SU1686392A1

SU1686392A1 - Interference coating

Info

Publication number: SU1686392A1
Application number: SU894754097A
Authority: SU
Inventors: Анатолий Анатольевич Журавлев; Ольга Юрьевна Зайцева; Виталий Валерьевич Моршаков; Людмила Сергеевна Райнина; Сергей Александрович Филин; Владислав Иванович Ямпольский
Original assignee: Научно-производственное объединение "Астрофизика"
Priority date: 1989-10-25
Filing date: 1989-10-25
Publication date: 1991-10-23

Abstract

Изобретение относитс к оптическому приборостроению и может быть использовано при изготовлении светоделительных и пропускающих интерференционных покрытий . Изобретение позвол ет повысить коррозионную стойкость покрытий, работающих во фторирующей среде. Увеличение коррозионной стойкости достигаетс за счет нанесени покрыти из чередующихс диэлектрических слоев с высоким Пв 1.8 - 2,3 и низким пн 1.40 - 1,47 показател ми преломлени и оптической толщиной каждого Я/4. где А - рабоча длина волны Первый и последний, счита от подложки, слои - с высоким показателем преломлени . Дополнительно нанос т слой диоксида кремни оптической то ищи ной А/4 и спой оксида алюмини оптической толщиной 2 m -M ,, л где m целые числа or 1 до 4 ЁThe invention relates to optical instrument making and can be used in the manufacture of beam splitting and transmitting interference coatings. The invention allows to increase the corrosion resistance of coatings operating in a fluorinating medium. An increase in corrosion resistance is achieved by applying a coating of alternating dielectric layers with high PV 1.8 - 2.3 and low mon 1.40 - 1.47 refractive indices and optical thickness of each I / 4. where A is the working wavelength The first and last, counting from the substrate, are layers with a high refractive index. In addition, a layer of silicon dioxide is applied to optical optical A / 4 and aluminum oxide oxide with an optical thickness of 2 m -M, l, where m are integers or 1 to 4

Description

Изобретение относитс к оптическому приборостроению и может быть использовано при изготовлении светоделительных и пропускающих интерференционных покрытий .The invention relates to optical instrument making and can be used in the manufacture of beam splitting and transmitting interference coatings.

Целью изобретени вл етс повышение коррозионной стойкости покрыти .The aim of the invention is to increase the corrosion resistance of the coating.

Увеличение коррозионной стойкости интерференционного покрыти достигаетс за счет дополнительного нанесени на него сло диоксида кремни оптической толщиной А/4 и сло оксида алюмини А120з оптической толщинойAn increase in the corrosion resistance of the interference coating is achieved due to the additional deposition of a layer of silicon dioxide with optical thickness A / 4 and a layer of aluminum oxide A120 with optical thickness

2m U 2m U

где Арабоча длина волны, а т - целые числа от 1 до 4.where araboba is the wavelength, and t are integers from 1 to 4.

Покрытие нанос т следующим образомThe coating is applied as follows.

На подложку из стекла марки К8. КУ-1.КВ и других нанос т интерференционное покрытие из чередующихс диэлектрических слоев с высоким пв 1,8 - 2,3 и низким п 1,40 - 1,47 показател ми преломлени и оптической толщиной каждого А/4. Оптический элемент помещают в вакуумную установку , например ВА-710. снабженную двум электронно-лучевыми испарител ми, системой кварцевого контрол толщины слоев, обеспечивающей точность нанесени слоев ± 2%, и подколпачным оборудованием , обеспечивающим однородность покрыти по диаметру подложки не менее 2%. Загружают в первый тигель электроннолучевого испарител материал с высоким показателем преломлени , например диоксид гафни , не менее 30 г и оксид алюмини On a substrate of glass brand K8. KU-1.KV and others apply an interference coating of alternating dielectric layers with high PV 1.8 - 2.3 and low P 1.40 - 1.47 refractive indices and optical thickness of each A / 4. The optical element is placed in a vacuum unit, for example BA-710. equipped with two electron-beam evaporators, a system of quartz control of the layer thickness, ensuring accuracy of the layers ± 2%, and subcollet equipment, ensuring uniformity of the coating over the substrate diameter of at least 2%. A material with a high refractive index is loaded into the first crucible of the electron-beam evaporator, for example, hafnium dioxide, not less than 30 g and alumina

оabout

0000

с со ю гоwith soyu

А120з не менее 10 г, во второй тигель - материал с низким показателем преломлени , например BaF2 и диоксид кремни в таких же количествах, Откачивают вакуумную камеру до давлени не хуже 2 10 торр (2,66 10 Па). Провод т нанесение сло диоксида гафни , например, со скоростью 55 нм/мин оптической толщиной 62 нм (дл А 248 нм). Затем производ т нанесение фторида бари аналогичной толщины.А120з is not less than 10 g; in the second crucible is a material with a low refractive index, for example BaF2 and silicon dioxide in the same quantities, the vacuum chamber is pumped out to a pressure of no worse than 2 10 Torr (2.66 10 Pa). A layer of hafnium dioxide is deposited, for example, at a speed of 55 nm / min with an optical thickness of 62 nm (for A 248 nm). Barium fluoride is then applied in a similar thickness.

Таким образом на подложку нанос т требуемое число слоев, например семь, заканчива процесс нанесением сло с высоким показателем преломлени - диоксида гафни . Далее на полученную интерференционную систему из семи слоев нанос т слой диоксида кремни аналогичной толщины , например, со скоростью 70 нм/мин. Затем производ т нанесение сло оксида алюмини оптической толщиной, например, 310 нм, что соответствует 5/4 А (т 2) дл А- 248 нм, со скоростью, например, 16 км/мин. Различие скоростей нанесени различных слоев обеспечивает создание различных структур слоев, что позвол ет проводить прерывание сквозного роста пор в последующих сло х. В качестве веществ сThus, the required number of layers, for example, seven, are applied to the substrate, ending the process by applying a layer of high refractive index — hafnium dioxide. Next, a layer of silicon of similar thickness is deposited on the obtained interference system of seven layers of silicon, for example, at a speed of 70 nm / min. An aluminum oxide layer is then deposited with an optical thickness of, for example, 310 nm, which corresponds to 5/4 A (tons 2) for A- 248 nm, with a speed of, for example, 16 km / min. The difference in the rates of deposition of the various layers provides for the creation of various layer structures, which makes it possible to interrupt the through growth of the pores in the subsequent layers. As substances with

высоким показателем преломлени могут использоватьс диоксид циркони , сульфид цинка и другие, а с низким показателем преломлени - фторид магни , диоксид крем- ни , содержащий 3% по весу А120з и др.zirconia, zinc sulphide and others can be used as a high refractive index, and magnesium fluoride, silica containing 3% by weight of Al2O3, etc. can be used with a low refractive index.

Таким образом, полученное интерференционное покрытие имеет коррозионную стойкость во фтооирующей среде на пор док выше, на 20 % выше лучевую стойкостьThus, the obtained interference coating has a corrosion resistance in the fluoro medium by an order of magnitude higher, 20% higher than the radiation resistance.

Claims

and 5 to 10 times more performance. The invention The interference coating of alternating dielectric layers with high PV 1.8 - 2.3 and low Mon - 1.40 - 1.47

the refractive indices and the optical thickness of each equal to H / 4, where A is the working wavelength applied to the substrate transparent at the working wavelengths, the first and last, counting from the substrate, layers with a high refractive index, characterized in that in order to increase the corrosion resistance of the coating, it additionally contains a layer of silicon dioxide coated with an optical thickness of A / 4 and a layer of aluminum oxide A120 with an optical thickness of

- A, where m - integers from 1 to 4.

four