SU605822A2

SU605822A2 - Solution for chemical etching of metals

Info

Publication number: SU605822A2
Application number: SU762413321A
Authority: SU
Inventors: Валерий Васильевич Исаев; Владимир Ильич Кучеренко; Валерий Николаевич Флеров
Original assignee: Горьковский политехнический институт им.А.А.Жданова
Priority date: 1976-10-18
Filing date: 1976-10-18
Publication date: 1978-04-05

Description

Изобретение относитс к химической обработке поверхности металлов, в «шстности к растворам д химического травлени меди и ее сплавов и может найти применение при производстве петатных схем в радиоэлектронной и приборостроительной g промышленности.The invention relates to the chemical treatment of the surface of metals, to solutions for chemical etching of copper and its alloys, and can be used in the manufacture of petate circuits in the radio electronic and instrument-making industry.

По основному авт. св. № 522282 известен раствор дл химического 1равле1ш металлов, содержащий 28-36 вес.% хлорного железа и 64-72 вес.% ацетонит{ 1ла Ц.ЮAccording to the main author. St. No. 522282 is a known solution for chemical 1ravle metal, containing 28–36 wt.% Ferric chloride and 64–72 wt.% Acetonite {1la C.U.

Скорость травлени меди при использовании этого раствора 9,2-10,8 мг/см - мин.The rate of copper etching when using this solution is 9.2-10.8 mg / cm - min.

С целью повышени эффективности травлени за счет увелитени скорости травлени предлагаемый раствор содержит производное аналина в количестве|5 1-2 вес.%.In order to increase the etching efficiency by increasing the etching rate, the proposed solution contains an analyte derivative in an amount of 5–5 wt.%.

В качестве производного анилина может быть использован пара-метоксианилин.Para-methoxyaniline can be used as an aniline derivative.

Введение этой добавки обеспечивает большую эффективность травлени металлов, в частности ско- 20 рость травлени меди повышаетс с 9,2-10,8 до 16-18 мг/см.мин.The introduction of this additive provides greater efficiency in the etching of metals, in particular, the rate of etching of copper increases from 9.2-10.8 to 16-18 mg / cm / min.

Дл приготовлени раствора навеску хлорного железа раствор ют при нормальных услови х в ацетонитриле и к раствору прибавл ют пара-метокси- 25To prepare the solution, the ferric chloride was dissolved under normal conditions in acetonitrile and para-methoxy-25 was added to the solution.

анилин. Процесс травлени осуществл ют при 8-10 и перемешивании раствора.aniline. The etching process is carried out with 8-10 and stirring the solution.

Пример. Образцы из меди марки М-1 погружают в раствор состава (в вес.%): хлорное железо 28, ацетонитрил 70, пара-метокснанилин 2. Процесс ведут при 10°С и перемещивании раствора. При введении пара-метоксианилина скорость травлени повьшветс с 9,2 до 18 мг/см мин.Example. Samples of copper grade M-1 immersed in a solution of the composition (in wt.%): Ferric chloride 28, acetonitrile 70, para-methoxnaniline 2. The process is carried out at 10 ° C and moving the solution. With the introduction of para-methoxyaniline, the etching rate is higher from 9.2 to 18 mg / cm min.

П р и м е р 2. Опыт провод т по примеру 1, но используют раствор состава (в вес.%): хлорное железо 28, ацетонитрил 71, пара-метоксиани;шн 1.PRI mme R 2. The experiment was carried out as in Example 1, but using a solution of the composition (% by weight): ferric chloride 28, acetonitrile 71, para-methoxyane;

Скорость травлени увеличиваетс с 9,2 до 16 мг/см /мин.The etching rate increases from 9.2 to 16 mg / cm / min.

При введении органической добавкн ч количестве меньще 1 вес.% скорость травлени снижаетс , а больще 2 вес.% повышаетс незначительно.With the introduction of an organic additive quantity less than 1 wt.%, The etching rate decreases, and more than 2 wt.% Increases slightly.

Предлагаемый раствор обеспечивает повышение скорости травлени и, следовательно, экономические преимущества по сравнению с известными растворами .The proposed solution provides an increase in the rate of etching and, consequently, economic advantages compared with the known solutions.

Claims

1. I cTBop dp chemical etching of metals by author. St. No. 522282, about the fact that, in order to increase the effectiveness of

By their 38 counting, the rate of etching will increase, he will co-Sources of information, at the same time, will keep the derivative attack in the amount of 1-2 wt.%, during examination:

2. pvvvor pop. 1, honors

topics that as an aniline derivative it contains 1. Copyright meteorstvom USSR N 522282,

lived parv-mvtoksianilin.5kl. C 23 F 1/00, 07.25.76.

605822