SU517078A1

SU517078A1 - The method of applying antidinatron coating

Info

Publication number: SU517078A1
Application number: SU2074273A
Authority: SU
Inventors: Александр Козьмич Михалев; Сергей Владимирович Лебединский; Юрий Григорьевич Малынин; Лев Гавриилович Шерстнев; Евгений Николаевич Князятов; Владимир Габицович Гостиев
Original assignee: Предприятие П/Я В-2058
Priority date: 1974-11-10
Filing date: 1974-11-10
Publication date: 1976-06-05

Description

1one

Изобретение относитс к способам нанесени антидинатронного покрыти , например, на Ieтaлличecкиe электроды электровакуумных приборов (ЭВП).The invention relates to methods for applying an anti-dinatron coating, for example, to electric metallic electrodes (EVE) electrodes.

Известен способ получени антидинатронного покрыти , например, из углерода на металлических детал х электронных ламп, в частности на электродах, путем электролитического осаждени материала покрыти . Способ состоит в том, что на предварительно окисленные на воздухе поверхности металлическгх деталей методом электрофореза наноситс слой формиата никел , на который затем наноситс также второй слой из окиси никел . Покрытые таким способом детали отжигаютс в водороде.A method is known for producing an anti-dinatron coating, for example, from carbon on metal parts of electron tubes, in particular on electrodes, by electrolytic deposition of the coating material. The method consists in that a layer of nickel formate is applied onto the surfaces of the metal parts previously oxidized in air by electrophoresis, which is then also coated with a second layer of nickel oxide. The parts coated in this way are annealed in hydrogen.

Однако образующа с в результате отжига пориста губчата поверхность адсорбирует остаточные газы, что приводит к длительному I aзooтдeлeншo в процессе откачки и работы прибора. Покрыти из окислов разлагаютс под действием электронной бомбардировки , что приводит к нестабильности вторичноэмиссионных свойств в процессе работы прибора. Кроме того, получаемое покрытие имеет существенно более низкую электропроводность , чем медь, что приводит к ухудшению резонансных систем ЭВП и росту потерь на высокой частоте.However, the porous sponge-like surface formed as a result of the annealing adsorbs residual gases, which leads to a long period of time during pumping and operation of the device. The oxide coatings decompose under the action of electron bombardment, which leads to instability of the secondary emission properties during operation of the device. In addition, the resulting coating has a significantly lower electrical conductivity than copper, which leads to a deterioration of the resonant EEC systems and an increase in losses at high frequency.

Целью изобретени вл етс повышение стабильности антидинатронных свойств покрыти и увеличение электропроводности покрыти до величины, практически не отлича7ощейс от таковой дл меди.The aim of the invention is to increase the stability of the antidinatronic properties of the coating and to increase the electrical conductivity of the coating to a value that is practically no different from that of copper.

Предлагаемый способ нанесени антидинатронного покрыти на металлические электроды путем электролитического осаждени металла с последующим отжигом отличаетс от известных тем, что в электролит, например , меднени ввод т мелкодисперсный порошок материала, имеющего низкий коэффиент вторичной электронной эмиссии, например углерод, и провод т процесс электролитического осаждени при непрерывном перемешивании .The proposed method of applying an anti-dinatron coating on metal electrodes by electrolytic metal deposition with subsequent annealing differs from the known ones in that electrolyte, for example, copper plating, injects fine powder of a material having a low secondary electron emission coefficient, such as carbon, and continuous mixing.

Дл нанесени антидинатронного покрыти берут электролит, например, следующего состава (в вес.%):For the application of an anti-dinatron coating, an electrolyte is taken, for example, of the following composition (in weight%):

CuS048-9CuS048-9

Claims

, 8-2,5 82.0-84,4 in which fine powder was introduced, for example, carbon grade C-1 in the amount of 5.8-6.5 wt.%. Purified electrodes are loaded into the electrolyzer, and the surfaces not subject to coating are insulated with acid-resistant varnish, and with continuous stirring of the electrolyte, room temperature and a cathode current density of 45 a / dm, coating is deposited for 1-2 minutes. The parts are then annealed in a vacuum of 1O - 1O torr at a temperature of 600-700 ° C for 10-15 minutes. The coating obtained has a maximum secondary electron emission coefficient of 6 O, 9i.O, 95. Thus, the proposed method of applying an anti-dinatron coating allows to reduce the coefficient of secondary electron emission of metal parts of EEC to a value of e 0.9vO, 95, to ensure good electrical conductivity of the coating, practically no different from that of copper, to improve the stability of the properties of the coating, to achieve uniformity applied coating thickness regardless of the configuration of the coated parts. Claims of Invention A method for applying an anti-dinatron coating, for example carbon, on parts of electronic tubes, in particular on electrodes. by electrolytic deposition of the coating material, characterized in that, with an increase in the stability of the anti-dinatronic properties and the electrical conductivity of the coating, the powder of the material is introduced into the copper electrolyte, after which the deposition process is carried out with continuous stirring.