SU722422A1 - Photopolymerizing composition - Google Patents
Photopolymerizing composition Download PDFInfo
- Publication number
- SU722422A1 SU722422A1 SU782624291A SU2624291A SU722422A1 SU 722422 A1 SU722422 A1 SU 722422A1 SU 782624291 A SU782624291 A SU 782624291A SU 2624291 A SU2624291 A SU 2624291A SU 722422 A1 SU722422 A1 SU 722422A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- relief
- height
- composition
- photoinitiator
- phthalate
- Prior art date
Links
Landscapes
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Abstract
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ дл изготовлени рельефных изделий, включающа о-^метакрил [ди(дизтиленгликоль)-фталат] и фотоинициатор, отличающа с тем, что. с целью увеличени высоты рельефа, в качестве фотоинициатора она содержит метиловый эфир бензоина и дополнительно олигокар-бонатметакрилат левоглюкозана общейформулы [|^С_ QН ORгдеЯ=-с-0-СН.-СН,ОС-0-II . ^ 2 ||^ ? ^-CH2-CH2-OC(X)C = CHgjX = Н, или СНз, при следующем соотношении между компонентами, мас.ч.: сг^-Метакрилди- [(диэтилен-гликоль)-фталат] Олигокарбонатметакрилат левоглюкозана метиловый эфир бензоина50-9010-50 0,5-1,0XIююю юИзобретение относитс к фотополиме- ризующимс композици м, которые используютс дл изготовлени рельефных изделий - моделей литьевых форм и клише в гальванопластике.Известна фотополимеризующа с композици дл изготовлени рельефных изделий, включающа «-^ -метакрилди- [(дизти- ленгликоль)-фталат], метилметакрилат, фотоинициатор - бензоин и растворитель - трихлорэтилфосфат.Недостатком указанной композиции вл етс то, что изготовленные из нее рельефные издели обладают неудовлетворительно малой высотой рельефа, что затрудн ет MX использование в качестве печатных форм высокой и глубокой печати, литьевых изделий, скульптурных изображений и орнаментов в виде барельефов и горельефов.Целью изобретени вл етс увеличение высоты рельефа.A PHOTO-POLYMERIZED COMPOSITION for the manufacture of embossed products, including o-^ methacryl [di (distiene glycol) -phthalate] and photoinitiator, characterized in that. in order to increase the height of the relief, as a photoinitiator, it contains benzoin methyl ester and, in addition, oligocarbonate methacrylate of levoglucosan, the general formula [| ^ С_ QН OR OR = Р -0-СН-СН, ОS-0-II. ^ 2 || ^? ^ -CH2-CH2-OC (X) C = CHgjX = H, or CH3, with the following ratio between components, parts by weight: sr ^ -Metacryldi- [(diethylene-glycol) -phthalate] Oligocarbonate methacrylate of levoglucosane methyl benzoin ester 50- 9010-50. The invention relates to photopolymerizable compositions that are used for the manufacture of embossed products — models of injection molds and cliches in electroforming. The known photopolymerization composition for the manufacture of embossed products, including “- ^ -methacrylide- [(dithylene glycol) -phthalate], methyl methacrylate, photoinitiator - benzoin and the solvent is trichloroethyl phosphate. The disadvantage of this composition is that the relief products made from it have an unsatisfactory low relief height, which makes MX difficult to use high and intaglio printing, moldings, sculptural images and ornaments in the form of bas-reliefs and high reliefs as printing forms The object of the invention is to increase the height of the relief.
Description
Поставленна цель достигаетс тем, что фотополимеризугаща с композици , включающа (X-ft -метакрилди- (диэтиленгликоль )-фталат и фотоинициатор, в качестве фотоинициатора содержит метиловый эфир бензоина и дополнител но олигокарбонатметакрилат левоглюкозана общей формулыThe goal is achieved by the fact that photopolymerizable with a composition comprising (X-ft-methacryldi- (diethylene glycol) -phthalate and photoinitiator, contains benzoin methyl ester and additionally oligocarbonate methacrylate of levoglucosane of the general formula as photoinitiator
Ч-ОH-o
-Q-Q
нn
нn
НH
OROR
Н.N.
RORO
Н OR H OR
где R-C-O-CbL-CH.OC-O0where R-C-O-CbL-CH.OC-O0
ОABOUT
ОABOUT
-СИ2-СН,;-ОС(Л)-CI2-CH,; - OS (L)
X н. или СНз, при следующем соотношении компонентов, мас.ч:X n. or CHS, in the following ratio of components, wt.h:
а-р -Метакрилди- (диэтиленгликоль )-фталаг 50-90aP-Metacryldi- (diethylene glycol) -phthalag 50-90
ОлигокарбонзтметакрилатOligocarbonate methacrylate
левоглюкозана. 10-50levoglucosan. 10-50
Метиловый эфир бензоина0,5-1,0Benzoin methyl ester 0.5-1.0
Получение рельефных моделей производитс следующим образом.Embossed patterns are produced as follows.
Компоненты композиции тщательно перемеш11вают и после удалени пузырей заливают в полость формирующе-копировальной рамы с двум стеклами, к внутренней стороне о,цного,из которых прикреплен негатив, а к другому - пластина из органического стекла ,цл придани жесткости будущей модели, ,Дл предотвращени растекани композиции между стеклами помещают резиновые уплотнители, а металлические ограничители определ ют толщину будущей модели дл гальванопластики (2-4 - мм). Композицию облучают люминесцентными лампами типа ЛУФ-80 с УФ-свечением с рассто ни 50-100 см в течение 5-20 мин со стороны негатива (формирование рельефа) ив течение 1-5 мин с противоположной стороны (формирование основы).The components of the composition are thoroughly mixed and, after removing the bubbles, they are poured into the cavity of the forming-copying frame with two glasses, on the inside of o, the negative of which is attached, and the other is made of plexiglass plate, to stiffen the future model. rubber compositions are placed between the glasses, and metal stops determine the thickness of the future model for electroforming (2-4 mm). The composition is irradiated with fluorescent lamps of the LUF-80 type with UV light from a distance of 50-100 cm for 5-20 minutes from the negative side (relief formation) and within 1-5 minutes from the opposite side (base formation).
Незаполимеризовавшуюс жидкую часть композиции удал ют промыванием смесью ацетона и этилового спирта (1:1).The unpolymerized liquid portion of the composition is removed by washing with a mixture of acetone and ethyl alcohol (1: 1).
П р и м е р 1. В фарфоровый стакан помещают 90 мас.ч. сг/ -Метакрилди- (диэтиленгликоль )-фталага (олигоэфиракрилат МДФ-2). 10 мас.ч. олигокарбонатметакрилата левоглюкозана, где X Н, 1 мас.ч. метилового эфира бензоина и перемешивают 1,5 ч при комнатной температуре. После дегазации смесь заливают в полость формирующе-копировальной рамы и облучают люминесцентными лампами с УФ-свечением типа ЛУФ-80 с рассто ни 100 мм. Врем экспозиции 5 мин, Незаполимеризовавшуюс часть композиции удал ют промывкой смесью ацетона и этилового спирта (1:1),PRI me R 1. In a porcelain cup placed 90 wt.h. Cr / -Metacryldi- (diethylene glycol) -phthalag (oligoether acrylate MDF-2). 10 wt.h. oligocarbonate methacrylate levoglucosane, where X H, 1 wt.h. methyl benzoin ether and stirred for 1.5 h at room temperature. After degassing, the mixture is poured into the cavity of the forming-copying frame and irradiated with fluorescent lamps with UV light of the type LUF-80 with a distance of 100 mm. The exposure time is 5 minutes. The unpolymerized part of the composition is removed by washing with a mixture of acetone and ethyl alcohol (1: 1).
Высота рельефа литьевой формы 1,45 мм,The height of the mold injection mold is 1.45 mm,
пример 2. В фарфоровый стаканexample 2. In a porcelain cup
помещают 70 мас.ч. олигоэфиракрилата МДФ-2, 30 мае,ч, олигокарбонатметакрилата левоглюкозана, где X СНз, и 1,0 мас.ч, метилового эфира бензоина и провод т операции по примеру 1, Врем экспозицииplaced 70 wt.h. oligoether acrylate MDF-2, 30 May, h, oligocarbonate methacrylate of levoglucosane, where X is CH 3, and 1.0 wt.h, benzoin methyl ester and the operations of example 1 are performed. Exposure time
5 мин,5 minutes,
Высота рельефа литьевой формы 1,9 мм,The height of the mold injection mold is 1.9 mm,
Пример 3. В фарфоровый стаканExample 3. In a porcelain cup
помещают 50 мас.ч. олигоэфиракрилатаplaced 50 wt.h. oligoacrylate
МДФ-2, 50 мас.ч, олигокарб(энатметакрилата левоглюкозана, где X Н, и 1,0 мае,ч, метилового эфира бензоина и провод т операции по примеру 1.MDF-2, 50 wt.h, oligocarb (enate methacrylate of levoglucosane, where XH, and 1.0 May, h, methyl benzoin ether and carry out the operations of Example 1.
Высота рельефа литьевой формы 2,3 мм. Пример 4, В фарфоровый стаканThe height of the mold injection mold is 2.3 mm. Example 4, In a porcelain cup
помещают 90 мас.ч. олигоэфиракрилата МДФ-2, 10 мас.ч, олигокарбонатметакрилата левоглюкозана и 0,5 мас.ч. метилового эфира бензоина и провод т операции по примеру 1. Врем экспозиции 5 мин.placed 90 wt.h. oligoether acrylate MDF-2, 10 wt.h, oligocarbonate methacrylate levoglucosane and 0.5 wt.h. methyl ester of benzoin and conduct operations according to example 1. The exposure time is 5 minutes.
Высота рельефа литьевой формы 2,1 мм.The height of the mold injection mold is 2.1 mm.
Пример 5, В фарфоровый стаканExample 5, In a porcelain cup
помещают 70 мас.ч. олигоэфиракрилатаplaced 70 wt.h. oligoacrylate
МДФ-2, 30 мас.ч. олигокарбонатметакрилата левоглюкозана и 0,75 мас.ч, метиловогоMDF-2, 30 wt.h. oligocarbonate methacrylate levoglucosane and 0.75 wt.h, methyl
эфира бензоина и провод т операции по примеру 1. Высота рельефа литьевой формы 1,80 мм.benzoin ether and the operations of example 1 are carried out. The height of the injection mold relief is 1.80 mm.
Пример Б. В фарфоровый стаканExample B. In a porcelain cup
помещают 50 мас:ч. олигоэфиракрилата МДФ-2, 5 мас.ч. олигокарбонатакрилата левоглюкозана , 1 мае,ч. метилового эфира бензоина и провод т операции по примеру 1,placed 50 wt: h oligoether acrylate MDF-2, 5 wt.h. oligocarbonate of levoglucosane, 1 May, h. methyl benzoin ether and the operations of Example 1 are carried out,
Высота рельефа литьевой формы 2,25The height of the mold injection mold is 2.25
мм.mm
Высота рельефа литьевой формы, изготовленной из композиции-прототипа при том же времени экспонировани составл етThe height of the relief of the mold made from the composition of the prototype at the same exposure time is
1,15мм.1.15mm
Таким образом, главным техническим преимуществом предложенной композиции вл етс возможность получени печатных форм, литьевых форм и клише с повышенной высотой рельефа. Така композици позвол ет получать печатные формы дл вьгсокой и глубокой печати, заменить цинкографию более простым способом изготовлени клише. Больша высота рельефа иThus, the main technical advantage of the proposed composition is the possibility of obtaining printing plates, injection molds and cliches with increased relief height. Such a composition makes it possible to obtain printing plates for high-speed and intaglio printing, to replace zincography with a simpler method of making cliches. Greater terrain height and
5722422б5722422b
высокий класс шероховатости позвол ютоснове предложенной композиции имеютhigh roughness class allow the basis of the proposed composition have
использовать предложенную композицию9-10 класса шероховатости поверхностиuse the proposed composition 9-10 class surface roughness
также дл изготовлени литьевых изделий,рельефа, хорошо серебр тс и обладают хискульптурных изображений и орнаментов вмической стойкостью к электролитам в гальвиде барельефов и горельефов. Издели на5 ванопластических ваннах.also for the manufacture of molded products, relief, well silver and possess his sculptural images and ornaments in the vmic resistance to electrolytes in the galvid bas-reliefs and high reliefs. Products on 5 vanoplastic baths.
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782624291A SU722422A1 (en) | 1978-06-07 | 1978-06-07 | Photopolymerizing composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU782624291A SU722422A1 (en) | 1978-06-07 | 1978-06-07 | Photopolymerizing composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU722422A1 true SU722422A1 (en) | 1991-11-15 |
Family
ID=20768333
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU782624291A SU722422A1 (en) | 1978-06-07 | 1978-06-07 | Photopolymerizing composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU722422A1 (en) |
-
1978
- 1978-06-07 SU SU782624291A patent/SU722422A1/en active
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Авторское свидетельство СССР № 523381, кл. G 03 С 1/68, 1977. * |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE59301845D1 (en) | Process for the preparation of 1,3-propanediol by hydrogenation of hydroxypropionaldehyde | |
ATE120065T1 (en) | METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING A HOUSING SHELL OF AN IN-THE-EAR HEARING AID AND HOUSING SHELL PRODUCED BY THE METHOD. | |
ATA280979A (en) | PROCESS FOR PRODUCING A PROPHYLACTIC | |
DE1572153B2 (en) | PHOTOPOLYMERIZABLE RECORDING MATERIAL | |
AT365657B (en) | METHOD FOR PRODUCING AN EXTRA HARD MATERIAL | |
ATE29403T1 (en) | PROCESS FOR MANUFACTURING INDIVIDUAL CASTINGS. | |
AT360162B (en) | METHOD FOR PRODUCING A MEDICINAL PRODUCT FOR EXTERNAL USE | |
ATE395174T1 (en) | METHOD FOR PRODUCING MARKED CONTACT LENSES AND MARKED CONTACT LENSES OBTAINED THEREFROM | |
SU722422A1 (en) | Photopolymerizing composition | |
GB2035602A (en) | Forming three dimensional objects from two-dimensional designs using photopolymerisable compositions | |
DE59108688D1 (en) | Process for the production of photopolymeric flexographic relief printing plates | |
ATA996174A (en) | METHOD FOR MANUFACTURING AN EYE MEDICINE IN SOLID FORM | |
SE7614315L (en) | PHOTOPOLYMERIZABLE MATERIAL | |
AT364885B (en) | METHOD FOR PRODUCING AN ELECTROMAGNETIC SILICON STEEL WITH GOSS TEXTURE | |
DE59106647D1 (en) | Process for the production of photopolymeric flexographic relief printing plates. | |
AT364886B (en) | METHOD FOR PRODUCING AN ELECTROMAGNETIC SILICON STEEL WITH GOSS TEXTURE | |
DE59010173D1 (en) | Process for the production of foundry cores and molds | |
AT377971B (en) | METHOD FOR PRODUCING A CERAMIC MOLDING STONE | |
SU720410A1 (en) | Photopolymerizable liquid composition | |
SU836618A1 (en) | Method of manufacturing photopolymeric printing plates | |
DE59107217D1 (en) | Process for the preparation of pilocarpine from in vitro cultures of pilocarpus | |
DD129904A5 (en) | PROCESS FOR THE PREPARATION OF AN AZETONITRILE DERIVATIVE | |
US1516199A (en) | Photomechanical process for producing bas-reliefs | |
AT352306B (en) | VACUUM MOLDING PROCESS FOR THE PRODUCTION OF CASTING MOLDS AND THE DEVICE FOR ITS IMPLEMENTATION | |
JPS5772810A (en) | Production of precise metal mold |