SU795163A1 - Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел - Google Patents
Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел Download PDFInfo
- Publication number
- SU795163A1 SU795163A1 SU792820740A SU2820740A SU795163A1 SU 795163 A1 SU795163 A1 SU 795163A1 SU 792820740 A SU792820740 A SU 792820740A SU 2820740 A SU2820740 A SU 2820740A SU 795163 A1 SU795163 A1 SU 795163A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- energy
- secondary electrons
- test substance
- density
- solids
- Prior art date
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
гетическим пучком электронов с энергией, не превышающей 100 эВ, и регистрируют энергетический спектр вторичных электронов с энерги ми в диапазоне до 30 эВ, производ т нанесение на поверхность исследуемого вещества субмонослойных количеств электроноположительного вещества, по крайней мере дл одной толщины нанесенного сло измер ют снижение контактной разности потенциалов и регистрируют энергетические спектрывторичных электронов дл нескольких энергий первичного пучка, по сравнению структур которых с исходной суд т о плотности электронных состо ний в зоне проводимости исследуемого вещества.
При этом, регистрацию энергетических спектров вторичных электронов производ т при приемном угле коллектора, к л.
Способ реализуют следующим образом.
В отличие от известного способа, включающего измерение распределени ио энерги м вторичных электронов в ззком телесном угле при энергии электронов первичного пучка , 100 эВ, в данном способе ведут регистрацию распределени вторичных электронов по энерги м при приемном угле коллектора около л в интервале от О до Е при Ер эВ или только его части от О до 30 эВ при эВ, а также измер ют контактную разность потенциалов Кк.р.п. между мищенью из исследуемого вещества и катодом электронной пушки сначала дл чистого вещества образца, затем после осаждени на его поверхность субмонослойных покрытий электроположительного материала, снижающего граничный потенциальный барьер, но практически не участвующего в процессах рассеивани и возбуждени электронов, например, цези в количестве менее 0,2 моносло .
О начале вклада адсорбированного материала в неупругое рассе ние суд т по изменению спектра характеристических потерь энергии, при этом определ ют снижение граничного барьера по изменению VK.P.R Энергетические расгГределени вторичных электронов сравнивают при р - const до и после адсорбции электроположительного материала, а также дл нескольких Ер после адсорбции. Непосредственно по структуре в начальной части распределений суд т об энергетическом положении особенностей обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел преимущественно вблизи и ниже уровн вакуума без математической обработки экспериментальных кривых.
Использование начального участка распределени по энерги м вторичных элек ,тронов, на который приходитс более 50% от общего количества вторичных электронов , при приемном угле коллектора около ,
т. е. при сборе вторичных электронов, вышедщих в разных направлени х, обеспечивает высокую чувствительность, упрощение вакуумного прибора, измерительной схемы, позвол ет уменьщить плотность тока в первичном пучке. Облучение электронами малых энергий при низкой плотности тока в пучке ;10- А/см2 не вызывает изменени состо ни поверхности в процессе исследовани . Анализ упрощаетс благодар тому, что в начальной части распределени при Ер.-Ь 100 эВ после снижени граничного потенциального барьера по вл етс отчетливо выраженна структура, создаваема
многократно рассе нными вторичными электронами , котора непосредственно отражает особенности обобщенной плотности свободных состо ний в зоне проводимости вблизи и ниже уровн вакуума.
По сравнению с известным способом снижаютс требовани к монохроматичности первичного пучка - допускаетс разброс по энерги м -0,6 эВ. При измерении не требуетс мен ть азимутальный и пол рный
углы. Все это упрощает исследование, повышает чувствительность и точность. Пример реализации. Экспериментальна проверка осуществл лась в установке, построенной с использеванием общеизвестных принципов и методик . Распределени вторичных электронов по энерги м записывались с применением анализатора П. И. Лукирского с отношением диаметров сферического коллектора и
плоской мищени 10:1, метода электрического дифференцировани кривых задержки вторичных электронов и синхронного детектировани . Контактна разность потенциалов между исследуемым образцом и катодом пушки измер лась методом электронного зонда. Давление остаточных газов в приборе при измерени х составл ло 1ч-5 10 тор. Объектом исследовани служил монокристалл кремни с гранью (100). Р1змерени выполн лись в следующей последовательности . Сначала дл чистого кремни определили контактную разность потенциалов V°K.p.n образец - катод пушки и записали энергетические распределени вторичних электронов при эВ. Затем эти же операции привели после осаждени на кремний субмонослойных количеств цези .
На фиг. 1 приведены энергетические
распределени вторичных электронов Л f(Es) дл VP - 6В и разных субмонослойных количеств цези соответственно: О - чистый Si; 1 - Si -f 0,6 м. с. Cs, VK р.п 1,8 В; 2 -Si -f 0,13 м. с. Cs. l/к. 2,5В;
3 - Si -f- 0,2 м. с. Cs, V 2,9 В. В верхней части фигуры 1 крива 4 изображает распределение обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости кремни , подтвержденное расчетами и экспеоиментами. Энеоги пепвичных
электронов Е.,, отсчитываема относительно уровн вакуума, складываетс из внешней VP и контактной Ук.рп. мелсду образцом и катодом пушки разностей потенциалов. Снижение граничного потенциального барьера после осаждени цези равно изменению контактной разности потенциалов ДРк.р.п VK.P.H-Т°к.р.п, где F°K.p.,,и Ук.р.п соответственно контактные разности между образцом и катодом пушки до и после осаждени цези . Нуль на горизонтальных ос х соответствует уровню вакуума дл чистого кремни .
Сопоставление кривых на фиг. 1 подтверждает , что по структуре в начальной части распределени вторичных электронов по энерги м, по вл ющейс после снижени граничного потенциального барьера, можно судить об энергетическом положении особенностей обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости вблизи и ниже уровн вакуума. Добавочное снижение граничного барьера, как и следовало ожидать при наличии такого соответстви , не сдвигает уже имеющиес особенности в распределении вторичных электронов, а добавл ет новые в св зи с по влением возможности выхода в вакуум дл электронов из состо ний, более удаленных от уровн вакуума чистого кремни .
На фиг. 2 приведены распределени по энерги м вторичных электронов (полные распределени дл 4; 8,2 и 10 В и начальные участки дл Ур 50, 100 и 150 В) дл разных энергий первичных электронов р е(УрН-Кк.р.п) от 4,9 эВ до 152,9 эВ после адсорбции на кремнии цези в количестве , соответствующем 0,2 моносло , и снижении барьера на 2,8 эВ. Изменение энергии первичных электронов в этом диапазоне не мен ет энергетическое положение структуры в начальной части распределений , что служит еще одним аргументом в пользу отмеченного соответстви . Однако, как видно из фиг. 2, при В структура в распределении сглаживани , при не видна структура вблизи уровн вакуума чистого образца. Поэтому энергию первичного пучка рекомендуетс выбирать в интервале от 5 эВ до 100 эВ.
Данный способ определени энергетического положени особенностей обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел вблизи и ниже уровн вакуума вл етс простым , надежным и дешевым. Его использование не требует применени специальной дорогосто щей аппаратуры (энергоаиализаторов с высоким угловым и энергетическим разрешением и радиоаппаратуры высокого
класса), т. е. нетрудно организовать его широкое применение. Это позвол ет быстро получить отсутствующую информацию и составить каталог «Особенности обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости вблизи и ниже уровн вакуума не только дл простых веществ , но также и дл соединений, создаваемых на предпри ти х цветной и черной металлургии и используемых на предпри ти х МЭП и других министерств. Наличие такого каталога будет способствовать рациональному выбору материалов в каждом конкретном случае и повышению качества, в первую очередь многих электронных приборов , в особенности использующих гетеропереходы , а также других изделий микроэлектроники .
Claims (3)
1.Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел, заключающийс в том, что исследуемое вещество облучают моноэнергетическим пучком электронов с энергией, не превыщающей 100 эВ, и регистрируют энергетический спектр вторичных электронов с энерги ми в диапазоне до 30 эВ, отличающийс тем, что, с целью повыщени чувствительности и упрощени средств реализации способа, производ т нанесение на поверхность исследуемого вещества субмонослойных количеств электроположительного вещества, по крайней мере дл одной толщины нанесенного сло измер ют снижение контактной разности потенциалов и регистрируют энергетические спектры вторичных электронов дл нескольких энергий первичного пучка, по сравнению структур которых с исходной суд т о плотности электронных состо ний в зоне проводимости исследуемого вещества.
2.Способ по п. 1, отличающийс тем, что регистрацию энергетических спектров вторичных электронов производ т при приемном угле коллектора, близком к .
Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе:
1.Dose V, Scheidt Н, Deconvolution of appearence potential spectra «Appl. Phys. 1979, 19, № 1, 19-23.
2.Выложенна за вка ФРГ № 2546053, кл. G 01 N 23/225, опублик. 1976.
3.R. F. Willis, N. E. Christensen. Secondary - electron - emission spectroscopy of tinip sten: Angular dependance and phemenology , Phys. Rev. В., 1978, 18, № 10, 5140-1561 (прототип).
f.,1 )
р (.р.п ofp-na
.,
i/goSeHb . S
S,
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792820740A SU795163A1 (ru) | 1979-09-21 | 1979-09-21 | Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU792820740A SU795163A1 (ru) | 1979-09-21 | 1979-09-21 | Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU795163A1 true SU795163A1 (ru) | 1982-01-07 |
Family
ID=20851055
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU792820740A SU795163A1 (ru) | 1979-09-21 | 1979-09-21 | Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU795163A1 (ru) |
-
1979
- 1979-09-21 SU SU792820740A patent/SU795163A1/ru active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Wagner | Sensitivity of detection of the elements by photoelectron spectrometry | |
Weber et al. | Use of LEED apparatus for the detection and identification of surface contaminants | |
DE2727505A1 (de) | Roentgenfluoreszenzanalyse zur untersuchung oberflaechennaher schichten | |
Statham | X‐ray microanalysis with Si (Li) detectors | |
Paszti et al. | Hydrogen and deuterium measurements by elastic recoil detection using alpha particles | |
Solomon et al. | New method for sulphur concentration measurements in coal and char | |
Evans Jr | Ion probe mass spectrometry: Overview | |
SU795163A1 (ru) | Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел | |
Rhead et al. | Quantitative auger electron spectroscopy of metal monolayers on metals: Evidence for adsorbate/substrate interface effects | |
Massopust et al. | Quantitative studies of cleaved and sputtered CuInSe2 surfaces | |
Janghorbani et al. | Elemental sensitivities of metals in x-ray photoelectron spectroscopy | |
Sawicki et al. | Analysis of near-surface tritium in materials by elastic recoil detection under MeV energy helium bombardment | |
Watamori et al. | Methodology for Accurate Oxygen Distribution Analysis and Its Application to YBa2Cu3Ox Thin Films Using 16O (α, α) 16O 3.045 MeV Resonance Reaction | |
Lindgren et al. | Dilution of the electron gas in a Cs monolayer on Cu (111) by adsorption of oxygen | |
Turos et al. | Analysis of surface layers by elastic backscattering | |
Lennard et al. | Measurements of thin oxide films of SiO2/Si (100) | |
Baumgartl et al. | I'he Detectability Limits of Thin Coatings Measured with the Eleetron Mieroprobe | |
JPH063295A (ja) | 表面分析装置 | |
De Roos et al. | Investigation of the solid-state reaction between nickel oxide and alumina by Rutherford backscattering (RBS) | |
Magno et al. | Intensity and line‐shape measurements in inelastic electron tunneling spectroscopy | |
Mezey et al. | A comparison of techniques for depth profiling oxygen in silicon | |
Findlay et al. | Atomic number contrast in high angle annular dark field imaging of crystals | |
Contini et al. | Auger electron spectroscopy study of the interface between bulk aluminum and bulk aluminum oxide | |
Muskalla et al. | A comparison of optical and nuclear methods for the measurement of the thickness of thin metal foils | |
Furtak et al. | Surface exended X-ray absorption fine structure of copper on a platinum electrode |