SU795163A1 - Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел - Google Patents

Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел Download PDF

Info

Publication number
SU795163A1
SU795163A1 SU792820740A SU2820740A SU795163A1 SU 795163 A1 SU795163 A1 SU 795163A1 SU 792820740 A SU792820740 A SU 792820740A SU 2820740 A SU2820740 A SU 2820740A SU 795163 A1 SU795163 A1 SU 795163A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
energy
secondary electrons
test substance
density
solids
Prior art date
Application number
SU792820740A
Other languages
English (en)
Inventor
Н.П. Бажанова
В.В. Кораблев
Н.И. Кочетков
Original Assignee
Ленинградский Ордена Ленина Политехнический Институт Им.М.И.Калинина
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ленинградский Ордена Ленина Политехнический Институт Им.М.И.Калинина filed Critical Ленинградский Ордена Ленина Политехнический Институт Им.М.И.Калинина
Priority to SU792820740A priority Critical patent/SU795163A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU795163A1 publication Critical patent/SU795163A1/ru

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

гетическим пучком электронов с энергией, не превышающей 100 эВ, и регистрируют энергетический спектр вторичных электронов с энерги ми в диапазоне до 30 эВ, производ т нанесение на поверхность исследуемого вещества субмонослойных количеств электроноположительного вещества, по крайней мере дл  одной толщины нанесенного сло  измер ют снижение контактной разности потенциалов и регистрируют энергетические спектрывторичных электронов дл  нескольких энергий первичного пучка, по сравнению структур которых с исходной суд т о плотности электронных состо ний в зоне проводимости исследуемого вещества.
При этом, регистрацию энергетических спектров вторичных электронов производ т при приемном угле коллектора, к л.
Способ реализуют следующим образом.
В отличие от известного способа, включающего измерение распределени  ио энерги м вторичных электронов в ззком телесном угле при энергии электронов первичного пучка , 100 эВ, в данном способе ведут регистрацию распределени  вторичных электронов по энерги м при приемном угле коллектора около л в интервале от О до Е при Ер эВ или только его части от О до 30 эВ при эВ, а также измер ют контактную разность потенциалов Кк.р.п. между мищенью из исследуемого вещества и катодом электронной пушки сначала дл  чистого вещества образца, затем после осаждени  на его поверхность субмонослойных покрытий электроположительного материала, снижающего граничный потенциальный барьер, но практически не участвующего в процессах рассеивани  и возбуждени  электронов, например, цези  в количестве менее 0,2 моносло .
О начале вклада адсорбированного материала в неупругое рассе ние суд т по изменению спектра характеристических потерь энергии, при этом определ ют снижение граничного барьера по изменению VK.P.R Энергетические расгГределени  вторичных электронов сравнивают при р - const до и после адсорбции электроположительного материала, а также дл  нескольких Ер после адсорбции. Непосредственно по структуре в начальной части распределений суд т об энергетическом положении особенностей обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел преимущественно вблизи и ниже уровн  вакуума без математической обработки экспериментальных кривых.
Использование начального участка распределени  по энерги м вторичных элек ,тронов, на который приходитс  более 50% от общего количества вторичных электронов , при приемном угле коллектора около  ,
т. е. при сборе вторичных электронов, вышедщих в разных направлени х, обеспечивает высокую чувствительность, упрощение вакуумного прибора, измерительной схемы, позвол ет уменьщить плотность тока в первичном пучке. Облучение электронами малых энергий при низкой плотности тока в пучке ;10- А/см2 не вызывает изменени  состо ни  поверхности в процессе исследовани . Анализ упрощаетс  благодар  тому, что в начальной части распределени  при Ер.-Ь 100 эВ после снижени  граничного потенциального барьера по вл етс  отчетливо выраженна  структура, создаваема 
многократно рассе нными вторичными электронами , котора  непосредственно отражает особенности обобщенной плотности свободных состо ний в зоне проводимости вблизи и ниже уровн  вакуума.
По сравнению с известным способом снижаютс  требовани  к монохроматичности первичного пучка - допускаетс  разброс по энерги м -0,6 эВ. При измерении не требуетс  мен ть азимутальный и пол рный
углы. Все это упрощает исследование, повышает чувствительность и точность. Пример реализации. Экспериментальна  проверка осуществл лась в установке, построенной с использеванием общеизвестных принципов и методик . Распределени  вторичных электронов по энерги м записывались с применением анализатора П. И. Лукирского с отношением диаметров сферического коллектора и
плоской мищени 10:1, метода электрического дифференцировани  кривых задержки вторичных электронов и синхронного детектировани . Контактна  разность потенциалов между исследуемым образцом и катодом пушки измер лась методом электронного зонда. Давление остаточных газов в приборе при измерени х составл ло 1ч-5 10 тор. Объектом исследовани  служил монокристалл кремни  с гранью (100). Р1змерени  выполн лись в следующей последовательности . Сначала дл  чистого кремни  определили контактную разность потенциалов V°K.p.n образец - катод пушки и записали энергетические распределени  вторичних электронов при эВ. Затем эти же операции привели после осаждени  на кремний субмонослойных количеств цези .
На фиг. 1 приведены энергетические
распределени  вторичных электронов Л f(Es) дл  VP - 6В и разных субмонослойных количеств цези  соответственно: О - чистый Si; 1 - Si -f 0,6 м. с. Cs, VK р.п 1,8 В; 2 -Si -f 0,13 м. с. Cs. l/к. 2,5В;
3 - Si -f- 0,2 м. с. Cs, V 2,9 В. В верхней части фигуры 1 крива  4 изображает распределение обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости кремни , подтвержденное расчетами и экспеоиментами. Энеоги  пепвичных
электронов Е.,, отсчитываема  относительно уровн  вакуума, складываетс  из внешней VP и контактной Ук.рп. мелсду образцом и катодом пушки разностей потенциалов. Снижение граничного потенциального барьера после осаждени  цези  равно изменению контактной разности потенциалов ДРк.р.п VK.P.H-Т°к.р.п, где F°K.p.,,и Ук.р.п соответственно контактные разности между образцом и катодом пушки до и после осаждени  цези . Нуль на горизонтальных ос х соответствует уровню вакуума дл  чистого кремни .
Сопоставление кривых на фиг. 1 подтверждает , что по структуре в начальной части распределени  вторичных электронов по энерги м, по вл ющейс  после снижени  граничного потенциального барьера, можно судить об энергетическом положении особенностей обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости вблизи и ниже уровн  вакуума. Добавочное снижение граничного барьера, как и следовало ожидать при наличии такого соответстви , не сдвигает уже имеющиес  особенности в распределении вторичных электронов, а добавл ет новые в св зи с по влением возможности выхода в вакуум дл  электронов из состо ний, более удаленных от уровн  вакуума чистого кремни .
На фиг. 2 приведены распределени  по энерги м вторичных электронов (полные распределени  дл  4; 8,2 и 10 В и начальные участки дл  Ур 50, 100 и 150 В) дл  разных энергий первичных электронов р е(УрН-Кк.р.п) от 4,9 эВ до 152,9 эВ после адсорбции на кремнии цези  в количестве , соответствующем 0,2 моносло , и снижении барьера на 2,8 эВ. Изменение энергии первичных электронов в этом диапазоне не мен ет энергетическое положение структуры в начальной части распределений , что служит еще одним аргументом в пользу отмеченного соответстви . Однако, как видно из фиг. 2, при В структура в распределении сглаживани , при не видна структура вблизи уровн  вакуума чистого образца. Поэтому энергию первичного пучка рекомендуетс  выбирать в интервале от 5 эВ до 100 эВ.
Данный способ определени  энергетического положени  особенностей обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел вблизи и ниже уровн  вакуума  вл етс  простым , надежным и дешевым. Его использование не требует применени  специальной дорогосто щей аппаратуры (энергоаиализаторов с высоким угловым и энергетическим разрешением и радиоаппаратуры высокого
класса), т. е. нетрудно организовать его широкое применение. Это позвол ет быстро получить отсутствующую информацию и составить каталог «Особенности обобщенной плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости вблизи и ниже уровн  вакуума не только дл  простых веществ , но также и дл  соединений, создаваемых на предпри ти х цветной и черной металлургии и используемых на предпри ти х МЭП и других министерств. Наличие такого каталога будет способствовать рациональному выбору материалов в каждом конкретном случае и повышению качества, в первую очередь многих электронных приборов , в особенности использующих гетеропереходы , а также других изделий микроэлектроники .

Claims (3)

1.Способ изучени  плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел, заключающийс  в том, что исследуемое вещество облучают моноэнергетическим пучком электронов с энергией, не превыщающей 100 эВ, и регистрируют энергетический спектр вторичных электронов с энерги ми в диапазоне до 30 эВ, отличающийс  тем, что, с целью повыщени  чувствительности и упрощени  средств реализации способа, производ т нанесение на поверхность исследуемого вещества субмонослойных количеств электроположительного вещества, по крайней мере дл  одной толщины нанесенного сло  измер ют снижение контактной разности потенциалов и регистрируют энергетические спектры вторичных электронов дл  нескольких энергий первичного пучка, по сравнению структур которых с исходной суд т о плотности электронных состо ний в зоне проводимости исследуемого вещества.
2.Способ по п. 1, отличающийс  тем, что регистрацию энергетических спектров вторичных электронов производ т при приемном угле коллектора, близком к  .
Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе:
1.Dose V, Scheidt Н, Deconvolution of appearence potential spectra «Appl. Phys. 1979, 19, № 1, 19-23.
2.Выложенна  за вка ФРГ № 2546053, кл. G 01 N 23/225, опублик. 1976.
3.R. F. Willis, N. E. Christensen. Secondary - electron - emission spectroscopy of tinip sten: Angular dependance and phemenology , Phys. Rev. В., 1978, 18, № 10, 5140-1561 (прототип).
f.,1 )
р (.р.п ofp-na
.,
i/goSeHb . S
S,
SU792820740A 1979-09-21 1979-09-21 Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел SU795163A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792820740A SU795163A1 (ru) 1979-09-21 1979-09-21 Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU792820740A SU795163A1 (ru) 1979-09-21 1979-09-21 Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU795163A1 true SU795163A1 (ru) 1982-01-07

Family

ID=20851055

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU792820740A SU795163A1 (ru) 1979-09-21 1979-09-21 Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU795163A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Wagner Sensitivity of detection of the elements by photoelectron spectrometry
Weber et al. Use of LEED apparatus for the detection and identification of surface contaminants
DE2727505A1 (de) Roentgenfluoreszenzanalyse zur untersuchung oberflaechennaher schichten
Statham X‐ray microanalysis with Si (Li) detectors
Paszti et al. Hydrogen and deuterium measurements by elastic recoil detection using alpha particles
Solomon et al. New method for sulphur concentration measurements in coal and char
Evans Jr Ion probe mass spectrometry: Overview
SU795163A1 (ru) Способ изучени плотности свободных электронных состо ний в зоне проводимости твердых тел
Rhead et al. Quantitative auger electron spectroscopy of metal monolayers on metals: Evidence for adsorbate/substrate interface effects
Massopust et al. Quantitative studies of cleaved and sputtered CuInSe2 surfaces
Janghorbani et al. Elemental sensitivities of metals in x-ray photoelectron spectroscopy
Sawicki et al. Analysis of near-surface tritium in materials by elastic recoil detection under MeV energy helium bombardment
Watamori et al. Methodology for Accurate Oxygen Distribution Analysis and Its Application to YBa2Cu3Ox Thin Films Using 16O (α, α) 16O 3.045 MeV Resonance Reaction
Lindgren et al. Dilution of the electron gas in a Cs monolayer on Cu (111) by adsorption of oxygen
Turos et al. Analysis of surface layers by elastic backscattering
Lennard et al. Measurements of thin oxide films of SiO2/Si (100)
Baumgartl et al. I'he Detectability Limits of Thin Coatings Measured with the Eleetron Mieroprobe
JPH063295A (ja) 表面分析装置
De Roos et al. Investigation of the solid-state reaction between nickel oxide and alumina by Rutherford backscattering (RBS)
Magno et al. Intensity and line‐shape measurements in inelastic electron tunneling spectroscopy
Mezey et al. A comparison of techniques for depth profiling oxygen in silicon
Findlay et al. Atomic number contrast in high angle annular dark field imaging of crystals
Contini et al. Auger electron spectroscopy study of the interface between bulk aluminum and bulk aluminum oxide
Muskalla et al. A comparison of optical and nuclear methods for the measurement of the thickness of thin metal foils
Furtak et al. Surface exended X-ray absorption fine structure of copper on a platinum electrode