SU739462A1 - Фотополимеризующа с композици - Google Patents

Фотополимеризующа с композици Download PDF

Info

Publication number
SU739462A1
SU739462A1 SU762432860A SU2432860A SU739462A1 SU 739462 A1 SU739462 A1 SU 739462A1 SU 762432860 A SU762432860 A SU 762432860A SU 2432860 A SU2432860 A SU 2432860A SU 739462 A1 SU739462 A1 SU 739462A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
composition
resolution
telomere
etching
dye
Prior art date
Application number
SU762432860A
Other languages
English (en)
Inventor
Владимир Николаевич Кузнецов
Владимир Дмитриевич Карпов
Владимир Павлович Милованов
Эдуард Михайлович Балакин
Виктор Иннокентьевич Козлов
Original Assignee
Предприятие П/Я Р-6533
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Предприятие П/Я Р-6533 filed Critical Предприятие П/Я Р-6533
Priority to SU762432860A priority Critical patent/SU739462A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU739462A1 publication Critical patent/SU739462A1/ru

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

(54) ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮШАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ

Claims (1)

  1. Изобретение относитс  к фотополимеризуюжимс  композици м, которые исполь зуютс  дл  получени  рельефныхизображений при изготовлении печатных схем в paдиoтaxничeckoй промышленности. Известна фотопопимеризующа с  компо зици , включающа  полимерный пленко образующий компонент, например покивинилциннамат , сенсибилизатор, напри- . мер 1,2-нафтохинон и органический растворитель , например мйтилцеллозольвацетат ;LlJ Недостатком известной композиции  вл етс  низка  степень сшивани  светочувствительного сло , что приводит к набуханию защитного рельефа при про влении , а также высока  стоимость композиции . Известна фотополимеризующа с  компо зици , обладающа  меньшим набуханием при про Ешпнии, на основе более дешевого сырь , включающа  полимерный пленкообразующий компонент, например полимртилметакрилат, сшивающий мономер , например триметилолпро1 аЕ1тркметакрилат , фотоинициатор, например, кетон Михлера ингибитор, например гидрохинон, краситель и органический растворитель| 2|, Недостатком известной композиции  вл етс  TOj что изготовлеиное из нее рельефное заицитное изображение обладает неудовлетворительной устойчивостью к химическому травлению, а также композици  обладает недостаточно высокой светочувствительностью и низкой разрешающей способностью. Целью изобретени   вл етс  повышение устойчивости рёльеф юго изображени  к химическому травлению, повышение светочувствительности и разрешающей способности композиции. Поставленна  цель достигаетс  тем, что фотополимеризующа с  композици , включающа  полимерный пленкообразующий компонент, сшивающий мономер, ин гибитор, краситель и фотоинициатор, в качестве полимерного пленкообразующего компонента и фотоинициатора содержит тэпомер с концевыми остатками, со держащими светочувствительное арокштическое или жирноароматическое  дро .кетона или дикетона, или хинона, при сл дующем соотношении компонентов, вес,% Теломер30-80 Ингибитор0,005-0,5 Краситель0,2-2,0 Сшивающий мономер Остальное, Предложенна  композици  может дополнительно содержать с целью улучшени  реологических свойств пластификатор например триацетин, диацетин, триэтилен гликопьдиацетат в количестве от веса теломера, С целью сниже1гай в зкости композиции она может дополнительно содержать органический растворитель или смесь растворителей, например хлористый метилен , ацетон, этанол, бутаноп в количестве 300-600 % от веса теломера. В качестве теломера композици , можат содержать такие соединени , как теломер метилметакрилата с ко щевыми остатками Н -метилен-UjN H тил-4, аминоб ензофенона, т ел омер н-бутилметакрилата, метакриловой кислоть и матакриламида с когщевьшм остатками 2-антрахинона, теломер стирола и моно-н-б тгилового эфира малеиновой кислоты с концевыми остатками п -дибе зоила и др. соединени , В качестве сшивающего мономера комп зици  может содержать ненасыщенные соедине га , содержащие в мотекуле 2-3 акридьных или метшсрильных остатка, например триметилоппропантриакрилат, триметилолпропангриметакрилат, пента-, эритрнттриакрилат, трйэтиленглккс ь- диакрилат, диакрилат-(бис-эттше1сгликоль фталата и др. В качестве ингибитора композици  может содержать такие соединэн  , как гидрохинон, h -метоксифе НОЛ, хингидрон, П -оксидифенил и др. Предложенна  композици  обладает повышенной светочувСТвительЕС)Стью и более вьюокой разрешающей способность Защитные рельефные изображени , сформированные из предложенной композиции обладают повышенной, по сравнению с известной,устойчивостью к химическому травлейию.. , Пример. Приготавливают ком зицию следующего состава, г: Твломер метилматакрилата {М,в. 5000 у.е.) с концевыми остатками Н -метил енН ,Vl,N -триметил-4,4 -ди739462 аминобензофенона и п-метиленбеизофеиона (мольное соотношение 1:1), очищенный переосаждением от примесей с молекул рным весом менее 700 у.е, 100 Триметилолпропантриакрилат9О ГидрахинонО,01 Краеитель Родамин Ж1.0. Смешение компонентов производ т в двухшнековом экструй.ере при . Фотополимеризующуюс : композицию ,нанос т экструзией в виде равномерного сло  толщиной 50 мкм на попиэтилентер&фтапатную плешсу толщиной 20 мкм и охлаждают до , ПолученнБтй таким образом светочувствительный слой, наход щийс  на попизти лентерефталатной пленке, нанос т на подготовленную поверхность медной фольги с помощью валкового ламинатора при llOi 1°С, затем экспонируют через фотошаблон, наложенный поверх полиэтилентерефталатной пленки, при помощи ртутной лампы ДРС-1000 в течение 45 сек с рассто ни  15О мм. Образец выдерживают в течение 1 ч дл  завершени  темповой фотохимической реакции , затем удал ют (отслаивают) полиэтил ентерефталатную пленку и образец про вл ют на струйной установке в течение 1 Мни смесью перхлорэтйлена с метидхлороформом (1:2O.no объему). Полученный защитный рельеф окрашен в красный цвет, имеет разрешаюи ю способность 120 мкм и вьщёрживает 8 циклов травлени  меди на глубину 35 мкм в динамических услови х. Известна  композици  имеет меньшую светочувствительность (оптимальна  выдержка при эксп(нировании 125 сек), пониженную разрешаюшую способность (200 мкм) и невьвсокую устойчивость к Х1 мическому травлению (3 цикла) в тех же услови х испьь таниЯ, П р и м е р 2, Композицию приготавливают , как описано в примере 1, но в ее состав дополнительно ввод т 10 г пластификатора триацетина. Показатели фотополимерйзующейс  композиции не измен ютс , но температура экструзии светочувствительного слр  может быть снижена до 75°С ввиду меньшей в зкости композиции, П р и м е р 3, Состав композиции, г: Твломер к-бутилметш рилата, метакриловой кислоты и MtJT- криламида (мол рное соотношение 6О:35:5) с молекул рным весом 3000 у,е. и концевыми остатками 2-антрахинона100 Триэтиленгликопьдиакрипат25 Триэтиленглнкольдиацетат1О Краситель Основной синий 3 0,25 Г -Метоксифенол0,02 Приготовление и испытание фотополи меризующейс  ( композиции производ т, как описано в примере 1, но в качестве про вител  используют водньхй раствор карбоната натри . Вьшержка при Экспонировании в этом случае снижаетс  до 4О сек. Разрешаю ща  способность 100 мкм, защитный рельеф устойчив при 7 циклах травлени  имеет голубую окраску, П р и м е р 4, Состав композйпии, г Теломер н-бутилметакрилата, метакриловой кислоты и метакрнпамиДа (мол рное соотношение 60:35:5) с мопекул рьным весом 500О у.е, и концевыми остатками изопропилового эфира бензоина Триметилоппропантриакрилат Триэтиленгликопьднацетат Краситель Основной синий К -Оксидифенил Приготовление if испытание фотополи меризующейс  композиции производ т, как описано в примере 3, но толщину светочувствительного сло  уменьшают д 35 мкм, Вьздержка при экспонировании составл ет 45 сек, защитный рельеф окрашен в синий цвет и устойчив при 8 циклах травлени . Разрешающа  способность 90 мкм, П р и м е р 5, Состав композиции, г Теломер стирола и моно-н-бу- тилового эфира малеиновой кислоты (50 мол,% последнего) с ко№цевыми остатками гл -дибензоила и N -метилен-N -мети М -аминоацетофенона (в мол рном соаг- , . ношении 2:1),.1р Пентаэритриттриакрилат 40 Триацетин25 Краситель Родам н бЖ2 П - МетоксифенопО,01 АцетонISO И-Бутанол150. Композицию готов т путем раствор нц  компонентов в смеси растворителей при и фш1ьтруют через слой ткани 0, 0, 26 Нанесение светочувствительного сло  на подложку осуществл ют путам кюветного полива и композиции обдувом гор чим воздухом при 50 С в течение SO мин« Толщина высушенного светочувстактв ьного сло  25 мкм. Образец, испытьшают, как описано в примере 1, Про витель 1%-ный водный раствор карбоната кали . Выдержка при экспонировании 50 сек. Разрешающа  способность 1ОО мкм. Защитный рельеф имеет красно-фиолетовую окраску и устойчив при 10 циклах травлени , П р и мер б. Состав композиции, г: Теломер метил мет акрил ат а и метакриловой кислоты (30моп% последней) с концевыми остатками 2-метиленантрахинова (М,, 000 у.е.) Триэтиленгликольдиметакрилат Пёнтаэритриттриакрилат Краситель Кристаллический фиолетовый Гидрохинон Хлористый метилен Этанол Фотополимеризующуюс  композицию получают и используют, как описано в примере 5, Оптимальна  экспозици  55 сек. Композици  окрашена в фиоле овый цвет. Защитный рельеф устойчив при.8 циклах травлени . Разрешающа  пособность 100 мкм. Пример, Состав композиции,г: Теломер метилметакрилата с концевыми остатками Н-метилен-Н -меФил-4-аминобензофенонаи п -пропиофенона (в мол рном с оотношении 1:1) и молекул рным весом бООО у.е, 1ОО Диакрилат (бис-этиленглИколь-) фталат Диацетин Основной синий К Хингндрон Хлористый метилен Композицию изготавливают и испьги ают , как описано в примере 5, Толщиа высушенного светочувствительного о  20 мкм. Выдержка при экспонироании 4О сек. Про витель метилхлорог, орм. Разрешающа  способность 80 мкм, ащитный рельеф окрашен в синий цвет выдерживает 8 циклов травлени , П р и м а р 8, Состав композиции, г: Теломер мэтилмфтакрилата с концевыми остатками Н- метилен-Н -метил-4-аминопропиофе- 4-метилен-4 -метоксинона и дибензоипа (в мол рном соотношении 1:1), с молекул рным весом 8000 у.е.1ОО Триметилоппропантриметакрилат 80 Дибутилфталат,10 h -Метоксифеноп0,1 Родамин ,7 Хлористый метилен550. Композицию приготавливают и испытывают , как описано в примере 5. Толщина светочувствительного сло  25 мкм Вь держка при экспонировании 5О сйк« Про витель метилхпороформ Разрешающа  способность 10О мкм. Защитный рельеф окрашен в красный цвет и выдерживает 8 циклов травлени . Основные показатели предлагаемой фотополимеризующейс  композиции и известной приведены в таблиае. Извест7394 5 10 15 20 25 30 35 45 28 Как следует из приведенных примербв, предложенна  композици  обладает повььшенной разрешающей способностью, более высокой светочувствительностью и устойчивостыо при травлении. Формула изобретени  1, Фотополимеризующа с  композици , включающа  псвтимерный пленкообразующий компонент, сшивающий мономер, ингибитор , краситель и фотоинициатор, о тли чающа с  тем, что, с целью повышени  устойчивости к химическому травлению, повыщени  светочувствительности и разрешающей способности, в качестве полимерного пленкообразующего компонента и фотоинициатора композици  содержит теломер с концевыми остатками, содержащими светочувствительное ароматическое или жирноароматическое  дро Кетона или дикетона, или хинона, при следующем соотношении компонентов, рес,%: Тепомер30-80 ИнгибиторО,005-О,5 Краситель0,2-2, О Сшивающий мономерОстальное. 2, Композици  по п. 1, о т л и ч а ющ а   с   тем, что, с целью улучшени  реопогически-х свойств композиций, она дополнитель 1о содержит пластификатор, например триацетин в количестве 10-25% от веса теломера. 3, Композици  по п, 1, о т л и ч а ющ а   с   тем, что, с целью снижени  в зкости композиции, она дополнительно содержит органический растворитель или смесь растворителей в количестве ЗОО-6ОО% от веса теломера. Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе - 1, Патент США № 267О286, . кл, 96-:35, опублик, 1954, 2, Патент США № 3661588, кл. 96-86, опублик, 1972 (прототип).
SU762432860A 1976-12-22 1976-12-22 Фотополимеризующа с композици SU739462A1 (ru)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762432860A SU739462A1 (ru) 1976-12-22 1976-12-22 Фотополимеризующа с композици

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU762432860A SU739462A1 (ru) 1976-12-22 1976-12-22 Фотополимеризующа с композици

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU739462A1 true SU739462A1 (ru) 1980-06-05

Family

ID=20687723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU762432860A SU739462A1 (ru) 1976-12-22 1976-12-22 Фотополимеризующа с композици

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU739462A1 (ru)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US3617288A (en) Propenone sensitizers for the photolysis of organic halogen compounds
US3844790A (en) Photopolymerizable compositions with improved resistance to oxygen inhibition
US4232106A (en) Photosensitive compositions containing 2-halomethyl-5-vinyl-1,3,4-oxadiazoles as free radical progenitors
US3479185A (en) Photopolymerizable compositions and layers containing 2,4,5-triphenylimidazoyl dimers
US4410621A (en) Photosensitive resin containing a combination of diphenyl-imiazolyl dimer and a heterocyclic mercaptan
CA1131395A (en) Derivatives of aryl ketones and p-dialkyl- aminoarylaldehydes as visible sensitizers of photopolymerizable compositions
US3870524A (en) Photopolymerizable composition
US3751259A (en) Photopolymerizable copying composition
US4243741A (en) Negative tonable systems containing dihydropyridines and photooxidants
GB2029423A (en) Photo-polymerisable materials and recording method
JPS6046701B2 (ja) 光感受性エレメント
JPH0146051B2 (ru)
FR2510772A1 (fr) Composition photosensible contenant un 2-trihalomethyl-5-aryl-1, 3, 4-oxadiazole
JPS6258241A (ja) 感光性組成物
US3798034A (en) Process for the production of half-tone and line work multi-color photographic images
JPS6411937B2 (ru)
EP0272298A1 (en) IRREVERSIBLE PHOTOCHROME MARKINGS.
JPS61172139A (ja) 光重合性組成物
SU739462A1 (ru) Фотополимеризующа с композици
US4029505A (en) Method of producing positive polymer images
FR2503399A1 (fr) Composition photosensible procurant une image visible par exposition
EP0036221A1 (en) Photosensitive material and a process for reproducing photo-information
JPS59208541A (ja) 光重合性組成物
GB1587476A (en) Photopolymerizable compositions and elements and methods of imaging
SU996984A1 (ru) Фотополимеризующа с композици