью по касательной к образующим обрабатываемой поверхности выполнена чередующейс  и представл ет из себ  трапецию с расширением в сторону этой образующей, при этом сумма отрезков, образованных при пере-сечении продолжени  сторон трапеции с образующей обрабатываемой поверхности, равна ее длине.
Отвод ща  5 электролит перфораци  размещена против промежутков между подающей 4 перфорацией вне площади, очерченной проекцией на поверхность полуанодов 1 и 2 продолжени  сторон его трапецеидального сечени  в направлении, образующей обра-батываемой поверхности детали 3.
По касательной к верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности детали 3 в том же направлении, что и основна  подающа  4 перфораци , полуаноды 1 и 2 оснащены дополнительной подающей 7 и 8 перфорацией анологичной по сечению основной.
Перфораци  подающа  4 и дополнительна  7 и 8 св заны между собой каналом-коллектором 9, сообщающимс  с полостью 10 дл  подвода электролита, а отвод ща  5 электролит перфораци  сообщаетс  с отвод щей электролит полостью II.
Рабоча  полость б  чейки заполнена нейтральным абразивным материалом, например шариками 12 из стекла, диаметр которых больше поперечного сечени  перфораций полуанодов.
Ячейка работает следующим образом.
Электролит из полости 10 поступает в канал-коллектор 9, из которого через перфорацию подающую 4 и дополнительную 7 и 8 нагнетаетс  в рабочую полость  чейкипо касательной к образующим обрабатываемой детали 3, в том числе к верхней и нижней образующим . Суммарна  длина струй нагнетаемого электролита, при соприкосновении с обрабатываемой поверхностью детали 3 по ее образующим, под действием сил поверхностного нат жени  обволакивают эту поверхность, создава  на ней посто нно обновл ющуюс  сплошную и концентричную пленку ионизированного свежего электролита .
Обща  направленность по окружности, нагнетаемых струй электролита в рабочую полость 6, а также суммарна  длина каждой из них, равной длине образующей, в месте контакта с ней придает массе электролита, заполн ющей эту полость, вращательное движение, котора  дополнительно «раст гивает по всей обрабатываемой поверхности детали 3 обволакивающую ее пленку свежего ионизированного электролита, равномерно распредел   его по этой поверхности.
Одновременно под действием, центробежных сил, вращающейс  массы электролита происходит равномерный отвод отработанного электролита и газов электролиза через промежутки между стру ми трапецеидального сечени  нагнетаемого электролита, образованных за счет прерывистой, трапецеидальной по сечению перфорации подающей 4 и дополнительной 7 и 8,- в радиальную отвод щую 5 перфорацию полуанодов 1 и 2 и далее в отвод щую полость 11  чейки.
Струи электролита, нагнетаемого в рабочую полость 6 через дополнительную 7 и 8 перфорацию по касательной к верхней и нижним образующим обрабатываемой поверхности детали 3, образуют на этих участках пленку свежего, посто нно обновл ющегос , ионизированного электролита и преп тствует скоплению газов электролиза в рабочей полости под обрабатываемой поверхностью и насыщению ими верхних слоев электролита над этой поверхностью.
Внутреннюю поверхность полуанодов 1 и 2 и поверхность наращиваемого электролитического покрыти  в процессе электролиза механически обрабатьщают стекл нными щариками 12, увлекаемых вращающимс  потоком электролита рабочей полости, которые активизируют эти поверхности и сбивают зарождающиес  дендриты.
Выполнение подающей электролит перфорации полуанодов  чейки по касательной к образующим обрабатываемой поверхности в одном напра-Блении, наличие дополнительной подающей электролит перфорации, выполненной так же по касательной к каждой верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности в том же направлении,что и основна  подающа  перфораци , а также выполнение сечени  подающей электролит перфорации в плоскости касательной к образующей трапецеидальной с расщирением в сторону этой образующей, при условии, что
длина отрезка или сумма отрезков образованных при пересечении продолжени  сторон трапеций с образующей не меньще ее длины, а отвод ща  электролит перфораци  анода расположена вне площади очерченной
проекцией на поверхность полуанодов продолжени  этих сторон и выполнена радиальной , позвол ет вести процесс электролиза при плотност х тока 150-350 А/дм и получать качественное, равномерное покрытие.
Наличие нейтрального абразивного материала позвол ет стабилизировать процесс электрЬлиза, что дает возможность получать качественные электролитические покрыти  толщиной 0,20-0,6 мм.

Claims (4)

1.Ячейка дл  нанесени  электролитических покрытий по авт. св. № 644875, отличающа с  тем, что, с целью повышени  ско0 рости наращивани  электролитического покрыти  за счет интенсификации и стабилизации процесса электролизера, улучщени  качества электролитического покрыти  и его равномерности, перфораци  анода дл  подачи электролита выполнена по касательной к образующим обрабатываемой поверхности в одном.направлении.
2.Ячейка по п. I, отличающа с  тем, что сечение перфорации анода дл  подачи электролита в плоскости касательной к образующей обрабатываемой поверхности выполнено трапецеидальным с расщирением в направлении к этой образующей, при этом длина отрезка или сумма отрезков, образованных при пересечении продолжени  сторон трапецией с образующей, равна ее длине, а
5 перфораци  анода дл  отвода электролита расположена вне площади очерченной на поверхности анода проекцией продолжени  этих сторон и выполнена радиальной.
3.Ячейка по п. 1, отличающа с  тем, 0 что анод выполнен с дополнительной перфорацией дл  подачи электролита, расположенной так же по касательной к каждой верхней и нижней образующим обрабатываемой поверхности в направлении, что и основна  перфораци .
5
4. Ячейка по п. 1, отличающа с  тем, что рабоча  полость заполнена нейтральным абразивным материалом, например стекл нными шариками.
/1-/I
.1
vvv
w ww w
I I 11 I
b
5
/ /-X /.
fc.f
.J
SU813249251A 1981-02-18 1981-02-18 Ячейка дл нанесени электролитических покрытий SU968104A2 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813249251A SU968104A2 (ru) 1981-02-18 1981-02-18 Ячейка дл нанесени электролитических покрытий

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU813249251A SU968104A2 (ru) 1981-02-18 1981-02-18 Ячейка дл нанесени электролитических покрытий

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU644875 Addition

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU968104A2 true SU968104A2 (ru) 1982-10-23

Family

ID=20943511

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU813249251A SU968104A2 (ru) 1981-02-18 1981-02-18 Ячейка дл нанесени электролитических покрытий

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU968104A2 (ru)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG86463A1 (en) * 2000-03-24 2002-02-19 Applied Materials Inc Perforated anode for uniform deposition of a metal layer
US6830673B2 (en) 2002-01-04 2004-12-14 Applied Materials, Inc. Anode assembly and method of reducing sludge formation during electroplating
US7837851B2 (en) 2005-05-25 2010-11-23 Applied Materials, Inc. In-situ profile measurement in an electroplating process

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SG86463A1 (en) * 2000-03-24 2002-02-19 Applied Materials Inc Perforated anode for uniform deposition of a metal layer
US6521102B1 (en) 2000-03-24 2003-02-18 Applied Materials, Inc. Perforated anode for uniform deposition of a metal layer
US6830673B2 (en) 2002-01-04 2004-12-14 Applied Materials, Inc. Anode assembly and method of reducing sludge formation during electroplating
US7837851B2 (en) 2005-05-25 2010-11-23 Applied Materials, Inc. In-situ profile measurement in an electroplating process

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5462649A (en) Method and apparatus for electrolytic plating
US4395320A (en) Apparatus for producing electrodeposited wires
US2689215A (en) Method and apparatus for plating pipe
US4772367A (en) Apparatus for and a method of electrochemically polishing pipe inside surfaces
CN1051205A (zh) 金属带电镀的装置和方法
SU968104A2 (ru) Ячейка дл нанесени электролитических покрытий
US4430166A (en) Method and apparatus for electro-treating a metal strip
GB2343193A (en) Metal recovery using electrochemical cell
US1974441A (en) Process and apparatus for electroplating
US2583101A (en) Electrolytic cell
US3891534A (en) Electroplating system for improving plating distribution of elnisil coatings
US4441975A (en) Electrotreating apparatus with electrode roll
SU945257A1 (ru) Установка дл нанесени композиционных покрытий электронатиранием
GB2179958A (en) Radial cell electroplating device
US4416756A (en) Electrotreating apparatus with depletable anode roll
US3915835A (en) Method of improving plating distribution of elnisil coatings
EP0364013B1 (en) Method and apparatus for the electrolytic coating of one side of a moving metal strip
RU1773948C (ru) Ячейка дл нанесени электролитических покрытий
SU1108140A1 (ru) Ячейки дл нанесени электролитических покрытий
RU1702721C (ru) Устройство для вневанного электроосаждения покрытий
KR200260904Y1 (ko) 용액확산방지턱을 갖는 콘덕터롤
RU2030488C1 (ru) Анод для нанесения покрытий на внешнюю поверхность цилиндрических изделий методом электролитического натирания
SU1252396A1 (ru) Электрод центробежный
SU1052569A1 (ru) Устройство дл проведени гальванических процессов
KR900008255B1 (ko) 전기도금장치의 역류기구