(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ РЕЛЬЕФНЫХ МОДЕЛЕЙ КАРТ(54) METHOD OF MAKING RELIEF MODELS OF CARDS
Изобретение относитс к области картографии и может быть использовано при изготовлении, рельефных карт местности. Известен способ изготовлени рельефных моделей карт, при котором получают отдельные гипсометрические ступетте путем последовательного экспонировани слоев жидкой фотополимеризукшейс композиции (ЖФПК) через маски с последую щим их монтированием и склеиванием йа подложке t ly .: Известен способ изготовлени йр коых ступенчатых релье шых моделей карт е использованием ЖФПК, принцип получени которых заключаетс в последовательном наращивании гипсометрических ступеней моделей друг на друга путем копировани каждой последующей ступени на предыдушую , использу дл этих целей негативные маски горизонтальных сечений репьефа 2 . Недостатком данного способа вл етс неэкономичное расходование пластика со сл.емным слоем в силу необходимости из- готовлени большего количества масок гипсослоев (по количеству высотных ступеней - примерно 15-20 шт), а также большое расходование ЖФПК, так как изготавливаема модель представл ет собой монолит из отвёржденного фотополимера. Кроме того, рельефна модель, изготовленна на основе предлагаемой в способе ЖФПК, не обладает достаточной дл т мовакуумного формовани рельефных карт твёрдостью и термостойкостью, в св зи с чем предполагает дополнительные затраты времени и материалов на изготовление гипсовой матрицы. Цель изобретени -повышение экономичности процесса за счет сокращени расходовани пластика со съемным слоем и жидкой фотополимеризующейс компози- шга, а.также обеспечение возможности непосредственно термовакуумного формовани тиража карт по созданной модели без изготовлени по ней гипсовой матрицы. Указанна цель достигаетс тем, что в способе изготовлени рельефных моделей карт, включающем последовательное наращивание слоев из фотополимеризуюшейс композиции, отверждаемых путем экспонировани ультрафиолетовыми лучами через негативную маску из пластика со съемным маскирующим слоем очередного горизонтального сечени рельефа местности, используют маску из двух листов пластика со съемным маскирующим слоем и подслоем, при этом перед каждым экспонированием на первом листе пластика удал ют очередной маскирую щий слой по изображению нечетной гори зонтали, а на втором листе - четной, пр чем экспонирование слоев осуществл ют поочередно через первый и второй листы пластика маски с защитным закращивани откопированных участков на подслое. На чертеже изображено устройство дл осуществлени предлагаемого способа. Операции предлагаемого способа осуществл ют в следующей после овательности . На одном листе пластика со съемным слоем производ т прорезание маскирующего сло по следу изображени всех нечетных горизонталей, наприм первой, третьей, п той и т.д., на другом - четных . Кроме того, на пластиках прорезают и убирают полосы съемного сло шириной 2-2,5 мм по линии сторон рамки, а также тальвегов, при этом обеспечивают точное совмещение прорезаемых полос на обоих пластикйх. Изготовление рельефвой модели произ водитс в специальной кювете 1, дно которой составл ет прозрачна пленка 2Г Дл получени модели используют ЖФПК, обладающую после фотоотвержден достаточно высокой твердостью и термостойкостью , что необходимо дл обеспечени в последующем возможности не-г посредственного термовакуумного формо вани по изготовленной модели релье1 жы карт без изготовлени гипсовой матрицы Дл этих целей используют ЖФПК, например , на основе олшхэуретанакрилатов ОУА-Ш или ОУА-ТМ, твердость заполимеризованного сло которого составл ет 80-100° по Шору и термостойкость более -fieo c. Указанную ЖФПК 3 заливают в кюве ту 1. На прикладное стеклО 4 со штифтами 5, обеспечивающих точное совмещение масок во врем копировани , укладывают и закрепл ют первый пластик со съемным слоем 6 с прорезанным и удалешплм на нём маскирующим слоем между первой и третьей горизонтал ми. Прикладное стекло с установленной мае- кой поднимают до упора с бортами кюветы и выравнивают прозрачную пленку 2. Между прозрачной пленкой 2, обладающей антиадгезионными свойствами к отверзкдаемому фотополимеру, и основанием модели 7, обладающим адгезионными свойствами , устанавливают зазор, равный выбранной высоте гипсометрической ступени, который заполн ет жидка фф-ополимеризующа композици 3. Производ т экспо- . нирование, в результате которого фотополимер 8, расположенный над прозрачными участками маски, отверждаетс . В качестве источника 9 света используют лампы ультрафиолетового освещени . После первого экспонировани основание модели 7 с закрепивщимс на нем первым слоем 8 поднимают на высоту ступени, при этом происходит отделение заполимеризованного сло от прозрачней пленки 2 и в образующеес пространство атекает жидка фотополимеризующа с композици . После замены первого листа пластика на второй, на котором прорезан и удален съемный слой между второй и четвертой горизонтал ми, производ т второе экспонирование. Вновь откопированный слой прочно закрепл етс на предыдущем слое с перекрытием, соответствукшшм рассто нию между второй и третьей горизонтал ми .. После этого на пластиках производ т эакращивание уже откопированных участков , не за.щжценных маскирующим слоем. Дл этого используют насыщенный водный раствор красного или черного красителей. Краситель нанос т .вручную с помощью тампона или кисти. При этом подслой, нахо; ийс под маскирующей пленкой, не окращиваетс , а окращиваютс лишь откр лтые участки. Полосы по линии тальвегов и сторонам рамок, если они не совпадают с участками, соответственно, на первой маске - между первой и третьей горизонтал ми, а на второй маске между второй и четвертой горизонтал ми, окрашивать не нужно. После окрашивани вьпиеуказанных участков на первоЦ маске снимают съемный слой между третьей и п той горизонтал ми , а на второй маске - между четвертой и шестой. Следую щие копировани осуществл ют поочередно через первую, а затем через вторую маски. Весь цикл операций повтор етс до тех пор, пока на масках будут сн ты все слои. В результате получают полую ступенчатую модеиь рельефа, у которой соседThe invention relates to the field of cartography and can be used in the manufacture, relief maps of the area. A known method of making relief models of maps in which individual hypsometric faces are obtained by sequentially exposing the layers of a liquid photopolymerisation composition (FPC) through masks and then mounting and gluing them to the substrate t ly.: There is a known method of making vertical staircase models using maps FPIC, the principle of which is to consistently build up the hypsometric steps of the models on each other by copying each subsequent step Previous to, using for this purpose the negative mask repefa 2 horizontal sections. The disadvantage of this method is the uneconomical expenditure of plastic with a thin layer due to the need to produce more masks of gypsum layers (by the number of height steps — about 15–20 pcs), as well as the large expenditure of LCPS, since the model produced is monolith from otverzhdenny photopolymer. In addition, the relief model made on the basis of the proposed FPIC method does not have sufficient hardness and heat resistance for this vacuum molding of relief maps, and therefore requires additional time and material costs for the manufacture of the gypsum matrix. The purpose of the invention is to increase the efficiency of the process by reducing the expenditure of plastic with a removable layer and a liquid photopolymerizable composition, as well as providing the possibility of directly thermally forming the circulation of cards according to the created model without manufacturing a gypsum matrix on it. This goal is achieved by the fact that in the method of making relief models of maps, including sequential growth of layers of photopolymerizing composition cured by exposure to ultraviolet rays through a negative plastic mask with a removable masking layer of the next horizontal section of the terrain relief, a two-sheet plastic mask with a removable mask is used layer and sublayer, while before each exposure on the first sheet of plastic, the next masking layer is removed from the image The odd horizontal horizon, and on the second sheet, even, in addition to exposing the layers, is carried out alternately through the first and second plastic sheets of the mask with protective covering of the copied areas on the sublayer. The drawing shows a device for carrying out the proposed method. The operations of the proposed method are carried out in the following post ovality. On one sheet of plastic with a removable layer, a masking layer is cut through the image of all the odd horizontals, for example, first, third, fifth, etc., on the other - even. In addition, strips of a removable layer 2-2.5 mm wide along the side of the frame, as well as thalwegs, are cut and removed on plastics, while ensuring accurate alignment of the cut strips on both plastics. Making a relief model is made in a special cuvette 1, the bottom of which is a transparent 2G film. To obtain a model, use an HPPP that possesses sufficiently high hardness and heat resistance after photo curing, which is necessary to ensure in the subsequent possibility of indirect thermal vacuum shaping according to the model of relief. maps without a gypsum matrix. For these purposes, an HPPA is used, for example, on the basis of OLA-III or OUA-TM, the hardness of the polymerized layer Secondly, 80-100 ° Shore and heat resistance over -fieo c. The above LCFP 3 is poured into the cuvette 1. On the applied glass 4 with the pins 5, which ensure the exact alignment of the masks during the copying, the first plastic with the removable layer 6 with the cut and udder layer on it is placed between the first and third horizons. The applied glass with the installed make-up is lifted up to the stop with the sides of the cuvette and the transparent film 2 is aligned. Between the transparent film 2, which has anti-adhesive properties to the openable photopolymer, and the base of the model 7, which has adhesion properties, set a gap equal to the selected height of the hypsometric stage, which fills the liquid fpolymerization composition 3. Produced expo. The nosing, as a result of which the photopolymer 8, located above the transparent parts of the mask, is cured. UV light is used as the light source 9. After the first exposure, the base of the model 7 with the first layer 8 fixed on it is raised to the height of the step, in this case the polymerized layer separates from the more transparent film 2 and the photopolymerizable liquid composition flows into the resulting space. After replacing the first plastic sheet with the second, on which the removable layer is cut and removed between the second and fourth horizons, a second exposure is performed. The newly copied layer is firmly fixed on the previous layer with an overlap corresponding to the distance between the second and third horizons .. After that, the plastics have been extracted on already copied areas, not covered by a masking layer. To do this, use a saturated aqueous solution of red or black dyes. The dye is applied manually using a tampon or brush. At the same time, the sublayer was found; The ice under the masking film is not colored, only open areas are colored. The bands along the thalwegs and the sides of the frames, if they do not coincide with the sections, respectively, on the first mask - between the first and third horizons, and on the second mask between the second and fourth horizons, it is not necessary to paint. After staining, the indicated areas on the first mask remove the removable layer between the third and fifth horizons, and on the second mask between the fourth and sixth. The following copies are carried out alternately through the first and then through the second mask. The entire cycle of operations is repeated until all layers are removed from the masks. The result is a hollow step-like mode of relief, in which the neighbor