Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Физики Полупроводников Со Ан СссрfiledCriticalИнститут Физики Полупроводников Со Ан Ссср
Priority to SU2597124/26ApriorityCriticalpatent/SU824694A1/ru
Application grantedgrantedCritical
Publication of SU824694A1publicationCriticalpatent/SU824694A1/ru
Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed
(AREA)
Abstract
Устройство для жидкостной эпитаксии, включающее камеру для расплава и источника его подпитки, подложкодержатель, установленный на вертикальном валу, и нагреватель, отличающееся тем, что, с целью получения толстых слоев с высокой однородностью свойств и увеличения скорости процесса, подложкодержатель выполнен в виде стакана с плоским дном, внутри которого установлена камера с возможностью осевого перемещения, имеющая в дне щель со скосом в одном направлении и выступы с наружной стороны, обеспечивающие зазор между дном и подложкой.
SU2597124/26A1978-03-281978-03-28Устройство для жидкостной эпитаксии
SU824694A1
(ru)