SU720413A1 - Method of making contact raster with double lineage - Google Patents

Method of making contact raster with double lineage Download PDF

Info

Publication number
SU720413A1
SU720413A1 SU742034041A SU2034041A SU720413A1 SU 720413 A1 SU720413 A1 SU 720413A1 SU 742034041 A SU742034041 A SU 742034041A SU 2034041 A SU2034041 A SU 2034041A SU 720413 A1 SU720413 A1 SU 720413A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
raster
projection
symmetrical shape
shape
symmetric
Prior art date
Application number
SU742034041A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
Альберт Васильевич Грачев
Григорий Григорьевич Лебедь
Владимир Трофимович Мартынюк
Игорь Денисович Чуприна
Борис Васильевич Генералов
Original Assignee
Киевский Филиал По Специальным Видам Печати Всесоюзного Научно- Исследовательского Института Комплексных Проблем Полиграфии
Украинский Научно-Исследовательский Институт Полиграфической Промышленности
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Киевский Филиал По Специальным Видам Печати Всесоюзного Научно- Исследовательского Института Комплексных Проблем Полиграфии, Украинский Научно-Исследовательский Институт Полиграфической Промышленности filed Critical Киевский Филиал По Специальным Видам Печати Всесоюзного Научно- Исследовательского Института Комплексных Проблем Полиграфии
Priority to SU742034041A priority Critical patent/SU720413A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU720413A1 publication Critical patent/SU720413A1/en

Links

Landscapes

  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)

Description

Изобретение относитс  к способам изготовлени  контактных растров, в частности позитивных контактных растров двойной линиатуры,-и может быть использовано дл  получени  растровых фотоформ, примен ющихс , например, при изготовлении печатных форм глубокой автотипии.The invention relates to methods for manufacturing contact rasters, in particular positive contact lines of double lineature, and can be used to obtain raster photo forms used, for example, in the manufacture of printing forms for deep autotype.

Известен способ изготовлени  контактных растров двойной линиатуры путем многократн.ого последовательного проецировани  специальной диафрагмы через однолиниатурный проекционный растр на светочувствительный материал с последующей фотографической обработкой экспонированного материала 1.A known method of making contact rasters of a double lineature by repeatedly sequentially projecting a special diaphragm through a single-line projection raster onto a photosensitive material, followed by photographic processing of the exposed material 1.

Недостатком этого способа  вл етс  его трудоемкость, св занна  с необходимостью точной установки диафрагмы о- носительно проекционного растра при каждом последующем проецировании.The disadvantage of this method is its laboriousness, due to the need to accurately set the aperture with respect to the projection raster at each subsequent projection.

Целью изобретени   вл етс  упрощение и удешевление процесса изготовлени  контактного растра.The aim of the invention is to simplify and cheapen the manufacturing process of the contact raster.

Сущность способа состоит в том, что проецируют на светочувствительный материал диафрагму с отверстием, тлеющим форму симметричного неправильного двенадцатиугольника, в центреThe essence of the method is that they project onto the photosensitive material a diaphragm with a hole glowing the shape of a symmetrical irregular pentagon in the center

которого расположена темна  зона в виде четырехлучевой звезды,- при этом при проецировании диафрагму ориентируют так относительно проекционного растра , что диагонали, соедин ющие противоположные вершины четырехлучевой звезды,, расположены параллельно сторонам квадратных  чеек растра.which is located in the dark zone in the form of a four-beam star — while projecting, the diaphragm is oriented so relative to the projection raster that the diagonals connecting the opposite vertices of the four-beam star are parallel to the sides of the square raster cells.

На фиг. 1 изображена схема полу0 чени  контактного растра двойной: линиатуры; на фиг. 2 - диафрагма дл  получени  контактного растра двойной линиатуры; на фиг. 3 - схема образовани  двухлиниатурной структуры FIG. Figure 1 shows the scheme for obtaining a double contact raster: lineature; in fig. 2 — a diaphragm for obtaining a double raster contact raster; in fig. 3 is a diagram of the formation of a two-lining structure.

5 контактного растра.5 contact raster.

Диафрагму 1 проецируют через проекционный растр 2 на фотоматериал 3. В процессе проецировани  диафрагму 1 освещают рассе нным световым пото0 ком 4 от источника света. Дл  проецировани  используют диафрагму, представл ющую собой отверстие 5 на непрозрачном фоне 6, имеющее форму симметричного неправильного двенад5 цатиугольника. Двенадцатиугольник имеет четыре одинаковых коротких стороны 7, между каждой парой которых расположено по две одинаковых длинных стороны 8. В центре отверсти  5The diaphragm 1 is projected through the projection raster 2 onto the photographic material 3. During the projection process, the diaphragm 1 is illuminated with a diffused light flux 4 from the light source. For projection, a diaphragm is used, which is an aperture 5 on an opaque background 6, having the form of a symmetric irregular twelve square. The twelve has four identical short sides 7, between each pair of which there are two identical long sides 8. In the center of the hole 5

Claims (2)

0 располагаетс  затемненна  зона н виде четырехлучевой звезды 9, котора  ориентирована относительно сторон jjBeHafluaTHyrojib}mKa так, что ее 10 располагаютс  против середины коротких сторон 7. Проецирование диафрагмы производ т через обычный однолиниатурный крестообразный проекционный растр 2. При этом диафрагму ориентируют относительно проекционного растра так,, чтобы диагонали 11, соедин тацие прот волежащие вершины 10 четырехлучевой звезды 9, были параллельны cxopoHciM квадратных  чеек 12 растра 0 there is a darkened zone in the form of a four-beam star 9, which is oriented relative to the jjBeHafluaTHyrojib} mKa sides so that its 10 is located against the middle of the short sides 7. The projection of the diaphragm is made through the usual single-lens cross-shaped projection raster 2. At the same time, the diaphragm is oriented relative to the projection screen so so that the diagonal 11, the connection prot the lying vertices 10 of the four-beam star 9, are parallel to the cxopoHciM square cells of the 12th raster 2. . На фиг. 3 изображены проекции 13 диафрагмы 1 на фотоматериал 3 по отношению к положению прозрачных  чеек 12 проекционного растра. Участки миН№ альной освещенности размещаютс  НЭ фотоматериале с одной стороны напротив прозрачных  чеек 12 проекци онного растра за счет проекций 14 внутренней четырехлучевой звезды 9 диафрагмы и с другой - напротив цент ров пересечений непрозрачных линий проекционного растра за счет промежу ков 15 на стыках четырех соседних пр екций 13 наружного контура отверсти  диафрагмы. В результате этого получаетс  двухлиниатурна  структура кон тактного растра. В верхнем левом углу показано получаемое при этом за счет полутоновых палений распределен освещенностей внутри получаемых раст ровых  чеек. Распределение оптически плотностей в растровых  чейках после фотографической обработки будет обратным по отношению : распределению освещенностей, т.е. центры растр 1вых  чеек будут иметь минимальную оптическую плотность, а перифери  - максимальную . Вкачестве фотоматериала 3, на ко торый проецируетс  диафрагма 1 через проекционный растр 2, может быть при менен высококонтактный пленочный фотоматериал , пригодный дл  получени  контактного растра, например пленка ФГ-31 или пленка Кодалит, тип.З. Переменйые факторы растрового про цесса (фиг. 1) св заны зависимостью; „V R - ji d .г где V - рассто ние от плоскости диафрагмы . до плоскости фотосло  d - размер отверсти  диафрагмы между короткими сторонами 7 , R - растровое рассто ние; г - размер стороны  чейки проекционного крестообразного раст . ра ; п - эмперический поправочный коэффициент . Опытньм путем установлено, что оптимальные параметры контактного растра получаютс  при п от 0,37 до 0,40 и «(6fff3После проецировани  диафрагмы на фотоматериал провод т обычную фотографическую обработку (про вление, промывка, фиксирование, окончательна  промывка и сушка. Однократное проецирование и исключение необходимости точной установки диафрагмы относительно проекционного растра в описанном способе позвол ет упростить и удешевить процесс изготовлени  контактного растра двЬйной линиатуры. Формула изобретени  Способ изготовлени  контактного растра двойной линиатуры, путем проецировани  диафрагмы через однолиниатурный проекционный растр на светочувствительный материал с последующей фотографической обработкой экспонированного материала, отличающийс  тем, что, с целью упрощени  и удешевлени  процесса изготовлени  контактного растра, проецируют на светочувствительный материал диафрагму с отверстием, имеющим форму симметричного неправильного двеналцатиугольника, в центре которого расположена темна  зона в випе четырехлучевой звезды, при этом при проецировании диафрагму ориентируют так относительно проекционного растра , что диагонали, соедйн г цие противоположные вершины четырехлучевой заезди, расположены параллельно сторонам квадратных  чеек растра. Источники информации,прин тые во внимание при экспертизе I. Патент Франции 1488082, кл. G 03 F 5/OOf опублик. 1967 |1РОТОТИП. агЗ /J2.. FIG. 3 shows the projections 13 of the diaphragm 1 onto the photo material 3 with respect to the position of the transparent cells 12 of the projection raster. Minimum illumination plots are placed by the NE photographic material on one side opposite the transparent cells 12 of the projection raster due to the projections 14 of the inner four-pointed star 9 of the diaphragm and on the other opposite the intersection centers of the opaque lines of the projection raster due to the intervals 15 at the junctions of four adjacent views 13 outer contour of the aperture opening. As a result, a two-dimensional contact raster structure is obtained. In the upper left corner, the resulting illumination within the resulting raster cells is obtained due to the halftone fences. The distribution of optical densities in raster cells after photographic processing will be reversed with respect to the distribution of illuminances, i.e. the centers of the raster of the first cells will have a minimum optical density, and the periphery will have a maximum. As a photographic material 3, onto which aperture 1 is projected through a projection raster 2, a highly contact film photographic material suitable for making a contact raster, for example, FG-31 film or a Codalite film, type can be applied. The variables of the raster process (Fig. 1) are dependent; „V R - ji d .g where V is the distance from the plane of the diaphragm. to the photofloor plane, d is the size of the aperture opening between the short sides 7, R is the raster distance; g - the size of the side of the cell projection cruciform plant. ra; n is the empirical correction factor. It has been experimentally established that the optimal parameters of the contact raster are obtained with n from 0.37 to 0.40 and "(6fff3After projecting the aperture onto the photographic material, ordinary photographic processing is carried out (appearance, washing, fixation, final washing and drying. Single projection and exclusion The need for accurate installation of the diaphragm relative to the projection raster in the described method makes it possible to simplify and cheapen the process of manufacturing the contact raster of a double lineature. a contact raster of a double lineature, by projecting a diaphragm through a single-line projection raster onto a photosensitive material, followed by photographic processing of the exposed material, characterized in that, in order to simplify and cheapen the manufacturing process of the contact raster, a diaphragm with a shape, a symmetrical pattern, which has a symmetric shape, is symmetric and has a symmetrical shape, a symmetrical pattern, a symmetric pattern, a symmetric pattern, a symmetrical shape, a symmetric shape, a symmetrical shape, a symmetric shape, a symmetrical shape, a symmetrical shape, and a symmetrical shape, that have a symmetrical shape, are symmetric, and have a symmetrical shape, a symmetric shape, a symmetrical shape, a symmetric shape, a symmetrical shape, a symmetric shape, a symmetric shape, a symmetrical shape, a symmetrical shape, and a symmetrical shape, will be projected onto the photosensitive material, projected onto the photosensitive material, a hole with a symmetrical shape, and a symmetric shaped symmetrical shape will be projected onto the photosensitive material , in the center of which there is a dark zone in the VIP of a four-beam star, while The diaphragm is oriented so relative to the projection raster that the diagonals, which connect the opposite vertices of the four-beam approach, are parallel to the sides of the square raster cells. Sources of information taken into account in the examination I. Patent of France 1488082, cl. G 03 F 5 / OOf publ. 1967 | 1ROTOTYPE. AGZ / J
SU742034041A 1974-06-05 1974-06-05 Method of making contact raster with double lineage SU720413A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU742034041A SU720413A1 (en) 1974-06-05 1974-06-05 Method of making contact raster with double lineage

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU742034041A SU720413A1 (en) 1974-06-05 1974-06-05 Method of making contact raster with double lineage

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU720413A1 true SU720413A1 (en) 1980-03-05

Family

ID=20587778

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU742034041A SU720413A1 (en) 1974-06-05 1974-06-05 Method of making contact raster with double lineage

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU720413A1 (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4421398A (en) Focussing plate
SU720413A1 (en) Method of making contact raster with double lineage
JPS63761B2 (en)
JPS5461931A (en) Forming method of photo resist patterns
JPS59131902A (en) Forming method of speckle diffusion plate
US3582329A (en) Method of making lenticular screens
US3645734A (en) Process of manufacturing a master dot pattern for photoetching a graded-hole shadow mask
JPS5391743A (en) Image formation process
JPS57188010A (en) Plate type lens array
GB1309644A (en) Multi-colour electrophotographic process
US2997392A (en) Method of gravure reproduction
JPS52132851A (en) Optical detector of scanning type
GB921772A (en) Materials for use in half-tone reproduction
JPS5754939A (en) Optical mask and its manufacture
JPS5642242A (en) Electrophotographic method
JPH0228845B2 (en) SUPETSUKURUKAKUSANBANSAKUSEISOCHI
JPS5495232A (en) Camera
JPS5652751A (en) Photomask correcting method
JPS6428658A (en) Image forming method
SU171734A1 (en) METHOD OF MANUFACTURING CONTACT RASTERS OF DEEP AUTOTYPE
Tsubaki Photometry of the Innermost Solar Corona Observed at the Total Solar Eclipse of February 5, 1962, II. Fine Structure of the Coronal Condensation
SU1046733A1 (en) Method of producing test object for checking properties of "lit"-tupe developer
JPS57186333A (en) Projecting exposure device
GB1277213A (en) A process for the production of negative or positive continuous tone or screened images thereof
GB458421A (en) A process and a light-sensitive layer for producing pictures with the aid of screens