SU774795A1

SU774795A1 - Method of pneumatic batch metering of liquid metal

Info

Publication number: SU774795A1
Application number: SU782682856A
Authority: SU
Inventors: Виктор Марьянович Кудринский; Зиновий Борисович Нисенбойм; Анатолий Федорович Прохода; Василий Михайлович Панга
Original assignee: Научно-Исследовательский Институт Специальных Способов Литья
Priority date: 1978-11-13
Filing date: 1978-11-13
Publication date: 1980-10-30

Description

давление сжатого газа в емкости поддерживают посто нньом.the pressure of the compressed gas in the tank is kept constant.

На фиг. 1 показан уровень жидкого металла в сифоне и сливном канале в момент достижени металлом сливного носка; на фиг.2 - понижение уровн жидкого металла в процессе дозировани .FIG. Figure 1 shows the level of the liquid metal in the siphon and the drain channel at the time the metal reaches the drain sock; Fig. 2 shows a decrease in the level of the liquid metal during the dosing process.

. Предложенный способ дозировани осуществл етс следующим образом.. The proposed method of dosing is carried out as follows.

В герметически закрытую подогреваемую ёмкость 1 по трубопроводу 2 подают сжатый газ до тех пор, пока уровень жидкого металла в сливном канале 3 не достигнет уровн заливки (сливного носка), контролируемого дачиком 4 . В этот момент металл в сифоне 5 и в сливном канале находитс на одном уровне (см. фиг. 1), Последующую подачу сжатого газа осуществл ют в камеру сифона 5 по трубопроводу 6, а давление сжатого газа в емкости при этом поддерживают посто ным с помощью регулирующего устройства 7. По истечении времени производ т сброс давлени в камере сифона, и заливка прекращаетс . При выдаче последующей дозы операци повтор етс . Металл в сифоне перед последующей подачей сжатого газа снова устанавливаетс на уровне заливки. Следовательно , камера в сифоне, в которой создаетс избыточное давление, дл каждой выдаваемой дозы имеет оди и тот же объем, а объем вытесн емого из сифона металла дл равных доз одинаков (на фиг. 2 заштрихован).Compressed gas is supplied to the hermetically sealed heated tank 1 via pipeline 2 until the level of the liquid metal in the drain channel 3 reaches the fill level (drain toe) controlled by the sensor 4. At this moment, the metal in the siphon 5 and in the drain channel is at the same level (see Fig. 1). The subsequent supply of compressed gas is carried out into the chamber of the siphon 5 via pipeline 6, and the pressure of the compressed gas in the tank is kept constant by the regulating device 7. When the time is up, the pressure in the siphon chamber is depressed, and the filling is stopped. When issuing a subsequent dose, the operation is repeated. The metal in the siphon is set at the level of pouring before the next supply of compressed gas. Consequently, a chamber in a siphon in which an overpressure is created, for each dose delivered, has the same volume, and the volume of the metal displaced from the siphon for equal doses is the same (shaded in Fig. 2).

Последующую подачу сжатого газа осуществл ют с давлением, меньшим по величине, чем давление, первоначально создаваемое в емкости дл достижени жидким металлом уровн заливки, и тем более меньшим, чем давление сжатого газа при последующей подаче его по известному способу , когда газ подаетс непосредственно в емкость, так как давление при этом возрастает по сравнению с первоначальным.The subsequent supply of compressed gas is carried out with a pressure lower in magnitude than the pressure initially created in the vessel to reach the liquid metal of the pouring level, and even less than the pressure of the compressed gas when it is subsequently supplied in a known manner when the gas is fed directly into the vessel. as the pressure increases as compared with the original.

Следовательно, по предлагаемому способу последунхца подача осуществл етс с одинаковым давлением, снижаетс давление управлени процессоConsequently, according to the proposed method, the flow is carried out with the same pressure, the process control pressure decreases.

дозировани и не требуетс корректировка порции сжатого газа, как в известном способе.batching and adjustment of the portion of compressed gas is not required, as in the known method.

Кроме того, поддержанием в процессе выдачи дозы посто нного давлени в емкости устран етс погрешность дозировани , св занна с утечкой газа из емкости. В результате этого упрощаетс процесс, и повышаетс точность дозировани .In addition, by maintaining a constant pressure in the tank during the dispensing process, the metering error associated with gas leakage from the tank is eliminated. As a result, the process is simplified, and the metering accuracy is improved.

Пример. Сжатый воздух подавали в сосуд через центральную трубку до тех пор, пока уровень расплава не достигал уровн сливного носка. При этом давление в сосуде составило 0,025 атм и поддерживалось посто нным . После этого подавали давление через дроссель в камеру сифона величиной 0,01 атм за определенный промежуток времени (5 с).Example. Compressed air was supplied to the vessel through the central tube until the level of the melt reached the level of the drain tip. The pressure in the vessel was 0.025 atm and was kept constant. After that, pressure was applied through the choke to the siphon chamber of 0.01 atm for a certain period of time (5 s).

По окончании времени заливки сбрасывали давление в сифоне,и дозирование прекращалось. При этом была получена доза, равна 0,25 кг. Последующа сери опытов показала, что погрешность дозировани по предложенному способу не превьшает 2%, а величина давлени сжатого воздуха при его последующей подаче в камеру сифона оставалась посто нной и равной 0,01 атм.At the end of the pouring time, the pressure in the siphon was released, and the dosing was stopped. At the same time, a dose of 0.25 kg was obtained. A subsequent series of experiments showed that the dosing error of the proposed method does not exceed 2%, and the pressure of compressed air, when it is subsequently fed into the siphon chamber, remained constant and equal to 0.01 atm.

Claims

1. USSR author's certificate number 474397, cl. B 22 D 39/00, 1976.

CH