SU663764A1 - Расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытий - Google Patents
Расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытийInfo
- Publication number
- SU663764A1 SU663764A1 SU762324199A SU2324199A SU663764A1 SU 663764 A1 SU663764 A1 SU 663764A1 SU 762324199 A SU762324199 A SU 762324199A SU 2324199 A SU2324199 A SU 2324199A SU 663764 A1 SU663764 A1 SU 663764A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- melt
- tungsten
- coatings
- electrodeposition
- temperature
- Prior art date
Links
Landscapes
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
1
Изобретение относитс к электроосаждению металлических покрытий из расплавов, в частности покрытий из тугоплавких металлов и преимущественно вольфрамовых покрытий.
Дл электроосаждени вольфрама на катоде известны фторидноборатные расплавы с добавками окиси цинка 1 Однако эти расплавы позвол ют получать только порошкообраэующие осадки вольфрама, а добавка в них окиси Цинка приводит к понижению тока на ванне.
Наиболее близким к изобретению по составу компонентов вл етс расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытий, содержащий трехокись вольфрама и вольфрамат натри 2.
Этот расплав позвол ет получать компактные покрыти вольфрама на подложках из меди, никел , молибдена вольфрама, сплава молибден-вольфрам и графита при температуре 815-900 С и плотности тока 0,01 - 0,1 А/см.
Однако осаждение покрытий при максимально допустимой плотности тока 0,1 А/смТ может осуществл тьс при температуре расплава не ниже 900°С, а понижение температуры распла ва приводит к снижению допустимой
плотности тока, т. е. снижению интенсивйости процесса.
Цель изобретени - снизить температуру расплава и повысить допустимую плотность тока.
Это достигаетс тем, что расплав дополнительно содержит окись цинка при следующем соотношении компонентов i. мол.%:
0
Трехокись вольфрама 20-33 Окись цинка 14-19 Ёольфрамат натри Остальное Йри плотности Тока 0,1 A/CMI температура расплава может быть понижена до 715°С, а при температуре рас5 плава 900°с;осаждение ведут при плотности тока 0,3 А/см .
Услови осаждени известного и предлагаемого расплавов приведены в
0 таблице.
25
30 Из таблицы видно, что при и.спользовании предлагаемого расплава осажлрние можно осуществл ть не только при более низкой температуре, но и при более высоких плотност х тока, что позвол ет вести процесс более интенсивно. Уменьшение содержани трехокиси вольфрама в расплаве ниже 20 приводит к понижению предельного тока выделени вольфрама, а при увеличени ее содержани более 33% на катоде начинаетс образование йольфрамовых бронз. При содержании окиси цинка в расп лаве менее 14 % на катоде также начинают соосаждатьс совместно с воль фрамом вольфрамовые бронзы. Повьп ение содержани окиси цинка в расплаве приводит к повышению температуры плавлени расплава, что технологичес ки нецелесообразно. Параметр решетки осадков, получен ных в расплаве при услови х, указанных в таблице - 3,.165 А° что соответ ствует чистому фольфраму. Микротвердость получаемых покрытий составл ет 38 5-4бО кг/см . При изгибе образцов на 90° покрытие не отслаиваетс от подложки. Использование расплава может быть проиллюстрировано примерами. Пример. Из расплава, со держащего, мол.%: трехокись вольфрама 30, окись цинка 17,5, вольфрамат натри 52,5, при плотности тока 0-,2 А/см: и температуре 750с осаждают на медной подложке вольфрамо- вое покрытие толщиной 100 мкм за 60 мин электролиза. Использование этого расплава при температуре иdк 0,3 А/см позвол ет получать в течение указанного времени покрытие тол Диной 150 мкм. Пример2.В расплаве,содержащем , мол.%: трехокись вольфрама 26,6, окись цинка 18,3, вольфрамат; натри 55,1 при температуре 715°С иок 0,1 А/см в течение 60 мин на медной подложке осаждают покрытие толщиной 50 мкм. Помимо меди из предлагаемого расплава вольфрамовые покpkти осаждают на подложках из молибдена , никел и графита. 1ормула изобретени Расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытий, содержащий «трехокись вольфрама и вольфрамат натри , отличающийс тем, что, с целью снижени температуры и повышени допустимой плотности тока, он дополнительно содержит окись цинка при следующем соотношении компонентов , мол.%; . Трехокись вольфрама 20-33 Окись цинка14-19 Вольфрамат натри Остальное Источники информации, прин тые во внимание при экспертизе I.Trans of the EeectnochemkaB Soc. V. 84, 1943, p. 33. 2. Барабошкин A. H. и др. Структура сплошных осадков вольфрама, полученных электролизом расплава WOg. Труды института электрохимии Уральского научного центра iH СССР , 1974, вып. 21, с. 66-71.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762324199A SU663764A1 (ru) | 1976-02-09 | 1976-02-09 | Расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытий |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU762324199A SU663764A1 (ru) | 1976-02-09 | 1976-02-09 | Расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытий |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU663764A1 true SU663764A1 (ru) | 1979-05-25 |
Family
ID=20648823
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU762324199A SU663764A1 (ru) | 1976-02-09 | 1976-02-09 | Расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытий |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU663764A1 (ru) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2458189C1 (ru) * | 2010-12-07 | 2012-08-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ) | Электролит для нанесения покрытий на электропроводящие и неэлектропроводящие материалы |
CN105200471A (zh) * | 2015-10-28 | 2015-12-30 | 南京信息工程大学 | 一种脉冲反向电沉积厚钨涂层的方法 |
-
1976
- 1976-02-09 SU SU762324199A patent/SU663764A1/ru active
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2458189C1 (ru) * | 2010-12-07 | 2012-08-10 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Кабардино-Балкарский государственный университет им. Х.М. Бербекова" (КБГУ) | Электролит для нанесения покрытий на электропроводящие и неэлектропроводящие материалы |
CN105200471A (zh) * | 2015-10-28 | 2015-12-30 | 南京信息工程大学 | 一种脉冲反向电沉积厚钨涂层的方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5039576A (en) | Electrodeposited eutectic tin-bismuth alloy on a conductive substrate | |
US4101389A (en) | Method of manufacturing amorphous alloy | |
White et al. | The chemistry and electrochemistry associated with the electroplating of group VIA transition metals | |
US2724687A (en) | Baths for the deposit of gold alloys by electroplating | |
US4013523A (en) | Tin-gold electroplating bath and process | |
US3161575A (en) | Copper pyrophosphate electroplating solutions | |
US4234396A (en) | Chromium plating | |
Gomez et al. | Tin–cobalt electrodeposition from sulfate–gluconate baths | |
SU663764A1 (ru) | Расплав дл электроосаждени вольфрамовых покрытий | |
US2950233A (en) | Production of hard surfaces on base metals | |
US2435967A (en) | Bright alloy plating | |
US2923671A (en) | Copper electrodeposition process and anode for use in same | |
US4159926A (en) | Nickel plating | |
US4155817A (en) | Low free cyanide high purity silver electroplating bath and method | |
US3827954A (en) | Electrodeposition of metallic boride coatings | |
US4274926A (en) | Process for the electrolytic deposition of silver and silver alloy coatings and compositions therefore | |
US3984291A (en) | Electrodeposition of tin-lead alloys and compositions therefor | |
US6207036B1 (en) | Electrolytic high-speed deposition of aluminum on continuous products | |
US4111760A (en) | Method and electrolyte for the electrodeposition of cobalt and cobalt-base alloys in the presence of an insoluble anode | |
US2429970A (en) | Silver plating | |
US3920527A (en) | Self-regulating plating bath and method for electrodepositing chromium | |
JPH0684553B2 (ja) | 金/スズ合金被膜の電着浴 | |
US2494205A (en) | Nickel plating | |
US4428804A (en) | High speed bright silver electroplating bath and process | |
US3514272A (en) | Process for vanadiding metals |