SU775802A1 - Pulsed gas laser - Google Patents

Pulsed gas laser Download PDF

Info

Publication number
SU775802A1
SU775802A1 SU782696519A SU2696519A SU775802A1 SU 775802 A1 SU775802 A1 SU 775802A1 SU 782696519 A SU782696519 A SU 782696519A SU 2696519 A SU2696519 A SU 2696519A SU 775802 A1 SU775802 A1 SU 775802A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
chamber
anode
cathode
laser
gas laser
Prior art date
Application number
SU782696519A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Алексей Николаевич Малов
Original Assignee
Институт Теоретической И Прикладной Механики Со Ан Ссср
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Институт Теоретической И Прикладной Механики Со Ан Ссср filed Critical Институт Теоретической И Прикладной Механики Со Ан Ссср
Priority to SU782696519A priority Critical patent/SU775802A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU775802A1 publication Critical patent/SU775802A1/en

Links

Landscapes

  • Lasers (AREA)

Description

1one

Изобретение относитс  к области квантовой электроники и может использоватьс  при создании импульсных лг. газовых лазеров с поперечным возбуждением и давлением рабочего газа 5 пор дка 1 атм, включа  проточные лазерыо Такими лазерами  вл ютс  широко распространенные в насто щее врем  импульсные СО -, СО-, N -лазеры , лазеры на галогенидах благородных 10 газов и некоторые другие.The invention relates to the field of quantum electronics and can be used to create pulsed lg. transverse-excitation gas lasers with a working gas pressure of 5 of the order of 1 atm, including flow lasers These lasers are currently widespread pulsed CO, CO, N lasers, 10 noble halide lasers, and some others.

Известен импульсный лазер l с высокой мощностью излучени . В этом лазере дл  получени  высокой мощности накачки, требуемой дл  полу- чени  высокой мощности излучени , конструкци  камеры и токопроводов к электродам выполнена таким образом, что обеспечиваетс  мгша  величина индуктивности токопроводов от подво- 20 д щей линии с малым волновым сопротивлением к электродам. Такое расположение токопроводов приводит к уменьшению рабочего объема камеры с активным газом, что ограничивает 25 дальнейшее увеличение мощности излучени .A pulsed laser with high output power is known. In this laser, in order to obtain a high pump power required to obtain a high radiation power, the design of the chamber and the conductors to the electrodes are designed in such a way that the inductance of the conductors from the driving line with a low impedance to the electrodes is provided. Such an arrangement of the conductors leads to a decrease in the working volume of the chamber with active gas, which limits 25 further increase in the radiation power.

Известен лазер f2j с большим объемом активной среды, обеспечивающий получение больших мощностей излу- 30The f2j laser with a large volume of active medium is known, which ensures the production of high powers

чени . Этот лазер имеет камеру с рабочим газом, основными электродами: катодом и анодом и вспомогательными устройствами дл  предионизации рабочего газа, источник питани , обеспечивающий получение напр жени  двух пол рностей, токоподводы от источника питани  и резонатор. Основные электроды - катод и анод - расположены один напротив другого. При таком расположении электродов индуктивность токопроводов от источника питани  к . электродам не может быть меньше некоторой величины. Это приводит к уменьшению мощности накачки и в конечном итоге мощности излучени  лазера. Кроме того, такое расположение электродов требует установки высоковольтных изолирующих и защитных деталей с разных сторон камеры, что приводит к увеличению габаритов лазера.cheni. This laser has a chamber with a working gas, main electrodes: a cathode and anode and auxiliary devices for the pre-ionization of the working gas, a power source providing the voltage of two polarities, current leads from the power source and a resonator. The main electrodes - the cathode and the anode - are located opposite each other. With this arrangement of electrodes, the inductance of conductors from the power source to. electrodes can not be less than a certain value. This leads to a decrease in the pump power and ultimately the laser power. In addition, this arrangement of electrodes requires the installation of high-voltage insulating and protective parts from different sides of the chamber, which leads to an increase in the size of the laser.

Целью изобретени   вл етс  увеличение мощности лазера и уменьшение его габаритов.The aim of the invention is to increase the laser power and reduce its size.

Эта цель достигаетс  тем, что катод и анод расположены вдоль одной стенки камеры, между ними по всей длине установлен изол тор, выступающий над их рабочикш поверхност ми, а вдоль противоположной стенки камерыThis goal is achieved by the fact that the cathode and the anode are located along one wall of the chamber, between them along the entire length there is an insulator protruding above their working surfaces, and along the opposite wall of the chamber

Claims (1)

Формула изобретения Импульсный газовый лазер, содержащий камеру с катодом и анодом, отличающийся тем, что, с целью увеличения мощности лазера о и уменьшения его габаритов, катод и анод расположены вдоль одной стенки камеры, между ними по всей длине установлен, изолятор, выступающий над их рабочими поверхностями, а вдоль противоположной стенки камеры над катодом и анодом установлена плоская проводящая пластина или сетка.SUMMARY OF THE INVENTION A pulsed gas laser comprising a chamber with a cathode and anode, characterized in that, in order to increase the laser power o and reduce its dimensions, the cathode and anode are located along one wall of the chamber, an insulator protruding above them is installed between them along the entire length working surfaces, and along the opposite wall of the chamber above the cathode and anode a flat conductive plate or grid is installed.
SU782696519A 1978-11-22 1978-11-22 Pulsed gas laser SU775802A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782696519A SU775802A1 (en) 1978-11-22 1978-11-22 Pulsed gas laser

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782696519A SU775802A1 (en) 1978-11-22 1978-11-22 Pulsed gas laser

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU775802A1 true SU775802A1 (en) 1980-10-30

Family

ID=20798489

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782696519A SU775802A1 (en) 1978-11-22 1978-11-22 Pulsed gas laser

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU775802A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4380079A (en) Gas laser preionization device
JP2564423B2 (en) Laser equipment
US5818865A (en) Compact excimer laser insulator with integral pre-ionizer
US3828277A (en) Integral capacitor lateral discharge laser
US4703490A (en) Transversely excited gas laser and method for the operation thereof
ES8601579A1 (en) External electrode transverse high frequency gas discharge laser.
NO149055B (en) HOUSING MANUAL GAS WASTER WITH HIGH-FREQUENCY TRANSMISSION EXHAUST
US4613971A (en) Transversely excited gas laser
US3641454A (en) Electron beam-pumped gas laser system
US4542529A (en) Preionizing arrangement for transversely excited lasers
US4556981A (en) Laser of the TE type, especially a high-energy laser
US4555787A (en) Gas laser preionization device
SU775802A1 (en) Pulsed gas laser
US4292600A (en) Pulsed gas laser emitting high-power beam of short wavelength
US3662284A (en) Double discharge laser
US3757246A (en) Energy storer and discharge for a gas laser device
US3611183A (en) Double-ended ion laser tube
Eichler et al. Performance of CuII lasers with cylindrical hollow cathodes
GB1017248A (en) Improvements in or relating to lasers
US4509174A (en) Capacitor discharge excited gas laser
US3466567A (en) Electrostatic gas by-pass for ion lasers with hot cathodes
US4788691A (en) Method for the operation of a gas laser and a gas laser operated in accord therewith
EP0014069B1 (en) Cw or quasi cw planar electrode laser apparatus
Tarasenko et al. Pulsed nitrogen laser emitting at μ= 3371 Å
RU753325C (en) Gas laser