SU449119A1 - Evaporator - Google Patents
EvaporatorInfo
- Publication number
- SU449119A1 SU449119A1 SU1764156A SU1764156A SU449119A1 SU 449119 A1 SU449119 A1 SU 449119A1 SU 1764156 A SU1764156 A SU 1764156A SU 1764156 A SU1764156 A SU 1764156A SU 449119 A1 SU449119 A1 SU 449119A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- evaporator
- width
- tape
- channel
- edges
- Prior art date
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
1one
Изобретение относито к области нанзсени покрытий в вакууме и мо ет быть использовано дл металлизации лентопрот жных материалов .The invention relates to the field of coating deposition in vacuum and can be used for the metallization of tape materials.
Известен испаритель дл металлизации лентопрот жных материалов в вакууме, выполненный в в де основы лэ огнеупорного материала с каналом посто нного свченй дл испар емого материала. Однако он не позвол ет получать равномерные покрыти по ширина ленты, если лента и испаритель имеют близкие по ширина размеры. Толщина покрыти по кра м ленты меньше, чем в центральной части.A known evaporator for the metallization of tape-holding materials in vacuum, made in the base of a refractory material with a constant-wave channel for the evaporated material. However, it does not allow uniform coatings to be obtained on the width of the tape, if the tape and the evaporator are of similar width to the width. The thickness of the coating along the edges of the tape is less than in the central part.
Цель изобретени - получение равномерного покрыти по всей ширине ленты. Это достигаетс тем, что ширина и глубина канала выполнены переменными по его длине, причем ширина канала в центре испарител составл ет 0,4 4 0,9 его ширины по кра м.The purpose of the invention is to obtain a uniform coating over the entire width of the tape. This is achieved in that the width and depth of the channel are made variable along its length, and the width of the channel in the center of the evaporator is 0.4 4 0.9 of its width along the edges.
22
На чертеже представлен прадложаннай испаритель.The drawing shows the great evaporator.
Испаритель выполнен в виде основы I из огнаупооного материала 5 с каналом 2 посто нного поперечного сечени дл испар емого материала 3, Ширина и глубина канала 2 выподнаны паременными. Ширина канала 2 в центров испарител составл ет 0,4 f 0,9 его mispHHbi по кра м. Испариталь снабжен токоподводам 4.The evaporator is made in the form of a base I of a fireproof material 5 with a channel 2 of constant cross section for the evaporated material 3, the width and depth of the channel 2 are extruded. The width of channel 2 in the centers of the evaporator is 0.4 f 0.9 its mispHHbi along the edges. The evaporator is equipped with current leads 4.
Испаритель работает следующим образом.The evaporator works as follows.
Металлизируема лента 5 дви5 жвтс вдоль центральной оси 6 испарител . Ширина ланты 5 равна (или близка) по жрине зоне испарени . Испар емый штериал нагреваетс за счет пропускани через него 0 посто нного или переменного тока. Ток к испар емому материалу подводитс с помощью охлаждаемых токоподводов 4, вваренных в твердую часть материала 3 и вынесенных за 5 пределы зоны испарени . В канале 2 поддаркиваетс посто нный уровень испар емого матариала« Скорость испарени регулируетс за счет изменени температуры процесса путем изменени подводимой к испарителю мощ1-юсти, Вследствие посто нства поперечного сечени расплавленного материала электросопротивление его, а следовательно, температура и скорость испарааи с единицы поверхности будут величинами посто нными. Зна закон распределонж частиц при испарении дл различной ширины металлизируемой ленты и удалени ее от испарител , можно наи ти такие соотношени ширины канала в центре и у краев испарител и такой переход по ширине от центра к кра м, которые позвол т получить одинаковую плотность испарившихс частиц у поверхности ленты по всей ее Ширине, Это обеспечивает равномерную металлизацию ленты. ПРЕЩМБТ ИЗОБРйТШШ 1,Испаритель дл металлизации лентопрот жных материалов в вакууме, выполненный в виде основы из огнеупорного материала с каналом посто нного поперечного сечени дл испар емого материала, отличающийс тем, что с целью получени равномерного покрыти по ширине ленты, ширина и глубина канала выполнены переменными по его дл не. 2,Испаритель по п. I, о тличающийс тем, что ширина канала в центре испарител составл ет 0,4 } 0,9 его ширины по кра м.The metallizable tape 5 moves along the central axis 6 of the evaporator. The width of the lanta 5 is equal (or close) along the evaporation zone. The vaporized material is heated by passing 0 constant or alternating current through it. The current to the evaporating material is supplied by means of cooled current leads 4, welded into the solid part of material 3 and placed outside the 5 limits of the evaporation zone. Channel 2 podarkivatsya constant level of evaporated material. The evaporation rate is controlled by changing the process temperature by changing the power supplied to the evaporator. Due to the constant cross section of the molten material, its electrical resistance and, therefore, the temperature and rate of evaporation from a surface unit will be constants. By knowing the law of particle distribution during evaporation for different widths of the metallized ribbon and its removal from the evaporator, one can find such ratios of the channel width in the center and at the edges of the evaporator and such a transition in width from the center to the edges to obtain the same density of evaporated particles. the surface of the tape across its width, It provides a uniform metallization of the tape. PREAMBT IZOBRYTSHSH 1, Evaporator for metallization of tape materials in vacuum, made in the form of a base of refractory material with a channel of constant cross section for evaporated material, characterized in that in order to obtain a uniform coating across the width of the tape, the width and depth of the channel are variable for its dl not. 2, the evaporator of claim I, characterized in that the channel width in the center of the evaporator is 0.4} 0.9 of its width at the edges.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1764156A SU449119A1 (en) | 1972-03-28 | 1972-03-28 | Evaporator |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU1764156A SU449119A1 (en) | 1972-03-28 | 1972-03-28 | Evaporator |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU449119A1 true SU449119A1 (en) | 1974-11-05 |
Family
ID=20508006
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
SU1764156A SU449119A1 (en) | 1972-03-28 | 1972-03-28 | Evaporator |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
SU (1) | SU449119A1 (en) |
-
1972
- 1972-03-28 SU SU1764156A patent/SU449119A1/en active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3183563A (en) | Apparatus for continuous foil production by vapor deposition | |
CA1061656A (en) | Coating device | |
BE848500A (en) | PROCESS FOR COVERING BY REACTIVE ION DEPOSITION AN INSULATING SUBSTRATE WITH AN OXIDE LAYER OF AT LEAST ONE METAL, | |
JPS59208069A (en) | Evaporation device having radiation heat portion for evaporating many substances | |
JPS5210869A (en) | Thin film forming method | |
US4682565A (en) | Vapor nozzle with gas barrier bars | |
US3735728A (en) | Apparatus for continuous vacuum deposition | |
SU449119A1 (en) | Evaporator | |
US5122389A (en) | Vacuum evaporation method and apparatus | |
US3552352A (en) | Electron beam vaporization coating apparatus | |
US3799792A (en) | Vapor deposition method | |
US3058842A (en) | Evaporation method | |
US3104178A (en) | Evaporative coating method | |
US2762722A (en) | Method and apparatus for coating by thermal evaporation | |
US2812411A (en) | Means for vapor deposition of metals | |
JPH06136537A (en) | Vacuum vapor deposition device for continuous band-shaped material | |
JP3399570B2 (en) | Continuous vacuum deposition equipment | |
KR0160067B1 (en) | Vapor source heated by resistance for vacuum deposited steel sheet | |
KR0138040B1 (en) | Method for arrangement of double vapor source | |
US6432281B2 (en) | Process for formation of a coating on a substrate | |
US3575132A (en) | Vapor deposition apparatus | |
DE1521174B2 (en) | METHOD FOR THERMAL EVAPORATION OF A MIXTURE OF SUBSTANCES IN A VACUUM | |
US3476525A (en) | Production of boron carbide flakes | |
KR20050060345A (en) | Patterned source and method for depositing thin film by using the same | |
SU863716A1 (en) | Coating device |