SU221485A1

SU221485A1 -

Info

Publication number: SU221485A1
Application number: SU1127110A
Authority: SU
Original assignee: К. В. Вендровский, Ю. С. Андреев , А. И. Вейцман

Description

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ОТНОСИТЕЛЬНЫХ ВЕЛИЧИН ЭКСПОЗИЦИЙ, ДЕЙСТВОВАВШИХ НА ФОТОМАТЕРИАЛMETHOD FOR DETERMINING THE RELATIVE AMOUNTS OF EXPOSITIONS ACTING ON THE PHOTOMATERIAL

Известные способы определени величин экспозиций, действозавших на фотоматериал, основаны на фотометрировании почернений негатива, требуют дополнительных графических .построений с использованием характеристической кривой фото-материала.The known methods for determining the exposure values acting on the photographic material are based on the photometry of the blackening of the negative, and require additional graphic design using the characteristic curve of the photo material.

Предлагаемый способ позвол ет автоматизировать процесс определени . Он заключаетс в том, что, с помощью двух фотоэлектрических устройств одновременно фотометрирует исследуемый негатиз и сенситометрический клин, изготовленный на той же пленке и обработанный в тех же услови х, что и негатив. Частота считывани клина должна быть не менее, чем в 10 раз выше максимальной частоты изменени сигнала на выходе фотометра, сканирующего негатив. Этого можно достичь, например, установив клин перед экраном кинескопа с тем, чтобы при движении луча по экрану фотоумножитель, расположенный за клином, фиксировал изменени его коэффициентов пролускани .The proposed method automates the process of determination. It consists in the fact that, with the help of two photoelectric devices, at the same time, it measures the investigated negatism and the sensitometric wedge, made on the same film and processed under the same conditions as the negative. The frequency of reading a wedge must be no less than 10 times higher than the maximum frequency of change of the signal at the output of a photometer that scans negative. This can be achieved, for example, by setting a wedge in front of the CRT screen so that when the beam moves across the screen, the photomultiplier located behind the wedge records changes in its flow coefficients.

Бели закон распределени экспозиции вдоль оси клипа во врем его экспонировани линеен , то при движении луча по экрану кинескопа в любой момент времени напр жение на пластинах отклон ющей системы пропорционально экспозиции, подействовавшей на клин Б точке, просматриваемой лучом кинескопа в данный момент времени.If the law of exposure distribution along the axis of the clip during exposure is linear, when the beam moves across the screen of the kinescope at any time, the voltage on the plates of the deflecting system is proportional to the exposure acting on the wedge B point viewed by the kinescope beam at that time.

Зависимость тока фотоэлемента от напр жени , управл ющего движением луча, будет аналогична зависимости коэффициента пропу екани пленки от экспозиции, наложенной наThe dependence of the photocell current on the voltage controlling the beam movement will be similar to the dependence of the film transmission coefficient on the exposure superimposed on

нее при съемке. Фотоэлектрические устройства согласуют таким образом, что сигналы .на их выходе равны в мо.мепты равенства коэффициентов пропускани негатива и клина.her when shooting. Photovoltaic devices are coordinated in such a way that the signals at their output are equal in my ways of equalizing the transmittance of the negative and the wedge.

Если в эти моменты снимать мгновенныеIf in these moments to shoot instant

величины напр жени , управл ющего лучо.м, считывающим клин, то при посто нной скорости фотометрировани негатива на выходе системы мы получим последовательность импульсов , огибающа которой соответствуетthe magnitude of the voltage that controls a beam, reading the wedge, then at a constant photometry rate of the negative at the output of the system, we obtain a sequence of pulses, the envelope of which corresponds to

распределению экспозиций на негативе во врем съемки.the distribution of exposures on the negative during the shooting.

На чертеже приведена схема устройства дл осуществлени предлагаемого способа.The drawing shows a diagram of an apparatus for carrying out the proposed method.

Свет от источника /, пройд исследуемыйThe light from the source / pass

негатив 2, попадает на фотоэлемент основного фотометра 3. На экране кинескопа 4 генератором 5 развертываетс вдоль оси клина светова точка. Закон изменени экспозиции вдоль клина 6 при его изготовлении линеен,negative 2, falls on the photocell of the main photometer 3. On the screen of the kinescope 4, the generator 5 lights up a light point along the wedge axis. The law of exposure change along the wedge 6 is linear in its manufacture,

а закон точки может быть произвольным . Свет, прошедший клин, воспринимаетс фотоэлементом вспомогательного фотометра 7. Сигналы с фотометров 3 н 7 подаютс на нуль-индикатор 8, который припульсы , в .момент прохождени управл ющих импульсов через параметрический модул тор 9 спимаютс мгновепные значени напр жений на отклон ющих лластииах кинескопа. Огибающа модулированного сигнала, пропорциональна действовавшим экспозици м, детектируетс амплитудным детектором W, откуда может быть подана на регистрирующий прибор .and the law of a point can be arbitrary. The light that has passed the wedge is sensed by the photocell of the auxiliary photometer 7. The signals from photometers 3 and 7 are fed to a null indicator 8, which pulses, at the time of control pulses through the parametric modulator 9, the instantaneous voltages on the deflecting lines of the kinescope are slept. The modulated signal envelope, proportional to the exposure, is detected by an amplitude detector W, from where it can be fed to a recording instrument.

Описанный способ позвол ет по распределению почернений фотоматериала получить распределение освещенностей на фотографируемом объекте и может быть использован в спектрографии, аэрофотографии, микробиологических и рентгенографических иоследоваии х .The described method allows for the distribution of blackening of photographic material to obtain a distribution of illumination on the photographed object and can be used in spectrography, aerial photography, microbiological and radiographic, and the sequence x.

Предмет изобретени Subject invention

Способ определени относительных величин экспозиций, действОВавщих на фотоматериал, путем поэлементного фотометрировани негатива , отличающийс тем, -что, с целью а втоматизации npotnecca, одновременно с фотометрирОванием изображени на негативе производ т сканирование изображени линейного фотОМетричеакого клина, полученного «а том же фотоматериале и обработанного в тех же услови х, с частотой, не менее чем на пор док превыщающей частоту развертки негатива , в момент равенства сигналов регистрируют мгновенные значени напр жений и -выдел ют огибающую полученных импульсов.The method of determining the relative magnitudes of the exposures acting on the photographic material by means of step-by-step photometry of the negative, characterized in that, in order to automate npotnecca, simultaneously with the photometry of the image on the negative, the image of the linear photometry wedge obtained in the same photographic material and processed in under the same conditions, with a frequency not less than an order of magnitude greater than the frequency of a negative sweep, at the moment of equality of the signals, instantaneous values of stresses and - highlight the envelope of the received pulses.