SU708940A1 - Plasma unit diaphragm - Google Patents

Plasma unit diaphragm Download PDF

Info

Publication number
SU708940A1
SU708940A1 SU782615041A SU2615041A SU708940A1 SU 708940 A1 SU708940 A1 SU 708940A1 SU 782615041 A SU782615041 A SU 782615041A SU 2615041 A SU2615041 A SU 2615041A SU 708940 A1 SU708940 A1 SU 708940A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
plasma
diaphragm
aperture
elements
magnitude
Prior art date
Application number
SU782615041A
Other languages
Russian (ru)
Inventor
V N Odintsov
P A Fefelov
Original Assignee
V N Odintsov
P A Fefelov
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by V N Odintsov, P A Fefelov filed Critical V N Odintsov
Priority to SU782615041A priority Critical patent/SU708940A1/en
Application granted granted Critical
Publication of SU708940A1 publication Critical patent/SU708940A1/en

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21BFUSION REACTORS
    • G21B1/00Thermonuclear fusion reactors
    • G21B1/11Details
    • G21B1/13First wall; Blanket; Divertor
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10Nuclear fusion reactors

Description

Изобретение относится к элементам устройств для получения и исследования плазмы, может быть исполь-. зовано при создании установок для получения термоядерного синтеза.The invention relates to elements of devices for obtaining and studying plasma, can be used. Designed for the development of thermonuclear fusion.

Известны диафрагмы тороидальных плазменных устройств, выполненные в виде тонкостенного металлического кольца [lj .Known diaphragms of toroidal plasma devices made in the form of a thin-walled metal ring [lj.

У этого устройства небольшая температурная стойкость.This device has a low temperature resistance.

Наиболее близка к предлагаемой диафрагма- плазменной установки, состоящая из секторных элементов [2J .Closest to the proposed diaphragm-plasma installation, consisting of sector elements [2J.

Контактируя с плазмой, эта диафрагма подвергается воздействию интенсивных потоков заряженных частиц и сама является источником примесей, поступающих в плазму.Contacting the plasma, this diaphragm is exposed to intense flows of charged particles and is itself a source of impurities entering the plasma.

Цель изобретения - уменьшение .загрязнения плазмы тяжелыми примесями и повышение ресурса работы диафрагмы .The purpose of the invention is the reduction of plasma pollution with heavy impurities and an increase in the life of the diaphragm.

Цель достигается тем, что обращенная к плазме поверхность'секторных элементов выполнена из пористого тугоплавкого материала, поры которого заполнены твердофазным наполнителем с близким к тугоплавкому материалу значением произведения коэффициента распыления на атомный вес .'уThe goal is achieved in that the surface of the sector elements facing the plasma is made of a porous refractory material, the pores of which are filled with a solid-phase filler with a value close to the refractory material of the product of the atomization coefficient and atomic weight.

Пористый слой образован тканево-’ нитяной тугоплавкой структурой.The porous layer is formed by a fabric ’filament refractory structure.

Обращенная к плазме поверхность секторных элементов образует с осью диафрагмы угол, величина которого одного порядка с величиной отношения продольной скорости заряженных частиц в пограничном слое плазмы и их поперечной скорости.The surface of sector elements facing the plasma forms an angle with the axis of the diaphragm, the magnitude of which is of the same order of magnitude as the ratio of the longitudinal velocity of charged particles in the plasma boundary layer and their transverse velocity.

На чертеже представлено поперечное сечение диафрагмы.The drawing shows a cross section of the diaphragm.

Диафрагма состоит из секторных элементов, обращенная к плазме поверхность 1 которых выполнена из пористого тугоплавкого материала, поры которого заполнены твердофаз ным наполнителем с близким к тугоплавкому материалу значением произведения. коэффициента распыления на атомный вес. Пористый слой’ может быть образован тканево-нитяной туго5 плавкой структурой. Пористая часть диафрагмы через подложку 2 крепится к несущему элементу диафрагмы 3. Обращенная к плазме поверхность секторов диафрагмы 1 образует с направЮ лением тока в плазме угол об , величина которого одного порядка с величиной отношения продольной скорости заряженных частиц пограничного слоя плазмы к их поперечной скорости. Устройство функционирует следующим образом.The diaphragm consists of sector elements, the surface 1 facing the plasma of which is made of a porous refractory material, the pores of which are filled with a solid phase filler with a product value close to the refractory material. atomic weight atomization coefficient. The porous layer ’can be formed by a fabric-thread tight5 fusible structure. The porous part of the diaphragm through the substrate 2 is attached to the supporting element of the diaphragm 3. The surface of the sectors of the diaphragm 1 facing the plasma forms an angle o with the direction of the current in the plasma, which is of the same order of magnitude as the ratio of the longitudinal velocity of the charged particles of the plasma boundary layer to their transverse velocity. The device operates as follows.

При взаимодействии с плазмой тугоплавкая пористая структура слоя обеспечивает постоянство геометрической формы даже в случае местного 2« расплавления наполнителя. Малая плотность наполнителя, в качестве которого можно использовать, например, кремний, алюминий, цирконий с близким к материалу пористого слоя (вольфрам, графит) произведением коэффициента распыления на атомный вес, позволяет пучкам ускоренных электронов- проникать на большую глубину по сравнению с тем случаем, когда поверхностный слой выполнен, например, целиком из вольфрама. Большая глубина проникания электронов приводит к понижению температуры поверхности и к перераспределению тер* 35 мических напряжений, а пористая структура снижает вероятность рас,трескивания слоя при тепловых ударах.When interacting with plasma, the refractory porous structure of the layer ensures the constancy of the geometric shape even in the case of local 2 "melting of the filler. The low density of the filler, which can be used, for example, silicon, aluminum, zirconium with a product of the sputtering coefficient and atomic weight close to the material of the porous layer (tungsten, graphite), allows accelerated electron beams to penetrate to a greater depth compared to that case when the surface layer is made, for example, entirely of tungsten. The large penetration depth of electrons leads to a decrease in the surface temperature and to a redistribution of thermal stresses, while the porous structure reduces the likelihood of cracking of the layer during thermal shock.

Эффективность предлагаемой диаф40 рагмы состоит в снижении уровня тяжелых примесей, поступающих с ее поверхности в плазму, в.результате чего уменьшаются потери ее энергии, увеличиваются энергетическое время удержания и стабильность разряда.The effectiveness of the proposed diaphragm 40 consists in lowering the level of heavy impurities coming from its surface to the plasma, as a result of which its energy losses are reduced, the energy retention time and the stability of the discharge are increased.

Claims (3)

1. ДИАФРАГМА ПЛАЗМЕННОЙ УСТАНОВКИ, состоящая из секторных элементов,' отличающаяся тем, что, с целью уменьшения загрязнения плазмы тяжелыми примесями и повышения ресурса работы диафрагмы, обращенная к- плазме поверхность . элементов выполнена из пористого тугоплавкого материала, поры которого заполнены твердофазным наполнителем с близким к тугоплавкому материалу значением произведения коэффициента распыления на атомный вес.1. PLASMA INSTALLATION Aperture, consisting of sector elements, 'characterized in that, in order to reduce plasma contamination with heavy impurities and increase the diaphragm service life, the surface facing the plasma. the elements are made of a porous refractory material, the pores of which are filled with a solid-phase filler with a value close to the refractory material of the product of the atomization coefficient by atomic weight. 2. Диафрагма по π. 1, о т л ичающаяся тем, что пористый слой образован тканево-нитяной тугоплавкой структурой.2. Aperture in π. 1, which is characterized in that the porous layer is formed by a fabric-thread refractory structure. 3. Диафрагма по π. 1, отличающаяся тем, что обращенная к плазме поверхность элементов образует с осью диафрагмы угол, величина которого одного порядка с ве- $ личиной отношения продольной скорости заряженных частиц в пограничном : сдое плазмы к их поперечной скорости .3. Aperture in π. 1, characterized in that the surface of the elements facing the plasma forms an angle with the axis of the diaphragm, the magnitude of which is of the same order of magnitude as the ratio of the longitudinal velocity of charged particles in the boundary: plasma flattening to their transverse velocity. т nst <w ns
SU782615041A 1978-05-10 1978-05-10 Plasma unit diaphragm SU708940A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782615041A SU708940A1 (en) 1978-05-10 1978-05-10 Plasma unit diaphragm

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU782615041A SU708940A1 (en) 1978-05-10 1978-05-10 Plasma unit diaphragm

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU708940A1 true SU708940A1 (en) 1983-10-15

Family

ID=20764333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU782615041A SU708940A1 (en) 1978-05-10 1978-05-10 Plasma unit diaphragm

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU708940A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2589638A (en) * 2019-12-06 2021-06-09 Tokamak Energy Ltd Transpirational first wall cooling

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2589638A (en) * 2019-12-06 2021-06-09 Tokamak Energy Ltd Transpirational first wall cooling
WO2021110969A1 (en) * 2019-12-06 2021-06-10 Tokamak Energy Ltd Transpirational first wall cooling

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US2863083A (en) X-ray genenrator tubes
Dyke et al. Field emission
US4610774A (en) Target for sputtering
US3342559A (en) Apparatus for producing dendrites
SU708940A1 (en) Plasma unit diaphragm
CN1274473A (en) Ligh-life electrode for high pressure discharge lamp
EP0323365A1 (en) Rotary anode for an X-ray tube
US3494852A (en) Collimated duoplasmatron-powered deposition apparatus
US4075038A (en) Deep diode devices and method and apparatus
US3887784A (en) Welding guns
US3878425A (en) Vacuum - tight carbon bodies
US3996469A (en) Floating convection barrier for evaporation source
RU2676672C1 (en) X-ray acute-focus radiator with rod anode
Fraser et al. Physical evidence of dislocations in chromium
Müller et al. Field emission microscopy
TIMOFEYEV DYNAMIC CHANGES OF VAPOUR DENSITY IN A HIGH-VOLTAGE MERCURY-ARC RECTIFIER
US3260625A (en) Electron beam method for making contacts and p-n junctions
US4157564A (en) Deep diode devices
Fane A sintered nickel matrix cathode
Aldinger et al. Isotropic growth in diffusion samples of aluminum and nickel with rotational symmetry
JPH0649628A (en) Voltaic arc vaporizer
JPH01159370A (en) Vapor deposition apparatus and evaporation source apparatus thereof, and evaporation of raw material
US3086135A (en) Mercury-vapour electric discharge apparatus
Ulrich Thermionic energy conversion diode using a film boiling liquid metal electron collector
Okamoto et al. In situ high voltage electron microscope studies of ion-and electron-beam induced modification of materials.[Ni-Al]