(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЭКСПОНИРОВАНИЯ К ЭЛЕКТРОФОТОГРАФИЧЕСКОМУ АППАРАТУ(54) DEVICE FOR EXPOSITION TO THE ELECTROPHOTOGRAPHIC DEVICE
никовый материал 8, вследствие чего потенциал поверхности засвеченных участков уменьшаетс . Потенциал поверхности фотополупроводникового масериала 8 измер етс с помощью электрометра 7. в случа х, когда параметры фотополупроводникового материала и оригиналов в процессе получени копий измен ютс в очень широких пределах, электрометр 1 выполн етс дифференциальным, причем датчик электрометра помещаетс вблизи зар женной непроэкспонированной поверхности фотополупроводникового материала 8,а датчик 9 - вблизи проэкспонированной поверхности фотополупроводникового материала а в месте, где проецируетс поле оригинала, не несущее информации, На выходе электрометра 7 формируетс электрический сигнал, пропорциональный потенциалу проэкспонированного участка фотополупроводникового материала 8, либо, в случае применени дифференциального электрометра, разности потенциалов непроэкспонированного и проэкспонированного участков поверхности фотополупроводникового материала. Формирование выходного электрического сигнала электрометра 7 происходит в процессе перемещени датчиков электрометра, кинематически св занных с приводом осветител 4. С выхода электрометра 7 сигнал поступает на схему 6 сравнени ,на второй вход которой поступает сигнал установки уровн остаточного после экспонировани потенциала, либо разности начального (до экспонировани ) и остаточного потенциалов поверхности фотополупроводникового материала 8, устанавливаемых оператором при настройке аппарата. С выхода схемы б сравнени разностный сигнал поступает на вход регул тора 5 скорости перемещени осветител , формирующего сигнал управлени приводом осветител . При отклонении остаточного потенциала от заданной величины на выходе схемы 6 сравнени формируетс сигнал согласовани , воздействующий на регул тор скорости таким образом чтобы это отклонение было устранено.nick material 8, as a result of which the potential of the surface of the exposed areas decreases. The surface potential of the photosemiconductor massial 8 is measured by an electrometer 7. In cases where the parameters of the photosemiconductor material and the originals during the copying process vary over very wide limits, the electrometer 1 is differential and the electrometer sensor is placed near the charged non-exposed surface of the photoconductive material 8, and the sensor 9 is near the exposed surface of the photo-semiconductor material, and in the place where the original field is projected, carrying information, An electrical signal is generated at the output of the electrometer 7 proportional to the potential of the exposed portion of the photoconductor material 8, or, in the case of using a differential electrometer, the potential difference between the exposed and exposed portions of the surface of the photoconducting material. The output of the electric signal of the electrometer 7 occurs during the movement of the electrometer sensors, kinematically connected with the illuminator drive 4. From the output of the electrometer 7, the signal goes to the comparison circuit 6, to the second input of which the signal sets the residual potential level after exposure, or the initial difference (to exposure) and residual potentials of the surface of the photo-semiconductor material 8, set by the operator when setting up the device. From the output of the comparison circuit b, the difference signal is fed to the input of the regulator 5 of the speed of movement of the illuminator, which forms the signal for controlling the actuator of the illuminator. When the residual potential deviates from a predetermined value, a matching signal is generated at the output of the comparison circuit 6, acting on the speed controller so that this deviation is eliminated.