Томский Институт Автоматизированных Систем Управления И Радиоэлектроники
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Томский Институт Автоматизированных Систем Управления И РадиоэлектроникиfiledCriticalТомский Институт Автоматизированных Систем Управления И Радиоэлектроники
Priority to SU4816839/21ApriorityCriticalpatent/SU1737930A1/ru
Application grantedgrantedCritical
Publication of SU1737930A1publicationCriticalpatent/SU1737930A1/ru
Использование: устройство предназначено для нанесения качественных пленок в вакууме и может быть использовано в электронной промышленности. Сущность изобретения состоит в том, что газоразрядная камера испарителя выполнена в виде спирали, охватываемой корпусом из немагнитного материала с профилем сверхзвукового сопла, открытого в сторону подложки, при этом начальные участки спирали подключены через индуктивное сопротивление к генератору импульсов, а конец спирали заземлен. Конструкция испарителя позволяет получать потоки наносимого материала с равномерным распределением концентрации и скорости по поперечному сечению сопла при более простой конструкции испарителя и повышенном ресурсе работы. 1 ил.
SU4816839/21A1990-04-191990-04-19Устройство для нанесения тонких пленок в вакууме
SU1737930A1
(ru)
Plasmavorrichtung mit einem mit einer spannungsquelle verbundenen metallteil, das zwischen einer rf-plasma-anregungsquelle und dem plasma angeordnet ist
Verfahren und vorrichtung zur ein-oder mehrfachen beschichtung der oberflaechen, vorzugsweise der inneren oberflaeche eines offenen hohlkoerpers aus kunststoff.