SU290582A1 - Электрофотографический материал - Google Patents
Электрофотографический материалInfo
- Publication number
- SU290582A1 SU290582A1 SU1305708A SU1305708A SU290582A1 SU 290582 A1 SU290582 A1 SU 290582A1 SU 1305708 A SU1305708 A SU 1305708A SU 1305708 A SU1305708 A SU 1305708A SU 290582 A1 SU290582 A1 SU 290582A1
- Authority
- SU
- USSR - Soviet Union
- Prior art keywords
- layer
- acid
- sensitizer
- sensitivity
- electrophotographic
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 16
- -1 acyl halo Chemical group 0.000 description 20
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 231100000489 sensitizer Toxicity 0.000 description 15
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 13
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 11
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 5
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminum Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atoms Chemical class [H]* 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N methylene dichloride Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N propionic acid Chemical compound CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004860 4-ethylphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M Perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- LSAYHSOJNXABRH-UHFFFAOYSA-M [H-].[Cl-] Chemical compound [H-].[Cl-] LSAYHSOJNXABRH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 2
- 150000008064 anhydrides Chemical group 0.000 description 2
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N cinnamic aldehyde Natural products O=C\C=C\C1=CC=CC=C1 KJPRLNWUNMBNBZ-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZXUCPZPIQOICJ-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(N-phenylanilino)phenyl]hexan-1-ol Chemical compound C1=CC(C(O)CCCCC)=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JZXUCPZPIQOICJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N AcOH acetic acid Chemical compound CC(O)=O.CC(O)=O YBCVMFKXIKNREZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 1
- BKIKRRUKWYJTEU-UHFFFAOYSA-N CCC.OC(=O)c1ccc(cc1)C(O)=O Chemical compound CCC.OC(=O)c1ccc(cc1)C(O)=O BKIKRRUKWYJTEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002301 Cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N Chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N EtOH Substances CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004142 LEXAN™ Polymers 0.000 description 1
- 239000004418 Lexan Substances 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N Maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940050176 Methyl Chloride Drugs 0.000 description 1
- 241001024304 Mino Species 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene (PE) Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N Pyrylium salt Chemical compound C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 1
- FBCNRCVXBGRPQU-UHFFFAOYSA-N bromo benzoate Chemical compound BrOC(=O)C1=CC=CC=C1 FBCNRCVXBGRPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229940117916 cinnamic aldehyde Drugs 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 1
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical class 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- 239000012184 mineral wax Substances 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 229920000205 poly(isobutyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000003334 potential Effects 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000007659 semicarbazones Chemical class 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing Effects 0.000 description 1
- 231100000202 sensitizing Toxicity 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
Description
Изобретение касаетс электрофотографического материала с применением органического фотополупроводника - триариламина. Известен электрофогографический материал , состо щий из подложки и фотополупроводникового сло , включающего органический фотополупроводник - триариламин, полимерное св зующее и сенсибилизатор - пирилиевый краситель. Этот электрофотографический материал имеет недостаточную фоточувствительность. Цель изобретени - увеличение фоточувст-вительности материала. Дл этого электрофотографический материал изготовл ют из под ,ложки и фотополупроводникового сло , включающего органический фотополупроводник .следующей общей формулы -Агз -( где Аг1 и Аг2 -фенил или замещенный фенил; Агз -фенил или нафтил; Ri и R2--водород, алкил, фенил или замещенный фенил; х - водород , карбокси-, ацилгалогено-, амидогруппа, ангидридный или эфирный остаток, циан-, оксигруппа , остаток семнкарбазона, этинильный или метилиденоксимидный радикал; п 0, 1.2 или 3, полимерное св зующее и сенсибилизатор - пирилиевый краситель. Винильный или виниленовый радикал может быть замещен в любом положении ариленового дра. Однако если Агз - фенилен, то получаютс наиболее удачные результаты в случае замещени в п-положение: Метил-и-дифениламинобензоат, N,N-Дифeнилaнтpaнилoвa кислота, 3- г-Дифeнилaминoфeннлпpoпaнoл-1, 4-Ацетилтрифениламиносемикарбазон, Этил-2,6-Дифенил-4 - (i-дифениламинофенил )-бензоат, 1 - (п-Дифениламинофенил) -1 -оксибутин-3, 4-Оксиметилтрифениламин, 1 - (л-Днфениламинофенил)-этанол, 4-Окситрифениламин, 2-Окситрифениламин, 4-Формилтрифениламиноксим, 4-Ацетилтрифениламиноксим, 1-(п-Дифениламинофенил)-гексанол, 1 - ( -Дифениламинофенил) -додеканол, Ангидрид /г-дифениламинобензойной кислоты , 1,Ы-Дифениламид /г-дифениламинобензойной кислоты, кислоты.
З-л-Дифениламинофеиилпропионова кислота ,
4-Формилтрифенилами1Юсемикарбазон, 4- (л-Дифениламинофенил) -бутен-3-ин-1, л-Дифениламиностирол, Этил-л-дифениламиноциннамат, Метил-л-дифенилами;юциннамат, Хлорангидрид /г-дифеыиламиноцнннамоила, N,N-Дифeнилaмид л-дифениламинокоричнон кислоты,
Ангидрид л-дифениламинокоричной кислоты, 3- (л-Дифениламинофенил) -2-бутенова кислота .
Бис- (л - Дифениламинобензаль) - нтарна кислота,
4-N,N-6Hc - (л - Бромфеиил) - аминокорична кислота,
1- (4-Дифенила)Мино) -иафтакрилова кислота ,
л-Дифениламииокорична кислота, л-Дифеииламиноцианнамонитрил, 7-Дифениламинокумарии, л-Дифениламинофенилвииил акрилова кислота ,
л - Дифеииламинобеизил - л - дифениламииокорична кислота, 7- (л-Дифениламинстирил) -кумарин, л-Дифениламинокоричиый сиирт, Семикарбазон 4-дифениламинокор11чного альдегида,
о - л - Дифеииламиноцианнамоил - п - дифениламинобеизальдегидоксим ,
п-Дифениламиноциннамальдегидоксим, 1,3-бис - (л-Дифениламииофенил) - ироиаи2-ОЛ-1 .
Электрофотографический материал можег быть нолучен обычным иутем.
Дл этого смешивают дисиерсию или раствор фотонровод щего соединени со св зующим веществом и нанос т на иодложку или образуют самодержащийс слой. Можно нримен ть и смеси онисаииых соедииеиий, а также смеси известных фотоиолуироводников с нриведенными выше. добавить еще вещества , меи ющие спектральную или электрофоточувствительность материала. Фотополуироводниковые соединени но данному изобретению не чувствительны к свету в отсутствие сенсибилизатора. Но можно примен ть большое число веществ, сообн ающих фотоиолуироводникам сиектральную чувствительность. Установлено, что нирнлиевые соли, а именно иирилиева , тиаиирилиева и селенапирилиева из натента США № 3250615, особенно иодход т дл сенсибилизации этих соединений, приобретающих высокую электрическую чувствительиость .
Если примен ют сенсибилизатор в составе фотоиолунроводиикового сло , то смешивают необходимое его количество с иокрывной композицией . При изготоБлепин фотоировод щих слоев нет необходимости вводить сенсибилизатор дл достижени фотопроводимости. Однако поскольку сравиительно небольшие количества сенсибилизатора существеиио улучшают
электрофотографическую чувствительность таких слоев, то иримен ют небольшое количество сенсибилизатора, которое может быть введено в фотоировод щий слой дл нолучени эффективного увеличени чувствительности, может колебатьс в широких пределах. Оптимальна кониентраци сло будет зависеть ог свойств фотоиолуироводника и сенсибилизатора . Как иравило, можно добитьс значительиого иовыщени чувствительности ири добавлеиии сенсибилизатора в количестве 0,0001- 30 вес. % от веса пленкообразующей иокрывиой композиции. Обычио сенсибилизатор добавл ют в количестве 0,005-5,0% от веса
всей комиозиции.
В качестве св зующих веществ дл получаемых фотонолуировод щих слоев мо/кно примен ть иолимерные св зующие вещества с довольно больщой диэлектрической ироницаемостью , которые иредставл ют собою электроизолирующие иленкообразующие св зующие. К ним относ тс сополимеры стирола с бутадиеном , силиконовые смолы, стиролалкидные смолы, силиконалкидиые смолы, соевоалкидиые смолы, иоливинилхлорид, иоливинилидеихлорид , сополимеры винилиденхлорида и акрилонитрила , иоливиинлацетат, сополимеры винилхлорида и винилацетата, иоливииилацетали , например ноливинилбутираль, сложные
эфиры иолиакриловой и метакриловой кислот, например полиметилметакрилат, поли-н-бутилметакрилат , полиизобутилметакрилат и др., полистирол, нитрат иолистирола, полиметилстирол , изобутиленовые полимеры, иолиэфиры,
например полиэтиленалкарилоксиалкилентерефталат , фенолоформальдегидные смолы, кетонные смолы, полиамиды, иоликарбонаты, иолитиокарбонаты , иолиэтиленгликольбисоксиэгоксифенилпропантерефталат , замещенные в дре вииилгалогенарилаты, например поливинилбромбензоатвииилацетат и т. д.
Способы получени смол этого типа описаны . Например, стиролалкидные смолы можно иолучить ио иатентам США № 2361019 и
2 258 423). Подход щие смолы такого тииа выпускаютс иод названи ми «Витель РЕ-101, «Симак, «Пиккоиейл-100, «Саран F-220 и «Лексаи-105. Другие тииы св зующих, используемых дл фотонровод щих слоев изобретени , включают такие веидества, как иарафии, минеральные воски и т. д.
Наиболее иодход щими растворител ми дл ириготовлени иокрывиых композиций вл ютс различные органические растворители, иапример беизол, толуол, ацетонбутанон-2; хлорированные углеводороды, например хлористый метнлеи, хлористый этилен, иростые эфиры , иаиример тетрагидрофуран или смеси этих растворителей.
При ириготовлеиии композиций наилучшие результаты иолучают в том случае, если вес фотоиолуироводника в композиции составл ет ие менее 1 вес. % общего ее веса. Если примен етс св зующее, то его количество составл и до 99% ее веса. Количество фотополупровод щего вещества в композиции колеблетс от 10 до 60 вес. %. Толщина фотополупровод щей композиции на подложке может также сильно колебатьс . Обычно берут от 0,0025 до 0,025 см до сущки.
В качестве подложек дл нанесени фотополупровод щих слоев можно примен ть самые различные электропровод щие материалы, например бумагу с относительной влажностью выше 20%, слоистые пластинки из алюмини и бумаги, металлическую фольгу, например цинковую или алюминиевую, металлические пластинки, например из алюмини , меди, цинка , латуни и оцинкованных материалов. Примен ютс также металлические напыленные слои, например из серебра, никел или алюмини и т. п. Можно примен ть также металлы, например никель, который осаждают в высоком вакууме и покрывают тонким слоем, чтобы слой сохранил прозрачность дл облегчени экспонировани скрытого изображени через подлолску. Наилучшую подложку получают нанесением на материал, например полиэтилентерефталат , сло , содержащего полупроводник , диспергированный в смоле. Подход щие провод щие слои описаны в патенте США № 3 245 833, другие подход щие полупроводники в патенте США № 3 120028. Слои дл нанесени получают также из натриевой соли карбоксиэфирного лактона малеинового ангидрида и винилацетатного полимера. В патентах США N° 3 077 801 и № 3 267 807 описаны такие провод щие слои.
Фотополупроводниковые слои могут быть использованы в любом электрофотографическом процессе, например ксерографическом. Полученный материал зар жают, например, коронным разр дом, затем экспонируют и про вл ют твердым порошком или в жидком про вителе . Методы про влени хорошо известны и описаны в патентной литературе (см. например , патент США № 2297691 и австралийский патент № 212315). В процессах электрофотографического размножени , например в ксерографии , изображение, образованное фотополупровод щим слоем, можно перенести на другую подложку. Перенос изображени хорощо известен.
Полученные электрофотографические материалы могут служить дл размножени с применением различных видов излучени : электромагнитного , дерного и т. д.
Пример 1. В лак дл нанесени ввод т следующие органические фотополупроводники , г:
органический фотопроводник0,5
полимерное св зующее1,5
сенсибилизатор0,02
метиленхлорид11,7
нанесен на основу из ацетилцеллюлозы. Материал выдерживают нри температуре 32°С, после чего зар жают положительным или отрицательным коронным разр дом до потенциала 500-600 в. После этого материал экспонируют за ступенчатым серым клином источника с вольфрамовой нитью, нагретого до 3000°К. Экспонирование вызывает снижение поверхностных потенциалов в каждой ступени серого клина от начального потенциала Vo до некоторого более низкого потенциала V, точна величина которого зависит от экспозиции (ji-er-ce/c). Данные этих измерений нанос т на график поверхностного потенциала V в виде функции 10 логарифма экспозиции дл каждой ступени. Максимальна чувствительность представл ет собой произведение обратной экспозиции (м-вТСек), требуемое дл снижени потепциала зар женной поверхности , составл ющего 500 или оОО в, до 100 в или 0. Снижение поверхностного нотенциала до 100 в или ниже вл етс необходимым дл про влени скрытого изображени на большой поверхностп. Фогочувствительность при iOO в представл ет оптимальную спосооность образовывать и про вл ть или как-нибудь иначе использовать скрытое изображение, ьолее высока фоточувствительность требует меньшего освещени . Если слой не содержит фотополупроводника, поверхностный потенцпал не падает до 100 в или ниже. Это верно и дл того случа , когда соответствующее соединение содержитс в композиции, но оно не эффективно Б качестве фотополупроводника. Фоточувствительности различных фотопровод щих композиций ириведепы в таблице. Дл этой цели примен ют следующие сенсибилизаторы:
A.2,6-Бис-(4-этилфенил) - 4- (4-амилкоксифенил )-тиапирилийперхлорат.
Б. 2,4-Бис- (4-этоксифепил) - 6 - (4-н-амилоксистирил )-пирилийфторборат.
B.2,4-Бис-(4-этилфенил) - 6- (4 - стирилстирпл )-пирилийперхлорат.
Г. 2,6-Бис - (4 - этоксифенил) - 4 - (4-н-амилоксифенил )-тпапирплийперхлорат.
Т а б л 11 ц а
В качестве св зующего использован поливпнилмета-бромбензоатБИНп л ацетат.
Скрытое электростатическое изображение в каждом отдельном случае про вл ют жидким электрофотографическим про вителем с образованием контрастных изображений.
Пример 2. Готов т фотополупровод п1,ий слой по примеру 1 за тем исключением, что з качестве св зующего прпмен ют пленкообразователь , выпускаемый под названием «лексан в виде поликарбокатной смолы. В качестве фотополупроводника, вход п его в соста,з композиции, примен ют соединение 25. Положительна фоточувств.чтельность при 100 в дл композиции с применением сенсибилизаторов Б и В соответственно равна 260 и 220. Пример 3. Готов т фотополупровод щп; слой по примеру 1, но фото;1олупровод11 1ковы1 1 слой имеет следующий состав, г:
органический фотополупроводнпк /г-дифениламипобензойна кислота (37)1
св зующее поливинил.мстабромбензоатвпиилацетатI сенсибилизатор Б 0.02 метиленхлорид 11,7 .мл Положительна чувствительпость при 100 о равна 250.
.Пример 4. Положительную чувствительность л-дифениламиноцпннамонитрила (соединение 33) определ ют так , как и в примере I, но дл следующего состава, г:
фотоиолу проводник0,15
«Витель 1010,5
метиленхлорид5 мл
сенсибилизатор В0,002
Чувствительность равна 110.
Пример 5. Готов т слоп по примеру 1 с применением соединений. Эти слои нанос т как в примере 1. В затемпенной комнате поверхность каждого фотополупровод щего сло зар жают коронным разр дом до потенциала около +600 в. Затем слой покрывают прозрачным листом со схемой темных и светлых нронускающих зон и экспонируют лампочкой накаливани мощностью около 75 м-вт в течение 12 сек. Полученное электростатическое изображение про вл ют обычным каскадным способом с применением частичек черного тонера на стекл нном носителе. В каждом отдельном случае наблюдаетс хорошее воспроизведение схемы.
Предмет изобретени
Электрофотографичоский материал, состо щнй из подложки и фотополупроводникового сло , включающего органический фото1юлупрог-одпик триарилампн, полимерное св зующее п сенсибилизатор пприлиевый краситель, отличающийс тем, что, с целью увеличени чувствительности материала, в нем применен триариламин общей формулы
Аг,
-N-Ar3-(-CR,:CR,-)-nX, Аг,
е Лг) и Аг2 - фенил или замещенный фенил;
Агз - фенил или нафтил; RI и R2 - водород, алкил, фенил или замещенный фенил; X - водород, карбокси-, ацилгалогено- , амидогруппа, апгидридиый Л1 эфирный остаток, циан- , оксигруппа, остаток семикарбазоиа , этинильный или метил иденоксимидиый радикал; п О, 1, 2 пли 3.
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
SU290582A1 true SU290582A1 (ru) |
Family
ID=
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8933089B2 (en) | 2006-03-30 | 2015-01-13 | Janssen R & D Ireland | HIV inhibiting 5-amido substituted pyrimidines |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8933089B2 (en) | 2006-03-30 | 2015-01-13 | Janssen R & D Ireland | HIV inhibiting 5-amido substituted pyrimidines |
US9573942B2 (en) | 2006-03-30 | 2017-02-21 | Janssen Sciences Ireland Uc | HIV inhibiting 5-amido substituted pyrimidines |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3658520A (en) | Photoconductive elements containing as photoconductors triarylamines substituted by active hydrogen-containing groups | |
US3567450A (en) | Photoconductive elements containing substituted triarylamine photoconductors | |
EP0056727B1 (en) | Infrared sensitive photoconductive element | |
US3526501A (en) | 4-diarylamino-substituted chalcone containing photoconductive compositions for use in electrophotography | |
US3820989A (en) | Tri-substituted methanes as organic photoconductors | |
CA1045879A (en) | Aggregate photoconductive compositions and elements with a styryl amino group containing photoconductor | |
CA1057552A (en) | Crystalline organic pigment sensitizers for photoconductive layers | |
JPS632052A (ja) | 光電写真要素及び光電写真法 | |
US4105447A (en) | Photoconductive insulating compositions including polyaryl hydrocarbon photoconductors | |
US3655378A (en) | Charge-transfer complexes of dibenzofuran-formaldehyde or dibenzothiophene-formaldehyde resins as photoconductive materials | |
US3554745A (en) | Electrophotographic composition and element | |
US3586500A (en) | Electrophotographic composition and element | |
US3652269A (en) | Photoconductive elements containing halogenated polyethylene binders | |
US3679408A (en) | Heterogeneous photoconductor composition formed by two-stage dilution technique | |
US4195990A (en) | Electrophotographic papers employing organic photoconductors | |
US3719486A (en) | Photoconductive elements containing organo-metallic photoconductors | |
JPS62208054A (ja) | 電子写真感光体 | |
SU290582A1 (ru) | Электрофотографический материал | |
US3585026A (en) | Treatment of background areas of developed electrophotographic elements with carboxy substituted triarylamine photoconductors with an alkaline medium to reduce opacity | |
US3527602A (en) | Organic photoconductors | |
US4341894A (en) | Sensitizers for photoconductive compositions | |
US3767393A (en) | Alkylaminoaromatic organic photoconductors | |
US3607257A (en) | Photoconductive compositions and elements | |
US4082550A (en) | Hexachlorocyclopentene chemical sensitizers for heterogeneous organic photoconductive compositions | |
US3485625A (en) | Photoconductive elements containing 2,3,4,5-tetraaryl pyrrole |