SU411542A1 - - Google Patents

Info

Publication number
SU411542A1
SU411542A1 SU1758285A SU1758285A SU411542A1 SU 411542 A1 SU411542 A1 SU 411542A1 SU 1758285 A SU1758285 A SU 1758285A SU 1758285 A SU1758285 A SU 1758285A SU 411542 A1 SU411542 A1 SU 411542A1
Authority
SU
USSR - Soviet Union
Prior art keywords
ions
negative
source
negative ions
plasma
Prior art date
Application number
SU1758285A
Other languages
Russian (ru)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to SU1758285A priority Critical patent/SU411542A1/ru
Application granted granted Critical
Publication of SU411542A1 publication Critical patent/SU411542A1/ru

Links

Landscapes

  • Particle Accelerators (AREA)

Description

1one

Изобретение относитс  к области получени  пучков отрицательных ионов дл  ускорителей зар женных частиц.The invention relates to the field of producing negative ion beams for accelerators of charged particles.

В известных плазменных источниках отрицательных ионов с молекул рным рабочим веществом атомарные отрицательные ионы образуютс  при диссоциативных столкновени х электронов с молекулами. Большое значение имеет и диссоциативное прилипание при столкновении электронов с положительными молекул рными ионами. Конкурирующими процессами при этом  вл ютс  разрушение отрицательных ионов электронным ударом, рекомбинаци  с положительными ионами, отш,епление электронов при столкновени х и т. Д.In the known plasma sources of negative ions with a molecular working substance, atomic negative ions are formed during dissociative collisions of electrons with molecules. Dissociative sticking when electrons collide with positive molecular ions is also of great importance. The competing processes here are the destruction of negative ions by electron impact, recombination with positive ions, otsh, the deposition of electrons during collisions, etc.

Необходимость высокой концентрации молекул обуславливает низкую газовую экономичность плазменных источников отрицательных ионов и ограничивает интенсивность пучков из-за необратимых потерь отрицательных ионов при столкновени х с молекулами после выхода иона из плазмы.The need for a high concentration of molecules causes the low gas efficiency of the plasma sources of negative ions and limits the intensity of the beams due to the irreversible loss of negative ions during collisions with molecules after the ion leaves the plasma.

Дл  повышени  интенсивности пучков отрицательных ионов, получаемых из плазменных источников, по предлагаемому способу в газоразр дную камеру источника вместе с основным рабочим веществом подают вещество с малым потенциалом ионизации, например иезий. Благодар  этому увеличиваетс  скорость образовани  отрицательных ионов (всзмсжно за счет квазирезонансной перезар дки отомов рабочего вещества на возбужденных атомах добав;;и).In order to increase the intensity of negative ion beams, obtained from plasma sources, according to the proposed method, a substance with a low ionization potential, for example, Iesium, is supplied to the gas discharge chamber of the source. Due to this, the rate of formation of negative ions is increased (due to the quasi-resonant recharging of the otoma of the working substance on the excited atoms, add ;;).

При добавлении паров цези  в водородный разр д с поперечным магнитным полем максимальный ток отрицательных ионов водорода увеличиваетс  в несколько раз, уменьшаетс When cesium vapor is added to a hydrogen discharge with a transverse magnetic field, the maximum current of negative hydrogen ions increases severalfold, decreases

падение напр жени  на разр де, облегчаетс  его зажигание.the voltage drop on the discharge, its ignition is facilitated.

В импульсном режиме (длительность импульса 10 сек) Из плазменного источника с плгзмотронной гсометр ей разр дной камерыIn a pulsed mode (pulse duration 10 sec) From a plasma source with a plasma meter and discharge chamber

при добавлении паров цези  можно получить ПУЧОК отрицательных ионов водорода с током 20 мА при размерах змиссиоиной 0,5Х X 10 Л1МWith the addition of cesium vapors, it is possible to obtain a BUNCH of negative hydrogen ions with a current of 20 mA and an emissioin size of 0.5X X 10 L1M

Предмет изобретени Subject invention

Снособ получени  отрицательных ионов из гозорсзр дного источника, отличающийс  тем, что, с целью повышени  эффективности источника, в разр дну1р камеру источника вместе с основным рабочим веществом подают веп ество с мзлым потенциалом ионизации, например цезий.A method for obtaining negative ions from a radiation source, characterized in that, in order to increase the efficiency of the source, a source with a dead ionization potential, such as cesium, is fed into the discharge chamber of the source together with the main working substance.

SU1758285A 1972-03-10 1972-03-10 SU411542A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1758285A SU411542A1 (en) 1972-03-10 1972-03-10

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
SU1758285A SU411542A1 (en) 1972-03-10 1972-03-10

Publications (1)

Publication Number Publication Date
SU411542A1 true SU411542A1 (en) 1974-01-15

Family

ID=20506217

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
SU1758285A SU411542A1 (en) 1972-03-10 1972-03-10

Country Status (1)

Country Link
SU (1) SU411542A1 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013096519A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-27 Muons, Inc. Method and apparatus for surface plasma source (sps) with anode layer plasma accelerator
WO2013096518A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-27 Muons, Inc Method and apparatus for an absolute beam brightness detector

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2013096519A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-27 Muons, Inc. Method and apparatus for surface plasma source (sps) with anode layer plasma accelerator
WO2013096518A1 (en) * 2011-12-20 2013-06-27 Muons, Inc Method and apparatus for an absolute beam brightness detector

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5162699A (en) Ion source
GB1489138A (en) Multiple particle type interaction isotopically selective ionization
Horie et al. Radiative Collisions between Electronic and Molecular Beams I. Angular Momentum Distribution among OH* Radicals resulting from H 2 O Molecules
SU411542A1 (en)
US3890535A (en) Ion sources
US9773636B2 (en) Apparatus and method for generating high current negative hydrogen ion beam
JPH0724240B2 (en) Fast atom beam source
Lejeune Theoretical and experimental study of the duoplasmatron ion source: Part II: Emisive properties of the source
Dudnikov Forty-five years with cesiated surface plasma sources
Zinchenko et al. Pulsed hollow-cathode ion lasers: pumping and lasing parameters
US4419582A (en) Use of autoionization transition absorption peaks in isotopically selective photoexcitation
Sharkov et al. Highly charged ions from Nd-laser produced plasma of medium and high-Z targets
SU908193A1 (en) Ion source
Hubbard Heavy-Ion Accelerators
RU2127925C1 (en) Vircator
Sekioka et al. Ion storage in Kingdon trap
Sereda et al. Modulation of negatively charged particle flux from penning discharge with metal hydride cathode
Dudnikov et al. Advanced Large Volume Surface Plasma H-/D-Source Neutral Beam Injectors
SU506426A1 (en) Method for producing ions, for example, for mass spectrometry analysis
US3084273A (en) High current radio frequency ion source
Teng et al. Dissociative ionization and Coulomb explosion of ethyl bromide under a near-infrared intense femtosecond laser field
Stuke Laser Multiphoton Ionization of Molecules and Application
SU1102475A1 (en) Ion accelerator
Kohno et al. Production of Multiply-Charged Ions of Ne, Ar, Kr and Xe by the Electron-Bonbarded Hot Cathode IoN Source of IPCR
RU2030015C1 (en) Hollow cathode of plasma ion emitter