SU181792A1

SU181792A1 - METHOD OF MANUFACTURING A SELECTIVE REFLECTING MIRROR

Info

Publication number: SU181792A1
Application number: SU948764A
Authority: SU
Inventors: Н. Н. Протасов Т. Н. Крылова В. Ф. Еда В. К. Баранов

Description

Известен способ изготовлени селективно отражающего зеркала, заключающийс в последовательном нанесении па подложку интерферен 1ион11ых слоев сульфида цинка- ч фтористого магни или двуокиси титана и двуокиси кремни .A known method of manufacturing a selectively reflecting mirror consists in the sequential deposition of interfering intermittent layers of zinc sulfate magnesium fluoride or titanium dioxide and silicon dioxide onto the substrate.

Описываемый способ по сравнению с известным обеспечивает юглощение радиации, пропущенной иптерференциоппым покрытием. Это достигаетс тем, что на металлическую подложку предварительно нанос т поглощающий слой черного пикел или чериого хрома.The described method in comparison with the known provides absorption of radiation passed by the interference coating. This is achieved in that an absorbing layer of a black pickle or black chrome is preliminarily applied to the metal substrate.

На фиг. 1 изображено предлагаемое зеркало в разрезе; на фиг. 2 - спектральные характеристики отражени зеркала с покрыти ми , изготовленными физическими методами.FIG. 1 shows the proposed mirror in section; in fig. 2 shows the spectral reflection characteristics of a mirror with coatings fabricated by physical methods.

На металлическую подложку / с полированной поверхностью нанесен слой 2, поглощающий лучистую энергию, а на этот слой нанесено иптерференционпое покрытие 3, отражающее энергию в заданном спектральном диапазоне. Луч 4, содержащнй энергию в широком спектральном диапазоне, например солнечный луч, падает на покрытие 3, которое отражает энергию только в задаи ом диапазоне , например видимую часть спектра, а вс остальна энерги проходит сквозь покрытие и поглощаетс непрозрачным слоем 2.A layer 2 is applied to the metal substrate / with a polished surface, which absorbs radiant energy, and an imperfective coating 3 is applied to this layer, reflecting the energy in a given spectral range. Beam 4, containing energy in a wide spectral range, such as a sunbeam, hits a coating 3, which reflects energy only in a given range, such as the visible part of the spectrum, and all other energy passes through the coating and is absorbed by the opaque layer 2.

ванопластическои копией полмрованкои стекл нной поверхностп. Нанесение на подложку слоев осуществл ют обычпымн технологическими приемами на участках вакуумных оптических нокрытий с нспользоваппем существующего производственного оборудованн , снабженного фотометрическим контролем толи;ины слоев.Vanoplastic copy of glass surface. Layers are deposited on the substrate using conventional techniques in areas of vacuum optical coatings using the existing production equipment equipped with photometric control of the roofing sheet;

Дл изготовлени зеркал, отражающихTo make mirrors that reflect

энергию в интервале от 0,45 до 0,70 мкм можно испОиТьзовать подложки из никел , погло щающий слой из черного никел и интерференционные покрыти . Интерференционное покрытие, получаемоеenergy in the range of 0.45 to 0.70 µm, nickel substrates, an absorbing layer of black nickel and interference coatings can be used. Interference coating produced

физическим методом, состоит из чередующихс слоев прозрачных диэлектриков с высокими (,0) и низкими (п 1,6) показател ми преломлени , }1апример сульфида ципка (и 2,3) и фтористого магпи (,4).by the physical method, consists of alternating layers of transparent dielectrics with high (, 0) and low (n 1.6) refractive indices,} 1 as an example of tsipka sulphide (and 2.3) and fluorine magpium (, 4).

Оптическа толщипа Л( всех слоев, кроме первого и последнего равна Ло/4; оптическа толщина первого сло должна быть равна нли несколько меньше . а оптическа толщина носледнего сло равна или несколькоThe optical thickness L (of all layers except the first and last is Lo / 4; the optical thickness of the first layer must be somewhat less. The optical thickness of the last layer is equal to or several

больше /.0/8 (/.о - длина волны, соответствующа центру спектральной области максимального отражени ).greater than /.0/8 (/.o is the wavelength corresponding to the center of the spectral region of maximum reflection).