SU898284A1 - Method of preparing replicas - Google Patents

Method of preparing replicas Download PDF

Info

Publication number
SU898284A1
SU898284A1 SU802880490A SU2880490A SU898284A1 SU 898284 A1 SU898284 A1 SU 898284A1 SU 802880490 A SU802880490 A SU 802880490A SU 2880490 A SU2880490 A SU 2880490A SU 898284 A1 SU898284 A1 SU 898284A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
replicas
preparing
objects
replica
study
Prior art date
Application number
SU802880490A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Игорь Петрович Калинкин
Федор Гаврилович Доника
Феликс Идельевич Кожокарь
Юрий Васильевич Горемыкин
Original Assignee
Сктб Твердотельной Электроники С Опытным Производством Института Прикладной Физики Мсср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Сктб Твердотельной Электроники С Опытным Производством Института Прикладной Физики Мсср filed Critical Сктб Твердотельной Электроники С Опытным Производством Института Прикладной Физики Мсср
Priority to SU802880490A priority Critical patent/SU898284A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU898284A1 publication Critical patent/SU898284A1/en

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Sampling And Sample Adjustment (AREA)

Description

(54) СПОСОБ ПРИГОТОВЛЕНИЯ РЕПЛИК(54) METHOD OF PREPARING REPLIKS

1one

Изобретение относитс  к технологии приготовлени  объектов дл  электронно-микроскопических исследований.The invention relates to the technology of preparing objects for electron microscopic studies.

Известны способы приготовлени  объектов дл  электронно-микроскопических исследований в виде обычных реплик 1.Known methods for preparing objects for electron microscopic studies in the form of ordinary replicas 1.

Однако данные способы не позвол ют при исследовании объектов вы вить определенное направление на электронно-микроскопическом изображении. Така  задача возникает, например, при исследовании объектов с морфологическими поверхностными неоднородност ми в определенных направлени х размером менее 2-3 мм, пленках полупроводников и металлов переменной толщины, вы влении микронеоднородностей полупроводниковых кристаллов и т.п.However, these methods do not allow the detection of objects in a certain direction in an electron microscopic image. Such a problem arises, for example, in the study of objects with morphological surface inhomogeneities in certain directions smaller than 2-3 mm, films of semiconductors and metals of variable thickness, the detection of micro-inhomogeneities of semiconductor crystals, etc.

Наиболее близким к предлагаемому  вл етс  способ приготовлени  самооттененных углеродных реплик, заключающийс  в том, что при приготовлении, реплик плоскость объекта располагают под .углом к направлению распространени  материала реплики (углерода) в специальном вакуумном устройстве 2 Однако при дальнейших операци х с репликой происходит неконтролируемыйThe closest to the present invention is a method for preparing self-shaded carbon replicas, which means that during preparation, the object's replica is positioned at an angle to the direction of propagation of the replica material (carbon) in a special vacuum device 2 However, further replica operations take place uncontrollably

поворот реплики, что делает невозможным соотнесение заданного направлени  на объекте и его электронномикроскопическом изображении.rotation of the replica, which makes it impossible to correlate a given direction on the object and its electron microscopic image.

Цель изобретени  - повышение информативности исследовани  за счет получени  ориентированных относительно объекта реплик.The purpose of the invention is to increase the information content of the study by obtaining replicas oriented relative to the object.

Указанна  цель достигаетс  тем, This goal is achieved by

10 что согласно способу приготовлени  реплик путем вакуумного распылени  материала реплики на плоскую поверхность объекта, расположенную под углом к направлению распылени , на поверхность объекта нанос т линейную метку, а распыление материала реплики производ т в направлении, проекци  которого на плоскость объекта параллельна указанной метке.10 that according to the method of preparing replicas by vacuum spraying of the replica material on the flat surface of the object at an angle to the direction of spraying, a linear mark is applied to the surface of the object, and spraying of the replica material is performed in a direction that is projected onto the object plane parallel to the specified mark.

20 Направление теней на реплике, по .лученной таким способом, указывает зафиксированное линейной меткой направление .20 The direction of the shadows on the cue, according to the method thus generated, indicates the direction fixed by the linear mark.

Например., дл  иссл.едовани  объектов, представл ющих собой пленки теллурида цинка переменной толщины (0,002-1 мкм) на германиевых пластинах размером 2-3 мм, на их поверхность наноситс  самооттененна  углеродна  реплика (под углом оттенени For example, to investigate objects that are zinc telluride films of variable thickness (0.002-1 µm) on germanium plates of 2-3 mm in size, a self-shaded carbon replica is applied to their surface (at an angle of

45°) с помощью данного способа. Линейную метку нанос т в направлении наибольшего изменени  толщины пленок.45 °) using this method. A linear mark is applied in the direction of the greatest change in film thickness.

Использование предлагаемого способа позвол ет изучить процессы формировани  полупроводниковых гетероструктур теллурид цинка - германий, изменение морфологических характерис ,тик пленок в зависимости от их толщины , зародышеобразование, рост и коалесценцию кристаллических частиц теллурида цинка при ранних стади х роста и при автоэпитаксиальном росте.Using the proposed method allows one to study the formation of semiconductor heterostructures of zinc telluride - germanium, changes in morphological characteristics, tick of films depending on their thickness, nucleation, growth and coalescence of crystalline particles of zinc telluride at early stages of growth and during autoepitaxial growth.

Способ может быть использован при ориентировании реплик и других объектов дл  электронной микроскопии путем их оттенени , например биологических , кристаллических и др. С его помощью можно исследовать объекты по морфологическим неоднородност м на участках поверхности размером менее 2-3 мм, и тем самым повысить информативность измерений.The method can be used in orienting replicas and other objects for electron microscopy by shading them, for example, biological, crystalline, etc. It can be used to study objects by morphological heterogeneity on surface areas less than 2-3 mm in size, and thereby increase the information content of measurements .

Claims (2)

1.Авторское свидетельство СССР № 325537, кл. G 01 N 1/28, 1970.1. USSR author's certificate number 325537, cl. G 01 N 1/28, 1970. 2.Шиммель Г. Методика электронной 4икpocкoпии. М., Мир, 1972, с. 117 (прототип).2. Shimmel G. Methods of electronic 4-copy. M., Mir, 1972, p. 117 (prototype).
SU802880490A 1980-02-08 1980-02-08 Method of preparing replicas SU898284A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802880490A SU898284A1 (en) 1980-02-08 1980-02-08 Method of preparing replicas

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU802880490A SU898284A1 (en) 1980-02-08 1980-02-08 Method of preparing replicas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU898284A1 true SU898284A1 (en) 1982-01-15

Family

ID=20876829

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU802880490A SU898284A1 (en) 1980-02-08 1980-02-08 Method of preparing replicas

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU898284A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114225839A (en) * 2022-01-06 2022-03-25 南京工业大学 Method for preparing specific corner two-dimensional heterojunction material

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN114225839A (en) * 2022-01-06 2022-03-25 南京工业大学 Method for preparing specific corner two-dimensional heterojunction material

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Jacobs et al. The formation of imperfections in epitaxial gold films
Booker et al. A study of nucleation in chemically grown epitaxial silicon films using molecular beam techniques: II. initial growth behaviour on clean and carbon-contaminated silicon substrates
Vogel Jr Dislocations in low-angle boundaries in germanium
Cherns et al. Electron microscope studies of the structure and propagation of the Pd2Si/(111) Si interface
Schwuttke Direct observation of imperfections in semiconductor crystals by anomalous transmission of X rays
JPS63502542A (en) Controlling the uniformity of growing alloy thin films
Prakash et al. X-ray diffraction study of the in-plane structure of an organic multilayer (“langmuir—blodgett”) film
Métois et al. SEM studies of equilibrium forms: Roughening transition and surface melting of indium and lead crystals
SU898284A1 (en) Method of preparing replicas
Phillips et al. Epitaxial growth of alkaline earth fluorides on semiconductors
Kämpf et al. Long-range order of supramolecular structures in amorphous butadiene-styrene block copolymers
JPS6093335A (en) Apparatus for detecting and measuring crystal particle size distribution of polycrystalline body
Bis et al. Thick Epitaxial Films of Pb 1− x Sn x Te
Hesse et al. The growth behaviour of epitaxial NiSi2 islands of A‐and B‐types during the reaction of nickel vapour with the Si (111) surface
Meieran Reflection X‐Ray Topography of GaAs Deposited on Ge
Schröter et al. X-ray photoelectron diffraction on SiC and AlN epitaxial films: polytype structure and polarity
Chen et al. Studies of the Distribution of Elementary Threading Screw Dislocations in 4 H Silicon Carbide Wafer
Falco et al. Metal-metal superlattices
Bauer EPITAXY STUDIES WITH SURFACE ANALYSIS METHODS (< Special Issue> Fundamentals of Vapour Growth and Epitaxy: Lecture Notes of the ICVGE-4 Specialists' School)
Lambert X‐ray examination of epitaxial PbSnTe and PbTe
Armstrong et al. X-ray diffraction microscopy
Zeyfang X-ray diffraction study of imperfections in epitaxial silicon on sapphire
Authier Characterization of extended growth defects
Cheng et al. Analysis of Dislocations in PVT-Grown 6H-SiC through Grazing-Incidence X-Ray Topographic Images and Ray-Tracing Simulation
SU1330524A1 (en) Method of determining enantiomorphous crystals